説明

国際特許分類[C11D3/24]の内容

国際特許分類[C11D3/24]に分類される特許

21 - 30 / 45


【課題】殺菌即効性が高く、保存安定性にも優れる殺菌洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)炭素数4〜12のアルキル基又はアルケニル基を有するグリセリルエーテル、
(B)非イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤及び両性界面活性剤からなる群より選ばれる1種以上、並びに、
(C)トリクロロカルバニリド
を含有する殺菌洗浄剤組成物であって、(A)成分と(B)成分の重量比(A)/(B)が0.25〜4である殺菌洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンを使用して、不燃性化することを確保すると共に、アクリル樹脂に対する影響を小さくし、かつオゾン層を破壊する特定フロンではないドライクリーニング用溶剤組成物を提供する。
【解決手段】1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタン40〜60重量%と、ハイドロフルオロエーテル60〜40重量%とを混合しドライクリーニング溶剤組成物とする。
ハイドロフルオロエーテルは、1,1,2,2−テトラフルオロエチル−2,2,2−トリフルオロエチルエーテルであるとよい。 (もっと読む)


本開示は、半導体基板から残留物を除去するのに有用な非腐食性洗浄組成物を提供する。前記組成物は、水と、少なくとも1種のヒドラジノカルボン酸エステルと、少なくとも1種の水溶性カルボン酸と、任意で少なくとも1種のフッ化物含有化合物と、任意でカルボキシル基を含まない少なくとも1種の腐食抑制剤とを含有する。本開示はまた、非腐食性洗浄組成物を用いた、半導体基材から残留物を洗浄する方法を提供する。 (もっと読む)


(a)分子当たり少なくとも3個のイソシアネート基を含有する少なくとも1つのポリイソシアネート、(b)式F(CF2aCH2CH2OH(式中、aは4、6、もしくは8、またはそれらの混合であるが、ただし、aは最高で50%が8である)の少なくとも1つのフルオロケミカル試薬、および(c)少なくとも1個の反応性ツェレウィチノフ水素原子を有する単一の官能基を分子当たり含有する少なくとも1つの親水性の水溶媒和性試薬を接触させ、そしてその後(d)水と接触させることによって製造された少なくとも1つの尿素結合含有アルコキシポリオキシアルキレンフルオロカルバメートの自己乳化性または自己分散性の水性溶液または分散液を含み、前記ポリイソシアネートと前記試薬(b)および(c)の当量が、前記試薬が前記イソシアネート基の55%〜95%と反応し、そして水が残りのイソシアネート基の全てと反応するようなものである組成物であって、耐久性のある親水性およびしみ除去特性をそれで処理された基材に与える組成物が開示される。 (もっと読む)


エアゾール製品は、界面活性剤と、粒径が少なくとも100μmの粒子状物質とを含む発泡性濃縮組成物を含む。発泡性濃縮組成物と噴射剤は、容器と、オリフィス直径が少なくとも約660μmのオリフィスを含むパウダーバルブとを含むパッケージ内に収容されている。好ましくは、粒子状物質の最大粒径とオリフィスのオリフィス直径との比は約0.75未満である。
(もっと読む)


液体水相中の液体油相のエマルジョンであって、a)エマルジョンの総重量に基づいて50重量%より多くの、ヒドロフルオロエーテル、ペルフルオロエーテルまたはそれらの組合せ、b)界面活性剤、およびc)水を含むエマルジョンは、化粧用配合物または化粧用濃縮物に有用である。ヒドロフルオロエーテルは、式(I)Cnmo−O−Cxyzで示され、式中、nは1〜12の数字であり、mは0〜25の数字であり、oは0〜25の数字であり、m+o=2n+1であり、xは1〜12の数字であり、yは0〜25の数字であり、zは0〜25の数字であり、y+z=2x+1であり、但し、mおよびyは同時にゼロでなく、oおよびzは同時にゼロでないものとする。 (もっと読む)


本発明は、フッ素化オレフィンと、少なくとも1つのアルコール、ハロカーボン、ハイドロフルオロカーボン、またはフルオロエーテルおよびそれらの組み合わせとを含む組成物に関する。一実施形態では、これらの組成物は共沸または共沸様である。別の実施形態では、これらの組成物は、オイルおよび/または他の残渣を表面から除去するための脱脂剤またはフラックス除去剤としてクリーニング用途に有用である。 (もっと読む)


少なくとも1つのフッ素ベース構成要素、少なくとも1つのキレート化成分、界面活性剤成分、酸化成分又はこれらの組み合わせ、及びおよび少なくとも1つの溶媒または溶媒混合物を含む除去化学薬品溶液について本明細書で説明する。。少なくとも1つの低HO含有率フッ素ベース構成要素と少なくとも1つの溶媒又は溶媒混合物を含む除去化学薬品溶液およびその製造方法も本明細書で説明する。
(もっと読む)


残渣を表面から除去する方法であって、表面を、式E−またはZ−RCH=CHRを有する化合物(式中、RおよびRは独立に、C〜Cペルフルオロアルキル基、またはC〜Cヒドロフルオロアルキル基である)からなる群から選択される少なくとも1つの不飽和フッ素化炭化水素を含む組成物と接触させるステップと、表面を組成物から回収するステップとを含む方法が開示されている。フッ素系潤滑剤を表面に被着させる方法、および少なくとも水の一部分を濡れた基板の表面から除去する方法において、フッ素化炭化水素は溶媒組成物としても使用される。 (もっと読む)


本発明は、不飽和フッ素化炭化水素類を含む清浄組成物に関する。本発明はさらに、清浄、脱脂、脱フラックス、脱水、およびフッ素系潤滑剤を被着する方法における前記清浄組成物の使用に関する。本発明はさらに、新規不飽和フッ素化炭化水素類、および上記に列挙する方法における清浄組成物としてのその使用に関する。 (もっと読む)


21 - 30 / 45