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国際特許分類[C11D1/02]の内容

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【課題】メントール等の結晶性清涼剤の低温時における安定性に優れ、かつ高温時の保存においても、必要に応じて添加した高重合シリコーンなどの分離安定性に優れ、パール光沢が美麗な洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】次の成分(a)〜(d)を含有する洗浄剤組成物。
(a) アニオン性、非イオン性又は両性界面活性剤 2〜40質量%
(b) エタノール 0.1〜3質量%
(c) メントール等から選ばれる清涼剤
(d) エチレングリコールジ脂肪酸エステル等から選ばれるパール化剤 0.1〜10質量% (もっと読む)


a.約5重量%〜約50重量%のアニオン性洗浄性界面活性剤;
b.約4meq/gm未満のカチオン電荷密度を有する約0.025重量%〜約5重量%の第1カチオン性ポリマーであって、当該第1カチオン性ポリマーが等方性コアセルベートを形成するもの;
c.約4meq/gm以上のカチオン電荷密度を有する約0.025重量%〜約5重量%の第2カチオン性ポリマーであって、当該第2カチオン性ポリマーがリオトロピック液晶コアセルベートを形成するもの;及び
d.約20重量%〜約94重量%の水を含むパーソナルクレンジング組成物。 (もっと読む)


【課題】頭髪化粧料として使用した場合、乾燥後のごわつき感、すすぎ時のコンディショニング効果の弱さを改善し、滑らかで軽い指通りとさらさら感を付与し、さらには皮膚洗浄料に配合した場合に、皮膚に対するつっぱり感を解消し、べたつき、ぬるつき感を改善コンディショニング剤として優れた効果を示す材料の提供。
【解決手段】(A)グルコースを主鎖とし、キシロース、ガラクトースを側鎖に有する非イオン性水溶性高分子であるキシログルカン多糖に特定の第4級窒素含有基を導入したカチオン変性キシログルカン多糖、(B)アニオン性界面活性剤および(C)両性界面活性剤を含有する化粧料組成物。 (もっと読む)


【課題】デバイス基板の洗浄において、配線や絶縁膜、容量膜等のデバイス材料の腐食や溶解を防止しつつ、基板上のパーティクル等の汚染を効果的に除去することができるデバイス基板用の洗浄組成物、洗浄方法、洗浄装置の提供。
【解決手段】1分子中に少なくとも1つの水酸基を有し、HLBが12以上20以下の非イオン界面活性剤と、ベンゾトリアゾール又はその誘導体と、を含有し、25℃における水素電極基準の酸化還元電位が略−1200mV以上100mV以下または略400mV以上1200mV以下の塩基性水溶液を用いて基板を洗浄する。 (もっと読む)


【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面に存在する不純物を、銅配線の腐蝕や酸化、或いは、平坦化されたデバイスの表面性状の悪化を引き起こすことなく、有効に除去することができる洗浄剤を提供する。
【解決手段】半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、(A)ポリカルボン酸、(B)アニオン性界面活性剤、及び、(C)テトラゾール誘導体を含み、pHが1〜5であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】塩素系漂白剤又は塩素系漂白剤含有洗剤と混合した場合にも塩素ガスの発生を抑制でき、かつタッパ容器等の汚れに対する高い洗浄力を発揮する台所用液体洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】(A)成分、(B)成分、(C)成分、及び(D)成分を含有することを特徴とする台所用液体洗浄組成物。
(A)成分は陰イオン性界面活性剤で、その含有量が5〜35質量%であり、
(B)成分は、アミンオキシド型界面活性剤で、その含有量が1〜10質量%であり、
(C)成分は、マグネシウム化合物で、その含有量が1〜10質量%であり、
(D)成分はスルファミン酸で、その含有量が0.01〜1質量%であり、
かつ(C)成分/(D)成分の質量比が5〜20である。 (もっと読む)


【課題】乾燥後の毛髪がごわつかず、なめらかさとハリコシ感の両方を併せ持った従来にない仕上がり感触を付与すると共に、フレーキングを防止し、経時安定性に優れた、使用後にすすぎ流すタイプである毛髪化粧料を提供する。
【解決手段】((A)アニオン性界面活性剤、(B)両性界面活性剤、(C)ビニルピロリドン(VP)と酢酸ビニル(VA)との共重合体であって、モノマー比がVP(mol)/VA(mol)=60/40〜99/1の範囲である水溶性共重合体、及び(D)シリコーン化合物を含有し、使用後にすすぎ流すタイプである毛髪化粧料。 (もっと読む)


【課題】粉砕装置や配管内部への粉体の付着を低減できるようにした界面活性剤含有粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】アニオン界面活性剤とアルカリビルダーを含有し、水分の含有量が3〜8質量%である噴霧乾燥粒子(A)と、アニオン界面活性剤および/またはノニオン界面活性剤を含有する液体成分(B)とを、噴霧乾燥粒子(A)に対する液体成分(B)の質量比B/Aが0.1〜0.4となるように、撹拌羽根を有する混練機に供給し、撹拌動力250〜1000J/kgで混合および造粒して、粒子径1000μm以上の粒子の含有量が50質量%未満であり、かつ水分の含有量が6〜9質量%である粉粒体を得る工程を有することを特徴とする界面活性剤含有粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ヘアワックスなどの油性整髪剤の洗浄性に優れ、また毛髪に対して優れたコンディショニング効果を有し、泡質、使用性に優れたシャンプー組成物を提供すること。
【解決手段】下記(A)〜(C)成分を含有することを特徴とするシャンプー組成物であり、好ましくは(B)成分の配合量を1.0〜5.0質量%とし、(C)成分の配合量を0.1〜0.5質量%とする。
(A)イオン性界面活性剤
(B)ポリオキシエチレン脂肪酸グリセリン
(C)オレンジ油 (もっと読む)


【課題】化学処理により損傷を受けた毛髪に使用した場合でも、洗髪時には良好な泡立ちと滑りの良い泡質を有し、すすぎ時には滑らかな感触を有し、仕上がりの髪に滑らかさを与え、かつ保存安定性に優れた水性毛髪洗浄剤の提供。
【解決手段】成分(A)〜(C)を含有する水性毛髪洗浄剤。(A)アニオン界面活性剤 (B)カチオンポリマー (C)一般式(1)若しくは(2)で表される有機酸又はそれらの塩
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