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国際特許分類[C11D7/60]の内容

国際特許分類[C11D7/60]に分類される特許

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【課題】ガラス基板、電極または配線上に存在する有無機汚染物またはパーティクルを除去することが可能な平板表示装置用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の平板表示装置用洗浄剤組成物は、組成物の総重量に対して、第4級アンモニウム塩化合物0.01〜10重量%、グリコールエーテル化合物0.01〜10重量%、リン酸エステル化合物0.01〜10重量%、グリセリン化合物0.01〜5重量%及び接触角低下剤0.01〜1重量%を含有し、残部が水からなる。 (もっと読む)


【課題】電子部品などのアルミ使用部材やガラス使用部材等を切削・研磨した後に残る切削片、研磨材や研磨片などのパーティクル除去性に優れた水系洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)ヒドロキシカルボン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも1種0.1〜25重量%、(b)配位子数が10個以下である有機ホスホン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも1種0.1〜25重量%、及び(c)配位子数が11個以上である有機ホスホン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも1種0.1〜25重量%を含有するものとする。 (もっと読む)


【課題】ケミカルタンカーのステンレス製カーゴタンクの酸洗作業において、安全面、効率面で問題のある手作業による酸洗方法に替えて、タンク洗浄装置を用いて無人化、自動化による酸洗方法、及びこの自動酸洗方法に好適な高い洗浄効果を得ることができる酸洗浄剤を提供する。
【解決手段】硝酸、フッ酸、硫酸、有機酸、多価アルコール、粘性助剤、錯化合物、消泡剤を含有した構成をもつ酸洗浄剤、及びこの酸洗剤を使用してタンク洗浄装置を用いて行うケミカルタンカーのステンレス製カーゴタンクの自動酸洗方法。 (もっと読む)


【課題】基板表面に砥粒の残留がなく凹み欠陥も存在しないハードディスク基板を製造するためのリンス剤、及び該リンス剤を使用したハードディスク基板の製造方法を得ること。
【解決手段】本発明のリンス剤は、砥粒としてコロイダルシリカを含有するリンス液であり、コロイダルシリカ砥粒の濃度をC、コロイダルシリカ砥粒の平均粒径をRとしたときに(C、Rはそれぞれ重量%、nmで表される)、コロイダルシリカ砥粒の濃度Cと平均粒径Rの関係が下記の式(1)を満足する構成を有している。
R≧2.2C+18.2・・・・・(1) (もっと読む)


【課題】金属素地の腐食を抑制するとともに、酸洗後の金属材表面の品質を低下させることなく、金属材表面に付着している酸化物皮膜およびスケールの除去速度を速い状態で維持する金属材用酸洗浄液、およびこれを用いる金属材の酸洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属材用酸洗浄液は、塩酸(HCl)水溶液に、(A)平均分子量が150〜1500の低分子ポリアミンと、(B)低分子カルボン酸(またはその塩)を含み、更に(C)アセチレンアルコール、(D)ヘキサメチレンテトラミン、(E)ポリエチレングリコールを含むことが出来る。 (もっと読む)


【課題】 主成分としてなる炭酸水素ナトリウムを用いる場合であっても、一般に市販されている洗剤と同等、或いはそれ以上の総合的な洗浄能力を得る。また、食品成分の利用率を高めることにより、環境負荷を大幅に低減(又は排除)するとともに、廉価に提供する。
【解決手段】 少なくとも主成分として炭酸水素ナトリウムを含む洗浄剤であって、100〔重量%〕の炭酸水素ナトリウムに対して、少なくとも、10〜50〔重量%〕のクエン酸塩と、10〜80〔重量%〕のグルコン酸塩と、一又は二以上の添加剤(ただし、界面活性剤は含まない。)を配合し、全体の80〔重量%〕以上を食品成分とする。 (もっと読む)


【課題】食器洗浄機による食器の洗浄において優れた洗浄力を示し、且つ食器の使用、洗浄の繰り返しによる色素汚れの付着遅延性にも優れた食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)珪酸塩及び炭酸塩からなる群より選ばれる1種以上の無機化合物、(B)有機酸アルカリ金属塩、(C)(C−1)ポリアクリル酸又はその塩及び(C−2)マレイン酸の共重合体又はその塩、並びに(D)塩素系漂白成分を含有し、(C−1)成分と(C−2)成分の質量比(C−1)/(C−2)が98/2〜55/45である、食器洗浄機用洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】塩素臭や腐食の問題もなく、安全性や取扱い性に優れ、適度な溶解性を保持した、台所流し台や風呂場の排水口等のように雑菌やカビ等の代謝物によりヌメリが発生する箇所に設けられる、ヌメリ防除剤を提供すること。
【解決手段】5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン等の非さらし粉系抗菌剤又は非さらし粉系抗菌剤とテトラキスフェノ−ル類等の多分子系ホスト化合物とからなる包接化合物と、硫酸カルシウム0.5水和物を含有する基材とを加圧成形して非さらし粉系ヌメリ防除剤を作製する。 (もっと読む)


ビルダー組成物は、キレート成分A)、ビルダー成分B)、ポリマー成分C)、及び場合によりアルカリ成分D)及び/又はリン含有成分E)を含む。キレート成分A)は、a1)メチルグリシン−N−N−二酢酸(MGDA)及び/又はそれらのアルカリ塩、並びに/又はa2)N,N−ビス(カルボキシメチル)−L−グルタメート(GLDA)及び/又はそれらのアルカリ塩、並びに/又はa3)エチレンジアミンテトラ酢酸(EDTA)及び/又はそれらのアルカリ塩を含む。ビルダー成分B)は、b1)金属ケイ酸塩、及び/又はb2)金属炭酸塩、及び/又はb3)金属クエン酸塩を含む。ポリマー成分C)は、c1)アクリル酸−マレイン酸コポリマー、及び/又はc2)ポリアクリル酸(PAA)を含んでよい。 (もっと読む)


洗剤組成物は、キレート成分、金属クエン酸塩、及び金属炭酸塩を含む。少なくとも1つの次の条件X=(2.29*a1)+(2.51*a2)+(2.26*b)+(2.75*c)+(−0.15*a1*b)+(0.26*a2*b)+(1.33*a2*c);及び/又はY=(4.00*a1)+(3.76*a2)+(3.70*b)+(3.10*c)+(−4.11*a1*b)+(−1.57*a2*b)+(0.97*a2*c)が、典型的に適切である。前記X及びY条件、0<X≦2.5、0<Y≦3.5において、少なくとも1つのa1及びa2が0よりも大きく、かつ1.0未満、0<b<1.0、0<c<1.0、及びa1+a2+b+c=1.0である。さらに、Xは、洗剤組成物の膜形成性能であり、かつYは、洗剤組成物のシミ性能である。a1は、キレート成分a1)の質量分画であり、a2は、キレート成分a2)の質量分画であり、bは金属クエン酸塩の質量分画であり、かつcは金属炭酸塩の質量分画である。質量分画は、洗剤組成物中に存在するキレート成分、金属クエン酸塩及び金属炭酸塩の合計量に基づく。 (もっと読む)


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