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国際特許分類[C11D3/24]の内容

国際特許分類[C11D3/24]に分類される特許

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【課題】ポリマー性物質を基体から効率的に除去し、かつ銅、特に酸化銅の制御された除去を提供する除去剤、特にプラズマエッチング後ポリマー除去剤に対する継続的な必要性が存在する。
【解決手段】ポリマー性物質および酸化銅を、基体、例えば、電子デバイスから除去する上で有用な組成物およびプロセスが提供される。これらの組成物およびプロセスは、プラズマエッチングプロセスの後にポリマー性残滓を電子デバイスから除去するのに特に好適である。 (もっと読む)


マイクロエレクトロニクスデバイス基板上の小さい寸法からの粒子汚染物を洗浄するための洗浄組成物。洗浄組成物は、高密度CO(好ましくは超臨界CO(SCCO))、アルコール、フッ化物源、アニオン界面活性剤源、非イオン界面活性剤源および任意にヒドロキシル添加剤を含有する。洗浄組成物は、Si基板/SiO基板上に粒子状汚染物を有する基板の損傷のない且つ残留物のない洗浄を可能にする。
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非水性溶媒系布地処理方法(non-aqueous solved based fabric treatment proces)における布地ケア活性物質の均一な付着のための方法、及び最大の利益を達成するために、処理される布地物品上に布地ケア活性物質を均一に付着できる組成物。 (もっと読む)


【課題】水を含有する前処理剤を用いて被洗物の水溶性汚れを除去した後に、該処理部分に付与することにより被洗物のわじみを防止することができ、さらに油性汚れに対する洗浄性にも優れたドライクリーニング用前処理剤及び該前処理剤を用いるドライクリーニング前処理方法を提供する
【解決手段】一般式[1]で表されるグリコールエーテル化合物75〜100質量%及び溶解助剤0〜25質量%を含有するドライクリーニング用前処理剤、及び、水を含有する前処理剤を用いて被洗物を処理したのちに、該処理部分に、該ドライクリーニング用前処理剤を付与するドライクリーニング前処理方法。
1O(R2O)nH …[1]
(ただし、式中、R1は、炭素数4〜22のアルキル基又はアルケニル基であり、R2は、炭素数2〜3のアルキレン基であり、nは、1〜10である。) (もっと読む)


【課題】
ステンレス鋼溶接部及びその熱影響部の黒色及び褐色の酸化被膜やもらい錆、汚れ等を除去する市販の酸洗浄剤は硝酸とフッ化水素酸の混合物であり、刺激臭が強く毒性も強いので小規模工場では極めて悪い環境の中でスケール除去作業が行われている。この有毒な刺激臭を発生すること無く作業性と取扱いが安全なスケール除去剤を製造する事を目的とする。
【解決手段】
硝酸マグネシウム六水和物の水溶液に酸性フッ化アンモニウム、酸性フッ化カリウム若しくは酸性フッ化ナトリウムの内いずれか1種以上を混合した水溶液に界面活性剤を添加して目的とする無臭のステンレス鋼の洗浄剤を得る事が出来る。 (もっと読む)


本発明は、噴射剤なしの泡分配装置を用いて無加圧容器から安定な泡として分配され得る、低級アルコール含有量の高い(>40% v/vのC1−4)液体組成物に関する。本液体組成物は、アルコールC1−4(>40% v/v)、発泡性組成物を調製するために少なくとも0.001重量%のシリコーン・ベースの界面活性剤、所望の性能(発泡性組成物)を得るために添加される0〜10% w/wの追加の少量成分、及び残余の精製水を含む。本組成物は、アルコール性のゲル又は泡、エアゾール組成物又はバスルーム化粧品、美容化粧品、医薬品等に普通に添加される乳化剤−皮膚軟化剤及び保湿剤、第二の界面活性剤、泡安定剤、香料、抗菌剤、他のタイプの医薬成分、並びに同様の成分又は添加物又はその組み合わせを含むことができる。 (もっと読む)


【課題】手および皮膚の殺菌する際に、毒性、刺激または他の害なしに、できるだけ短時間でできるだけ広範囲の微生物を殺すことが可能な殺菌剤の提供。
【解決手段】トリクロサンと、界面活性剤と、水とを含むスキンウォッシュ組成物であって、該トリクロサン濃度が0.2〜3.0%であることと、該界面活性剤濃度が2.4〜10%であることと、ヘキシレングリコールを含む1.0〜30%の非水性溶媒と、0.0〜1.0%のキレート剤と、0.0〜3.0%の増粘剤と、0.0〜5.0%の緩衝剤と、を特徴とする、スキンウォッシュ組成物。 (もっと読む)


洗浄溶液キットが、第1の区画(12)内に配置された液体(13)を含み、該液体は、開放可能な第1の仕切によって第2の区画(14)内に配置された洗浄固体(15)から隔離されている。開放可能な第1の仕切(16)が開かれると、液体と洗浄固体とは互いに露出し洗浄溶液が作られる。洗浄キットは、洗浄溶液キットの第1と第2の区画と、雑巾(34)とを含む。雑巾は第3の区画(32)内に配置され、開放可能な第2の仕切および第1の仕切によって、洗浄固体および液体から隔離されている。ある領域を清掃するために雑巾が必要となったとき、開放可能な第1の仕切(16)を開いて洗浄溶液を作った後に、第2の仕切(36)を開いて、洗浄溶液で雑巾(34)をぬらす。こうして、雑巾は、前記領域の表面を清掃する準備が整う。
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【課題】 本発明の目的は、基板上に成膜されたフルオロカーボン膜に付着した微小汚染物粒子の除去性能およびドライエッチング後の剥離性に優れ、金属を腐食せず、かつ該フルオロカーボン膜の物性を変化させることのない洗浄剤組成物、および、該洗浄剤組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供することにある。
【解決手段】 誘電率が5〜30である有機溶剤を50重量%以上含有し、基板上に成膜されたフルオロカーボン膜に対して25°以下の接触角を有することを特徴とする、フルオロカーボン膜用洗浄剤組成物を提供する。 (もっと読む)


パーソナルケア組成物であって、(a)分子量が1,000〜200,000、電荷密度が0.7meq/g〜7meq/gの水溶性陽イオン変性デンプンポリマーを0.01重量%〜10重量%、(b)1つ以上の陰イオン性界面活性剤を含んでいるとともに、(i)エトキシル化レベルが1〜6、及び(ii)陰イオン化レベルが1〜6である陰イオン性界面活性剤系を5重量%〜50重量%、並びに(c)化粧品に許容可能な媒質を含むパーソナルケア組成物。前記パーソナルケア組成物は、更に1つ以上の油性コンディショニング剤を約0.01重量%〜約10重量%含んでいる。毛髪又は皮膚を処理する方法は、前記パーソナルケア組成物を毛髪又は皮膚に適用する工程、及び毛髪又は皮膚をすすぐ工程から構成されている。 (もっと読む)


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