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国際特許分類[C22C12/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理 (53,456) | 合金 (38,126) | アンチモンまたはビスマスを基とする合金 (248)

国際特許分類[C22C12/00]に分類される特許

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【課題】本発明は、難溶性の素材、特にSnを主成分とするめっき鋼板を使用した場合の連続打点性により一層優れたスポット用電極を更に安価に提供することを目的とする。
【解決手段】Sn系めっき鋼板のスポット溶接用電極であって、厚さ1μm以上1000μm以下のNi又はNi合金からなる金属層を電極チップ先端に有しており、前記金属層の表面の面粗度Raが800nm以下であることを特徴とする、スポット溶接用電極である。 (もっと読む)


【課題】 熱応力緩和性に優れ、Niを含む電子部品や基板を接合する際にNi−Biの反応やNi拡散を抑制できるPbフリーはんだ合金を提供する。
【解決手段】 Biを主成分とするPbフリーはんだ合金であって、Snを1.6質量%以上10質量%以下含有し、Znは13.5質量%を超えて含有しておらず、Pは0.5質量%を超えて含有しておらず、150℃以上で液相が存在する。このPbフリーはんだ合金は、ZnおよびPのうちの少なくとも一方が、Znの場合は0.4質量%以上、Pの場合は0.001質量%以上含まれていてもよい。 (もっと読む)


【課題】 ビスマス(Bi)を含有するはんだ材料において、耐衝撃性を改善し接合信頼性を高める。
【解決手段】 はんだ材料は、スズ-ビスマス(Sn-Bi)合金と、銅(Cu)と、X−Yで表記される合金、を含み、前記Xは、Cu、Ni、Snからなる金属元素グループから選択される少なくとも1つの金属元素であり、前記Yは、Ag、Au、Mg、Rh、Zn、Sb、Co、Li、Alからなる金属元素グループから選択される少なくとも1つの金属元素である。 (もっと読む)


【課題】メモリー点と非メモリー部との界面付近に偏析濃縮し、書き換え回数及び消去率の低下の原因となる不純物、特に結晶化速度に影響を与える不純物元素を極力減少させると共に、目標組成に対するターゲットの組成のずれ及び成分偏析を減少させて、相変化型メモリーの書き換え特性、結晶化速度を向上させることができる相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及び相変化メモリー用膜を提供する。
【解決手段】3元系以上の元素からなり、アンチモン、テルル又はセレンから選んだ1成分以上を主成分とし、目標組成に対する組成のずれが±1.0at%以下であって、ガス成分を除く純度が99.995wt%以上であり、ガス成分である炭素、窒素、酸素、硫黄の総量が700ppm以下である相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及び該ターゲットを用いて形成された相変化メモリー用膜。 (もっと読む)


【課題】 電子部品と基板との接合に必要な強度を有し、かつ濡れ性および加工性に優れた高温用のPbフリーはんだ合金を提供する。
【解決手段】 高温用のPbフリーはんだ合金であって、Znを0.4質量%以上13.5質量%以下含有し、Cuを0.05質量%以上2.0質量%以下含有し、Pは0.500質量%を超えて含有しておらず、残部が不可避不純物を除いてBiからなる。このPbフリーはんだ合金は、さらにAlを0.03質量%以上0.7質量%以下含有してもよい。 (もっと読む)


【課題】 凝固時の残留応力が小さく、高い接合強度と高い信頼性とを有し、Niを含む電子部品や基板を接合する際にNi−Biの反応やNi拡散を抑制できる高温用Pbフリーはんだ合金を提供する。
【解決手段】 Biを主成分とするPbフリーはんだ合金であって、Znを21.0質量%以上30.0質量%以下含有し、Alは3.0質量%を超えて含有しておらず、Snは10.0質量%を超えて含有しておらず、Pは0.5質量%を超えて含有していない。このPbフリーはんだ合金は、Al、SnおよびPのうちの1種以上が、Alの場合は0.02質量%以上、Snの場合は0.3質量%以上、Pの場合は0.001質量%以上含まれていてもよい。 (もっと読む)


【課題】金属とポリマとからなり、Sn−Pb系の共晶はんだに比べて融点が低い鉛フリー型コンポジット組成物を提供する。
【解決手段】本発明の鉛フリー型コンポジット組成物1は、ポリノルマルブチルアクリレート2中にSn-In-Bi合金の微粒子3を均一に分散させたもので、Sn-In-Bi合金は57.50重量%のBi、25.20重量%のIn及び17.30重量%のSnを含む。 (もっと読む)


【課題】はんだ付けの際に太陽電池用半導体基板にクラックが生じ難く、しかも導電性に優れた太陽電池用電極線材を提供する。
【解決手段】本発明の太陽電池用電極線材は、体積抵抗率が2.3μΩ・cm以下で、かつ耐力が19.6MPa以上、85MPa以下 である芯材(2)と、前記芯材(2)の表面に積層形成された溶融はんだめっき層(3A),(3B)を備える。前記芯材(2)は、酸素が20ppm 以下の純銅の焼鈍材で形成することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 高い熱伝導性を有すると同時に高い接合信頼性を確保でき、パワー半導体素子のダイボンディング等に好適な、Bi系の高温鉛フリーはんだペーストを提供する。
【解決手段】 Bi粉及びBi合金粉から選ばれた少なくとも1種のBiはんだ粉と、Cu金属粉と、残部のフラックスとからなるBi系の高温鉛フリーはんだペーストであり、該Cu金属粉は純度97.5質量%以上、平均粒径1〜80μmのCu粉及びCu粉表面にAg、Au、Niの少なくとも1元素からなる膜厚1μm以下の皮膜を設けた被覆Cu粉の少なくとも1種からなり、Cu金属粉とBiはんだ粉の合計を100質量%としたとき、Cu金属粉の合計が8〜60質量%である。 (もっと読む)


【課題】フラックスに起因した溶融はんだ液滴の滑りを防止して、溶融はんだ液滴を所望の位置に供給する。
【解決手段】粉末はんだ及びフラックスを含むソルダペーストが塗布された接合対象物を加熱する工程と、溶融はんだ吐出装置から溶融はんだ液滴を吐出して、前記接合対象物を介して加熱された前記ソルダペーストに前記溶融はんだ液滴を衝突させる第2工程とを含む、はんだ接合方法が提供される。 (もっと読む)


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