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国際特許分類[C11D7/18]の内容

国際特許分類[C11D7/18]に分類される特許

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【課題】シリコーン樹脂系のコーキングや軟質ポリ塩化ビニル樹脂系のパッキンなどの樹脂部に生えたカビに対し優れた漂白力を示す液体漂白洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)次亜塩素酸アルカリ金属塩、(b)アルカリ金属水酸化物、及び(c)水酸基を有する特定の水溶性溶剤を、それぞれ特定範囲の濃度で含有する液体漂白洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】 塩素系洗浄剤と酸性洗浄剤を混合した際に発生する人体に有害な塩素ガスに対して、塩素ガスの発生を迅速に抑制するとともに、発生した塩素ガスを消滅させる、取扱性に優れた塩素ガス低減剤を提供する。
【解決手段】 塩素ガスの発生を抑制し、塩素ガスを消滅させる化合物がペルオキソ酸ないしはその塩からなる酸化還元剤であることを特徴とする塩素ガス低減剤。 (もっと読む)


【課題】主成分として炭酸水素ナトリウム(重曹)を前提とし、併用する成分を食品系素材、数種のアルカリ塩とし、界面活性剤を含まず、既成製品と同等以上に安全安心な、洗濯性の向上を図る。
【解決手段】重曹を30w%以上含み(少なくとも40〜50w%)、2種の有機酸塩(クエン酸とグルコン酸)を第2成分として重曹の1/2〜1/3含ませ、その他成分として本組成物を完成させるための条件として、食品系成分が80w%以上であって、5000ppmの水溶液においてpHが8.5〜11になるように、アルカリビルダー系分散剤(炭酸塩や珪酸塩など)を5〜60w%の範囲内で、適宜組成した事を特徴とし、安全安心な使いやすい粉状体に仕上げたもの。 (もっと読む)


【課題】スライムの洗浄速度が速く、スライムの洗浄時間を短縮することができ、スライムの除去効率を向上させることができるスライムの洗浄方法を提供する。
【解決手段】スライムの洗浄方法は、水タンク等の機器又は水配管等の内壁面に付着したスライムに洗浄剤としての過酸化物を作用させてスライムの洗浄を行うにあたり、該洗浄を減圧状態で行うものである。過酸化物としては、酸素と水に分解する過酸化水素が最も好ましい。その過酸化水素を過酸化水素水として用い、過酸化水素水中の過酸化水素の濃度は0.1〜10質量%であることが好ましい。また、減圧状態の圧力は0.001〜0.09MPaに設定され、スライムの洗浄は酸性条件下で行われる。 (もっと読む)


【課題】グリシン−N,N−二酢酸誘導体(GDA)を含有する粉末洗浄組成物において、長期保存後においても変色が生じず、保存安定性に優れる粉末洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表されるグリシン−N,N−二酢酸誘導体(A成分)と還元剤(B成分)とを共造粒した顆粒と、酸素系漂白剤(C成分)とを下記条件を満たすように含む粉末洗浄剤組成物。
A成分:1〜50質量%
B成分:0.01〜10質量%
C成分:1〜25質量% (もっと読む)


【課題】ポンプの羽根車を主軸から取り外す際に、カジリ傷の発生を抑制できるポンプの羽根車取り外し方法を提供することである。
【解決手段】ポンプを駆動するモータを取り外した後に、ポンプを収納したバレルからポンプを吊り上げ、バレルの外部でポンプの羽根車を主軸から取り外すにあたり、ポンプをバレルから所定位置だけ吊り上げた状態でバレル内の水を排水し、バレル内の排水後に水と弱アルカリ性の洗浄剤とを注入しポンプの羽根車の取付部を洗浄剤溶液で浸漬させ温水循環をし、バレル内の洗浄剤溶液を所定温度範囲で所定時間以上加温した後にポンプを吊り上げてバレルの外部の所定場所に横置きし、羽根車の取付部に洗浄剤溶液をジェット噴射しながら羽根車を取り外す。 (もっと読む)


【課題】漂白、除菌、消臭機能に優れ、かつ、被洗物の変退色防止が図られた液体漂白剤の提供。
【解決手段】過酸化水素と、水溶性亜鉛塩と、式(I)、(II)又は(III)で表される化合物とを含有する液体漂白剤。式中、Aは水素原子、アルキル基、スルホ基、アミノ基、水酸基又はCOOMを表す。Mは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、カチオン性アンモニウム基又はアルカノールアミン。m及びnは0〜2の整数。X〜Xは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、カチオン性アンモニウム基又はアルカノールアミン。Qは水素原子又はアルキル基。Rは水素原子又は水酸基。nは0又は1。Xは水素原子、アルカリ金属又はアルカリ土類金属。pは1又は2。Bはニトロ基、アミノ基、水酸基又はアルキル基を表す。
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【課題】飲料等の液体製品の製造過程において、液体製品中から不溶性物質等を分離するための分離膜に蓄積された濾過物の洗浄性に優れ、分離膜を短時間で効率良く洗浄することができる分離膜用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の分離膜用洗浄剤組成物は、(A)成分として、アルカリ剤、(B)成分として、次亜塩素酸塩、(C)成分として、重合リン酸塩、(D)成分として、ホスホン酸塩を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも発泡剤と発泡助剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記発泡剤が炭酸アルキレンと炭酸塩とを含有し、前記発泡助剤が酸性化合物を含有し、さらに酸化剤を組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】SPM洗浄剤に匹敵する洗浄力を発揮し、かつ、SPM洗浄剤による半導体基板の損傷を大幅に改善し、半導体基板表面に付着した不純物、特にイオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離除去しうる半導体基板用洗浄剤、これを利用した洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】硫酸と、過酸化水素と、炭酸アルキレンとを組み合わせて用いることを特徴とする半導体基板用洗浄剤、並びに、硫酸と過酸化水素と炭酸アルキレンとを組み合わせて、半導体基板に適用して洗浄する半導体基板の洗浄方法。 (もっと読む)


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