【課題】シミ汚れ、特に便、尿といった排泄物に由来するシミ汚れ、及び泥汚れなどの一般的な汚れに対して優れた洗浄力を有し、かつ保存安定性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ポリオキシアルキレン基を有する特定の非イオン性界面活性剤と、（Ｂ）脂肪酸のカリウム塩又はアルカノールアミン塩と、（Ｃ）ポリカルボン酸系ポリマー及び／又はその塩と、（Ｄ）有機溶媒とを含有し、（Ａ）／（Ｂ）の重量比が３／１〜１／１であり、かつ（Ａ）／（Ｃ）の重量比が２０／１〜１．５／１である液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高濃度酸などによる過酷な酸洗条件下であっても、鉄鋼に対しては勿論、その他の金属に対しても極めて高い腐食抑制効果を示す酸洗浄用腐食抑制剤組成物、当該組成物を含む金属腐食抑制性酸洗浄液、および当該酸洗浄液を用いる金属の洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る金属腐食抑制剤組成物は、ロジンアミン、および、無機リン酸塩または有機ホスホン酸塩の少なくとも１種を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金属の混入や露光などの過酷な条件下においても過酸化水素を安定に配合でき、ガス発生レベルで過酸化水素分解を抑制すると共に、長期保存後も液の黄変化や分離など、品質劣化を起こさない、過酸化水素と高濃度の界面活性剤を含有する液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）過酸化水素、（Ｂ）特定の非イオン界面活性剤、（Ｃ）有機ポリホスホン酸又はその塩、（Ｄ）特定のヒドロキシフェニル化合物、（Ｅ）（Ｅ１）炭素数８〜２２の脂肪酸又はその塩及び（Ｅ２）カルボキシ基を有する構成単位を有する高分子重合体から選ばれる１種以上のカルボン酸系化合物、並びに水を含有し、ＪＩＳ Ｋ３３６２：２００８の８．３項に記載の２０℃におけるｐＨが３．０〜６．０である、液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】コロイダルシリカや酸化セリウム等の研磨材に由来する微粒子汚れを良好に除去できるハードディスク基板用洗浄剤を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：ホスホン酸系キレート剤と、（Ｂ）成分：アニオン界面活性剤と、（Ｃ）成分：ノニオン界面活性剤とを含有し、（Ｂ）成分／（Ｃ）成分で表される質量比が０．０５〜１５、（Ａ）成分／［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分＋（Ｃ）成分］で表される質量比が０．３５〜０．９５であり、純水で２質量％に希釈した希釈液の２５℃におけるｐＨが５．０以下であることよりなる。 （もっと読む）

【課題】電子部品などのアルミ使用部材やガラス使用部材等を切削・研磨した後に残る切削片、研磨材や研磨片などのパーティクル除去性に優れた水系洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ヒドロキシカルボン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％、（ｂ）配位子数が１０個以下である有機ホスホン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％、及び（ｃ）配位子数が１１個以上である有機ホスホン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％を含有するものとする。 （もっと読む）

【課題】半導体基板や金属配線の腐食や酸化を起こすことなく、基板表面の微細粒子や金属不純物を除去し得、金属腐食防止剤-Cu皮膜の除去せずに基板表面のカーボン・ディフェクトをも同時に除去し得る処理方法。
【解決手段】ベンゾトリアゾール又はその誘導体含有スラリーで処理された半導体基板を、〔I〕カルボキシル基を少なくとも１個有する有機酸０．０５〜５０重量％、〔II〕ポリホスホン酸類、アリールホスホン酸類、及びこれらのアンモニウム塩又はアルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の錯化剤０．０１〜３０重量％、〔III〕炭素数１〜５の飽和脂肪族１価アルコール、炭素数３〜１０のアルコキシアルコール、炭素数２〜１６のグリコール、炭素数３〜２０のグリコールエーテル、炭素数３〜１０のケトン及び炭素数２〜４のニトリルからなる群より選ばれる少なくとも１種の有機溶媒０．０５〜５０重量％を含んでなる洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】成形加工機の洗浄状態の目視による確認が容易である、成形加工機洗浄用の熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂と亜リン酸エステルを含む酸化防止剤を含有する成形加工機洗浄用の熱可塑性樹脂組成物であって、前記亜リン酸エステルが、6-[3-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロポキシ]-2,4,8,10-テトラ-t-ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキソフォスフェピンである成形加工機洗浄用の熱可塑性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】飲料等の液体製品の製造過程において、液体製品中から不溶性物質等を分離するための分離膜に蓄積された濾過物の洗浄性に優れ、分離膜を短時間で効率良く洗浄することができる分離膜用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の分離膜用洗浄剤組成物は、（Ａ）成分として、アルカリ剤、（Ｂ）成分として、次亜塩素酸塩、（Ｃ）成分として、重合リン酸塩、（Ｄ）成分として、ホスホン酸塩を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面を清浄するために使用される、洗浄剤組成物に関し、より具体的には、フラットパネル・ディスプレイの分野に適用される、高濃度の洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）０．１〜２０重量部の量のアルカリ金属ヒドロキシル化合物；（Ｂ）０．１〜３０重量部の量の、以下の式（Ｉ）で表される非イオン性界面活性剤：


式中、Ｒ₁は水素またはメチルであり；Ｒ₂は水素またはメチルであり；ｎは０〜１０の整数であり；および、ｍは４〜２０の整数である；（Ｃ）０．１〜１０重量部の量のアニオン性界面活性剤；（Ｄ）０．１〜２０重量部の量のキレート剤；（Ｅ）０．１〜２０重量部の量の添加剤；および（Ｆ）洗浄剤組成物１００重量部に対する、残部の量の水を含む、洗浄剤組成物が開示される。 （もっと読む）