【課題】光分解性劣化からボディケア製品及び家庭用製品を保護するための光安定化剤の提供。
【解決手段】式（５４）に代表されるベンゾトリアゾール光安定剤の使用により上記課題が達成される。
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【課題】真菌類および一般細菌に対して殺菌効果を有すると共に、高い洗浄力を有する殺菌洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）の化合物および非イオン界面活性剤を含有し、かつ、ｐＨが７〜１２である水溶液からなる殺菌洗浄剤組成物を提供する：


（Ｉ）［式中、Ｒ_１は炭素数１〜３の飽和直鎖アルキル基、Ｒ_２は炭素数８〜１２の飽和直鎖アルキル基、Ｘ⁻はハロゲンイオン、Ｙは炭素数８〜１２の飽和直鎖アルキレン基を表す］。 （もっと読む）

【課題】真菌類および一般細菌に対して殺菌効果を有すると共に、第四級アンモニウム塩および／またはビグアナイド系殺菌剤に抵抗性を有する微生物に対しても殺菌効果を有し、それ自体に対する薬剤抵抗性菌が発生し難く、かつ、高い洗浄力を有する殺菌洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】下式の化合物、非イオン界面活性剤およびトリエタノールアミンを含有する殺菌洗浄剤組成物を提供する：


［式中、Ｒ_１は炭素数１〜３の飽和直鎖アルキル基、Ｒ_２は炭素数８〜１２の飽和直鎖アルキル基、Ｘ⁻はハロゲンイオン、Ｙは炭素数８〜１２の飽和直鎖アルキレン基を表す］。 （もっと読む）

【課題】半導体基板や金属配線の腐食や酸化を起こすことなく、基板表面の微細粒子や金属不純物を除去し得、金属腐食防止剤-Cu皮膜の除去せずに基板表面のカーボン・ディフェクトをも同時に除去し得る処理方法。
【解決手段】ベンゾトリアゾール又はその誘導体含有スラリーで処理された半導体基板を、〔I〕カルボキシル基を少なくとも１個有する有機酸０．０５〜５０重量％、〔II〕ポリホスホン酸類、アリールホスホン酸類、及びこれらのアンモニウム塩又はアルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の錯化剤０．０１〜３０重量％、〔III〕炭素数１〜５の飽和脂肪族１価アルコール、炭素数３〜１０のアルコキシアルコール、炭素数２〜１６のグリコール、炭素数３〜２０のグリコールエーテル、炭素数３〜１０のケトン及び炭素数２〜４のニトリルからなる群より選ばれる少なくとも１種の有機溶媒０．０５〜５０重量％を含んでなる洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】本発明は、特に、IC、ウェーハ基板上のWLP回路、及びPCBから、ポリマー、エッチング後残渣、及び酸素アッシング後残渣を除去するための組成物と方法を提供することによって、上記限界及び欠点を克服する。
【解決手段】配線、ウェーハレベルパッケージング、及びプリント回路基板からフォトレジスト、ポリマー、エッチング後残渣、及び酸素アッシング後残渣を除去するための改良された組成物と方法を開示する。一方法は、有効量の有機アンモニウム化合物と、約２〜約２０質量％のオキソアンモニウム化合物と、任意的な有機溶媒と、水とを含有する混合物と前記基板を接触させる工程を含む。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素芳香族環状化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された、半導体用基板用の洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】広範な抗細菌及び真菌活性を有し、紫外線等による変色、着色を抑制した水溶性の抗菌性組成物を提供する。
【解決手段】酸化銀、銀塩、又は銀錯体（ただし、２Ｈ−ピラン−２−オン−４，６−ジカルボン酸及びその誘導体の銀塩及び銀錯体を含まない）のいずれか1種以上の化合物とクレアチニンとを配合してなる抗菌性組成物であって、前記化合物中の銀（Ａ）とクレアチニン（Ｂ）とのモル比（Ｂ）／（Ａ）が、２〜８０である。 （もっと読む）

【課題】湿潤および浸透効果に優れるため、配向膜基板上に存在する汚染物質に対する洗浄効果に優れた洗浄液組成物を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄液組成物は、アルカリ化合物を含まない洗浄液組成物であって、組成物の総重量に対して、Ｃ１〜Ｃ５の低級アルコール０．１重量％〜１５重量％、水溶性グリコールエーテル化合物０．１重量％〜１５重量％、有機リン酸０．０１重量％〜１０重量％、アゾール系化合物０．００１重量％〜１０重量％、および残量の水を含む。 （もっと読む）

【課題】 容易に製造することができ、洗浄効果が高く漂白剤特有のにおいを発生させることなく十分な漂白効果が得られる靴用洗浄剤を提供すること。
【解決手段】 次の成分（ａ）〜（ｃ）
（ａ）界面活性剤 ０．１〜３０質量％
（ｂ）ポリオキシエチレン−ポリエチレンテレ
フタレートのブロックポリマー ０．１〜２０質量％
（ｃ）ポルフィン誘導体または金属ポルフィリン誘導体
０．０００５〜０．１質量％
を含有してなる靴用洗浄剤組成物およびこれをスプレー容器に充填してなるスプレー型靴用洗浄剤。 （もっと読む）