【課題】鉛を含む高融点はんだを実装した電子部品を洗浄する際、水すすぎにて鉛崩壊現象を抑制することができ、すすぎ剤を使用した場合と同等の洗浄性を有する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）：


（式中、Ｒ^１は炭素鎖８〜７２の直鎖若しくは分岐鎖の不飽和または飽和のアルキル基又はアルキレン基を、ｎは２〜４を示す。）で表わされ、かつ、非水溶性のポリカルボン酸系化合物、（Ｂ）リン酸エステル系界面活性剤、及び、（Ｃ）有機溶剤を含むはんだ付けフラックス用洗浄剤組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】殺菌性を有する、安価で量産可能な界面活性剤組成物を実現する。
【解決手段】界面活性剤組成物は、炭素数が１０〜２０の高級脂肪酸塩を除く陰イオン界面活性剤と、イオン性界面活性剤とは異なるアルカリ金属塩とを含むものであり、通常、水溶液状で用いられる。ここで用いられる陰イオン界面活性剤は、例えば、カルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸エステル塩およびリン酸エステル塩からなる群から選択された少なくとも一つである。また、ここで用いられるアルカリ金属塩は、例えば、塩化物塩、炭酸塩、炭酸水素塩、水酸化物塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、ギ酸塩および酢酸塩からなる群から選ばれた少なくとも一つである。 （もっと読む）

【課題】種々の用途において好適であり、洗浄力等の点で高い性能を発揮することができるポリアルキレングリコール親水化物、その製造方法及び用途を提供するものである。
【解決手段】下記一般式（１）で表されることを特徴とするポリアルキレングリコール親水化物。[化１]


式中、Ｘ^１及びＹ^１は、互いに異なって、水素原子、−ＳＯ_３Ｍ、−Ｓ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＳＯ_３Ｍ、−ＰＯ_３Ｍ_２又は−Ｓ−（ＣＨ_２）_ｔ−ＣＯＯＭを表す。Ｒ^１〜Ｒ^６は、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ^７は、水素原子、アルキル基、アリール基、多価アルコール基等を表す。ｐ、ｑ、ｒ及びｓは、価数を表す。 （もっと読む）

【課題】半導体基板や金属配線の腐食や酸化を起こすことなく、基板表面の微細粒子や金属不純物を除去し得、金属腐食防止剤-Cu皮膜の除去せずに基板表面のカーボン・ディフェクトをも同時に除去し得る処理方法。
【解決手段】ベンゾトリアゾール又はその誘導体含有スラリーで処理された半導体基板を、〔I〕カルボキシル基を少なくとも１個有する有機酸０．０５〜５０重量％、〔II〕ポリホスホン酸類、アリールホスホン酸類、及びこれらのアンモニウム塩又はアルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の錯化剤０．０１〜３０重量％、〔III〕炭素数１〜５の飽和脂肪族１価アルコール、炭素数３〜１０のアルコキシアルコール、炭素数２〜１６のグリコール、炭素数３〜２０のグリコールエーテル、炭素数３〜１０のケトン及び炭素数２〜４のニトリルからなる群より選ばれる少なくとも１種の有機溶媒０．０５〜５０重量％を含んでなる洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】泡立ちが良く、且つ、低刺激性で肌に優しい洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄剤組成物は、下記成分（Ａ）を１〜１５重量％、下記成分（Ｂ）を２５〜５０重量％含有する。
成分（Ａ）：アルキルリン酸又はその塩、Ｎ−アシルアミノ酸又はその塩、及びＮ−アシル−Ｎ−カルボキシアルキルグリシン又はその塩から選択される１以上のアニオン性界面活性剤
成分（Ｂ）：下記式（１）で表されるデカグリセリンモノアルキルエーテル
Ｒ¹Ｏ−（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ₂）ｎ−Ｈ （１）
（式中、Ｒ¹は炭素数１４〜１８のヒドロキシル基を有していてもよい直鎖状又は分岐鎖状脂肪族炭化水素基を示す。ｎはグリセリンの重合度を示し、１０である） （もっと読む）

【課題】溶剤としてグリセリンを用い、泡の持続性、低温での外観安定性及び高温での色調安定性に優れた、脂肪酸カリウム塩を含有する液体皮膚洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）〜（Ｆ）を含む液体皮膚洗浄剤組成物。
（Ａ）式（１）で表される脂肪酸カリウム塩 ５〜３０質量％
Ｒ¹ＣＯＯＫ （１）
（Ｒ¹は一価炭化水素基を示し、Ｒ¹の炭素数が１１以下の脂肪酸カリウム塩と、Ｒ¹の炭素数が１２以上の脂肪酸カリウム塩との質量比（Ｃ１１以下／Ｃ１２以上）が０．３〜１．５未満である。）
（Ｂ）グリセリン ４〜５０質量％
（Ｃ）式（２）で表されるアミン ０．２〜３質量％
Ｒ²−ＮＨ₂ （２）
（Ｄ）両性界面活性剤、アシル第３級アミンオキシド及びアシル第３級フォスホンオキシドから選ばれる１種以上 １〜１０質量％
（Ｅ）式（３）で表される化合物 ０．３〜３質量％
Ｒ³Ｏ（Ｒ⁴Ｏ）_nＨ （３）
（Ｆ）炭素数１〜３のアルコール ２〜７質量％ （もっと読む）

【課題】身体清拭、特に顔や乳幼児のお尻の清拭に用いた場合の肌荒れの問題がなく、且つ金属、プラスチックス、塗膜等の硬質表面の清拭後に拭き残りが生じにくく清拭性良好な湿潤ワイパーを提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で示される化合物（例えば旭化成ケミカルズ社製ペリセア（登録商標））を含有することを特徴とする湿潤ワイパー。
【化１】


（上記一般式（１）において、Ｒ¹は炭素数１〜２３の炭化水素基を示し、Ｒ²は水素又は炭素数１〜３の炭化水素基を示し、Ｙはカルボキシル基、スルホン酸基、硫酸エステル基、リン酸エステル基又はそれらの塩を示し、Ｚは−ＮＲ'−（Ｒ'は水素又は炭素数１〜１０の炭化水素基）、−Ｏ−、又は−Ｓ−を示し、ｊ、ｋは０、１、２のいずれかであり、かつｊ、ｋは同時に０ではなく、ｎは２〜２０の整数を示す。Ｘは分子量１００万以下の炭化水素鎖を示す。） （もっと読む）

【課題】無機顔料の分散剤、精密機械の洗浄剤、防錆剤及び抗菌剤等に添加することにより優れた性能を達成し得る界面活性剤を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で示されるアミノメチルホスホン酸型界面活性剤。
【化１】


但し、上記一般式（１）中、
Ｒ₁は炭素原子数２〜２０のアルキル基を示し、
Ｒ₂は炭素原子数１〜１２のアルキレン基を示し、及び
Ｘは、水素イオン、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン又はアンモニウムイオンを示す。 （もっと読む）

【課題】毛髪洗浄後のしっとり感とまとまり感を髪に付与できる毛髪洗浄剤用の組成物を提供することである。
【解決手段】成分（Ａ）一般式（１）に示す化合物と、成分（Ｂ）ジヒドロキシル化合物とを含有することを特徴とする組成物。
【化１】
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【課題】安定性に優れた非水組成物を提供することである。
【解決手段】下記一般式（１）で示される成分（ａ）多鎖多親水基型化合物と成分（ｂ）油性成分又は非水溶媒とを含有し、かつ実質的に水分を含有しないことを特徴とする非水組成物。
【化１】
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