【課題】基板表面を腐食することなく微粒子付着による汚染、有機物汚染及び金属汚染を同時に除去することができ、しかも水リンス性も良好で、短時間で基板表面を高清浄化することができる半導体デバイス用基板洗浄液を提供する。
【解決手段】
半導体デバイス製造における化学的機械的研磨工程の後に行われる、半導体デバイス用基板の洗浄工程に用いられる洗浄液であって、以下の成分（Ａ）〜（Ｄ）を含有してなる半導体デバイス用基板洗浄液。
（Ａ）有機酸
（Ｂ）スルホン酸型アニオン性界面活性剤
（Ｃ）ポリビニルピロリドン及びポリエチレンオキシド−ポリプロピレンオキシドブロック共重合体から選ばれる少なくとも１種の高分子凝集剤
（Ｄ）水 （もっと読む）

水との接触時に乳化可能な自動乳化洗浄組成物であって、典型的な一実施形態において該組成物は、該組成物の全質量を基準として、（ａ）約１％〜約９９質量％の複数の二塩基エステルの混合物；（ｂ）約１％〜約４０質量％の、有機カチオンで中和された有機アニオンから成る複数の界面活性剤の混合物を含み、該アニオン及びカチオンのいずれか又は双方が、界面活性を有し、その複合体は、該二塩基エステル溶媒混合物中に可溶である。複数の界面活性剤の混合物は、典型的には、カチオン性界面活性剤及びアニオン性界面活性剤であり、非イオン性界面活性剤と併用されるかどうかを問わない。複数の二塩基エステルは、アジピン酸、グルタル酸、及びコハク二塩基酸の混合物に由来し、特定の一実施形態では、混合物は、アジピン酸ジアルキル、メチルグルタル酸ジアルキル及びエチルコハク酸ジアルキルを含み、そして該アルキル基は、個別に、Ｃ_１〜Ｃ_１２炭化水素基を含む。 （もっと読む）

【課題】すすぎ時に毛髪がなめらかであり、なおかつ、毛髪にぬめり感が残らず、すすぎが早いという効果に優れた洗浄料組成物の提供。
【解決手段】グルコースを主鎖とし、キシロース、ガラクトースを側鎖に持つ非イオン性多糖類であるキシログルカン多糖に含まれる水酸基の一部が第４級窒素含有基で置換されたカチオン変性タマリンドガムと、Ｎ−アシル−Ｎ−メチルタウリン型アニオン界面活性剤とを含有することを特徴とする洗浄料組成物。さらにポリオキシエチレンアルキル硫酸塩型陰イオン界面活性剤を含有してもよい洗浄料組成物。 （もっと読む）

本開示は、超濃縮液体洗濯洗剤（例えば、3×＋ 超濃縮液体洗濯洗剤）に関する。例えば、本開示は、低温（例えば、約14℃〜約19℃）において優れた水分散性を有する超濃縮液体洗濯洗剤に関する。 （もっと読む）

【課題】使用時の泡立ちのよさ、すすぎ時のなめらかさ、すすぎ後のなめらかさおよびしなやかさに優れた頭髪用洗浄剤を提供する。
【解決手段】（ａ）質量平均分子量２万〜４００万の高重合ポリエチレングリコールを０．０１〜１質量％、（ｂ）ジメチルジアリルアンモニウムハライド、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、および（メタ）アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムハライドの中から選ばれる２種または３種以上のモノマーからなるカチオン性ポリマー（例えば、ポリクオタニウム−７、ポリクオタニウム−３９等）を０．０１〜２質量％、並びに（ｃ）アニオン性界面活性剤（例えば、長鎖アシルスルホン酸塩、アルキルエーテル硫酸エステル塩等）および／または両性界面活性剤を５〜５０質量％含有する、頭髪用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】低起泡性で泡切れ性にも優れ、かつ優れたパーティクルの除去性及びリンス性を実現する電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】式（１）で表されるアニオン性界面活性剤を含有する電子材料用洗浄剤で、０．２重量％水溶液の２０℃におけるロス・マイルス試験による起泡力が５０ｍｍ以下で、泡の安定度が５ｍｍ以下である電子材料用洗浄剤。


［Ｒ¹及びＲ²は炭素数１〜６のアルキル基で、Ｒ¹とＲ²の炭素数の合計は２〜７；Ｒ³は炭素数１〜３のアルキレン基；Ｒ⁴は炭素数２〜４のアルキレン基；Ｘ^-は−ＣＯＯ^-、−ＯＣＨ₂ＣＯＯ^-、−ＯＳＯ₃^-、−ＳＯ₃^-又は−ＯＰＯ₂（ＯＲ⁵）^-であって、Ｒ⁵は水素原子又はＲ¹（Ｃ＝Ｏ）_a−Ｎ（Ｒ²）−Ｒ³−（ＯＲ⁴）^b−で表される基；Ｍ⁺はカチオン；ａは０又は１；ｂは平均値であって０〜１０を表す。］ （もっと読む）

エピクロロヒドリンと、生成物１ｋｇあたり０．１ｇ未満の量の少なくとも１種のアルキルグリシジルエーテルとを含有する生成物。エポキシ樹脂、グリシジルエーテル、グリシジルエステル、グリシジルアミド、グリシジルイミド、食品および飲料用途において用いられることとなる生成物、カチオン化剤、および難燃剤、洗浄成分として用いられることとなる生成物、ならびにエピクロロヒドリンオリゴマーの生産における、エピクロロヒドリンを含有する生成物の使用。 （もっと読む）

本発明は、多量の特定界面活性剤混合物及び水を含む組成物、並びにその製造方法に関する。 （もっと読む）

水性の構造化界面活性剤組成物は、イセチオネート界面活性剤、タウレート界面活性剤およびサルコシネート界面活性剤およびそれらの混合物から選択されるアニオン性界面活性剤、および電解質を含み、そしてパーソナルケアの応用に有用である。 （もっと読む）

本発明は、希釈形態または未希釈形態で表面のクリーニングに使用できるか、あるいは表面クリーニングに適する種々のすぐ使用できる (または使用中の) 水性クリーニング組成物において活性クリーニング基剤として使用できる、水性界面活性剤系に関する。また、本発明は、本発明の界面活性剤系を含んでなるクリーニング系に関する。本発明によれば、界面活性剤系またはクリーニング系のクリーニング効率は、典型的には界面活性剤系において使用する界面活性剤の大きさを減少または最小にし、かつ界面活性剤系の水溶性を減少または最小にすることによって、増加される。 （もっと読む）