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国際特許分類[C23C14/00]の内容

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【課題】基材に溶射皮膜を設けた真空装置用部品において、膜剥がれ、微小パーティクルの発生を低減した真空装置用部品を溶射皮膜溶射皮膜提供する。
【解決手段】基材1と前記基材の上に設けられた溶射皮膜3とを有する真空装置用部品において、前記溶射皮膜は、高融点金属粒子またはセラミック粒子の少なくとも一種と、アルミニウム粒子を用いて形成し、前記溶射皮膜が、金属溶融膜膜片5と、粒子6と、空隙7とを有し、空隙率が12%以上40%以下である。 (もっと読む)


【課題】巻取り式連続成膜装置において、高生産性を図るに際して長大化させた成膜源、成膜ロール、ガイドロール群、及び成膜マスクなどに対するメンテナンスや段取り作業を容易化すると共に、幅を拡大させた基材において幅方向で品質的に均一な被膜を形成させることができるようにする。
【解決手段】本発明の巻取り式連続成膜装置1は、真空チャンバ2と、真空チャンバ2内に配備された成膜ロール3,3と、成膜ロール3,3に亘って巻き掛けられる基材Wの表面に被膜を形成する成膜源4,4とを有し、真空チャンバ2は、前後壁6,7及び上下壁8,9からなるチャンバ本体10と、チャンバ本体10に対して開閉自在とされた左右の側壁11,12とを備え、チャンバ本体10の前後壁6,7及び/又は上下壁8,9には、成膜ロール3,3で挟まれたロール間領域への作業者の出入りを可能にする出入口部30が設けられている。 (もっと読む)


【課題】大型の基板を真空中で処理するための真空容器において、軽量化、材料コストの低減を図り、比較的容易に製造し、運搬時の取り扱いを容易にすることができる真空容器、及び、そのような真空容器を備えた真空処理装置を提供する。
【解決手段】金属板が折り曲げられて形成され互いに結合されて内部に閉空間を構成する2枚を一組とする板材と、一組の板材が形成する閉空間の内面に当接されて閉空間に配置される補強板と、一組の板材の結合部を結合する締結部材と、を備えることを特徴とする真空容器であり、それを備えた真空処理装置である。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の製造コストを低減させ、信頼性を向上させる。
【解決手段】半導体ウエハSWを支持するステージ53と、半導体ウエハSWに対向するターゲット54と、半導体ウエハSWとターゲット54との間に配置されたコリメータ61と、半導体ウエハSWとターゲット54との間の空間とコリメータ61とを囲むロアーシールド62及びダークスペースシールド63とを備える成膜装置を用い、スパッタリング法によって半導体ウエハSWにNi−Pt合金膜を形成する。この際、ロアーシールド62およびダークスペースシールド63の内面のうち、コリメータ61の下面61bより上に位置する領域にAl膜71を予め形成しておくが、コリメータ61の下面61bより下に位置する領域にはAl膜71を形成しない。ロアーシールド62及びダークスペースシールド63を取り外して洗浄する際に、アルカリ溶液によってAl膜71を溶解する。 (もっと読む)


【課題】ロール・ツー・ロール方式を用いた成膜装置において、基板上に付着したパーティクルを除去、回収することができる成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 ロール・ツー・ロール方式により長尺基板を搬送する成膜装置において、前記長尺基板の進行方向に位置する第一のローラと、前記長尺基板の進行方向に対して前記第一のローラの次に位置する第二のローラと、パーティクル回収容器と、を有し、前記パーティクル回収容器は、前記第一のローラの鉛直下方に設けたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】成膜に適さない巨大粒子の発生を抑制またはその除去をすることのできる装置を提供する。
【解決手段】粒子生成室1から伸びた搬送管2の第一分岐点に設けられた巨大粒子トラップ17と、第一分岐点から分岐された搬送管2の第二分岐点に設けられた、成膜室3内の基板8に向かう搬送管2の成膜用バルブ18A及び成膜室3内の余分粒子トラップ19に向かう搬送管2の捕集用バルブ18Bとを備え、巨大粒子トラップ17は、粒子生成室1から搬送管2の第一分岐点を越えて流れてきた巨大粒子を捕集し、成膜用バルブ18A及び捕集用バルブ18Bは、成膜時にそれぞれ開及び閉とされて第二分岐点に流れてきたナノ粒子を基板8に送り、成膜停止時にそれぞれ閉及び開とされて第二分岐点に流れてきたナノ粒子を余分粒子トラップ18に送る。 (もっと読む)


【課題】真空装置内に蒸発材料が堆積する量を抑制し、かつ、真空装置内のクリーン化のための時間を短縮する。
【解決手段】蒸着マスクの上に素子基板が配置され、蒸着マスクの下方に蒸発源41、42が配置された真空蒸着装置において、蒸発源41、42を覆って、シートシャッター60を配置し、シートシャッター60の開口部61を通して素子基板に真空蒸着する。シートシャッター60は素子基板に蒸着しないときは、蒸発源41、42の開口部を覆っている。したがって、蒸発源41、42からの蒸発物質は主にシートシャッター60に堆積する。シートシャッター60は、巻き取り機構62に巻き取ることが出来、シートシャッター60に蒸発材料が所定の量以上堆積したときに、シートシャッター60を交換する。これによって、短時間でシートシャッター60の交換が出来、かつ、真空装置内に蒸発材料が堆積する量を抑制できる。 (もっと読む)


【課題】結晶性の高いバッファ層を有する半導体発光素子を形成することができるスパッタ成膜装置、並びに半導体発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】スパッタ成膜装置40を用いて、スパッタ法により基板11上に薄膜を成膜する工程を含む、半導体発光素子の製造方法であって、前記スパッタ法で成膜される薄膜の材料からなるコーティング原料粒子又は前記材料の構成元素からなるコーティング原料粒子を未溶融状態で、ガスの流れを用いて前記スパッタ成膜装置40内の成長室41aの内壁に吹き付けて、前記成長室41aの内壁に前記コーティング原料粒子からなるコーティング膜100を形成する工程と、前記コーティング膜100を形成する工程の後に、前記基板11上に前記薄膜を成膜する工程、を有することを特徴とする半導体発光素子の製造方法を採用する。 (もっと読む)


【課題】成膜室内に保持された基板を三次元方向に移動させる機能を有すると共に、その機能に伴って設けられたベローズの内部に侵入する成膜関与物質の量を低減する成膜装置を提供する。
【解決手段】基板2の表面に対して真空状態下で成膜処理する成膜室10と、成膜室10に形成された開口部10aを貫通して基板2を保持する基板保持手段20と、基板保持手段20を介して基板2を三次元方向に移動させる基板駆動手段30と、基板保持手段20の少なくとも一部を収容し、開口部10aに一方の端部60aを連通させるように設けられたベローズ60と、基板保持手段20が摺動可能となるように開口部10aを塞ぐ遮蔽手段80と、遮蔽手段80を成膜室10の上部内壁面10dに押し付ける付勢手段90とを有する成膜装置である。 (もっと読む)


【課題】金属層の剥離が発生する可能性が低く、信頼性の高い真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の真空蒸着装置では、冷却機構を有し、ボート11からの金属蒸気の基材方向以外への飛散を防止する第1の防着板16と、第1の防着板16よりもボート11側に防着面を有し、ボート11からの金属蒸気の基材方向以外への飛散を防止するとともに脱着自在に配設された第2の防着板19とを備えた構成とした。この構成により、蒸着時に第2の防着板19はボート11からの輻射熱にて十分に熱を帯びた状態となっているため、金属蒸気は第2の防着板19の表面上では固化しにくく、第2の防着板19に蒸着金属が付着することはほとんどないものとなる。この結果、金属層の剥離の可能性が低減され、本発明の真空蒸着装置は信頼性の高いものとなっている。 (もっと読む)


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