本発明は、少なくとも１つの基板（３）、特にガラス基板をコーティングするために用いられる少なくとも１つのプロセスチャンバー（７）をクリーニングする方法および装置に関する。この発明によれば、少なくとも１つのプロセスチャンバー（７）は、コーティングプロセスの前に、調整パージガス（１５）によって洗い流される。 （もっと読む）

本発明は、表面コーティングされたシール材に関し、ゴム基材の持つ強度、硬度、シール性を保ちつつ、耐薬品性、耐プラズマ性、非粘着性を高めたシール材を提供する。ショアＤ硬度が７５以下かつショアＡ硬度が４０〜１００である軟質材料からなる基材の表面全体または一部に、金属、金属酸化物、金属チッ化物、金属炭化物およびその複合物からなる群より選ばれる１種以上の金属または金属化合物からなるコーティング膜を有するシール材である。 （もっと読む）

本発明は、ＰＶＤ（物理的蒸着）構成要素の表面に沿って粒子トラップを形成する方法を包含し、その表面に粒子トラップを有するＰＶＤ構成要素を含む。本発明は、ビードブラストのための高度に可溶性の媒体の使用を含み、且つ／又はビードブラスト媒体として金属物質の使用を含み得る。本発明は、粒子トラップの所望箇所である裏板の領域に沿って挿入物を形成することも含み得る。この挿入物の組成は裏板よりも適切な粒子捕捉特性を有する。

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本発明においては、半導体ウェハ処理装置（１０）のチャンバ（１１）内にチャンバシールドを設置することにより、装置内におけるパーティクルの剥離を低減する。シールドアセンブリは、複数のシールド（４１，４２，４３，４４）を備えている。これらシールドは、互いに接触しないような位置関係でもって配置され、さらには、熱的な膨張や収縮を起こしたときでも、アークの発生を回避し得るのに十分なギャップ（５２，５６）の分だけ互いに離間した位置関係でもって配置される。シールド上のおよびチャンバ壁上の位置合わせ特徴物が、シールドどうしを互いに同心的に位置合わせし、ギャップを維持する。
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本発明においては、処理システム内において使用し得るよう、様々な構成を有した適応可能な処理部材（５０，１５０〜１５６）を提供する。処理部材は、主要部材（１８２，２００，２０２，２３０）と、少なくとも１つの着脱可能部材（１８４，２０８，２３２）と、を備えている。着脱可能部材は、ある構成においては、取り付けたままで保持することができ、他の構成においては、取り外すことができる。着脱可能部材は、右側に配置されたあるいは左側に配置されたパンチアウト（２１０，２１４，２１６）を有することができる。これにより、処理チャンバのガス供給ラインが右側に配置されていてもまた左側に配置されていても、適応することができる。加えて、着脱可能部材を保持したままとしたりまたは取り外したりすることにより、様々なサイズの処理チャンバに対して適応することができる。このような処理部材の製造方法も、また、提供される。
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【課題】 処理容器内に晒される軸受をなくして、パーティクルの発生を完全に防止することができる枚葉式の処理装置を提供する。
【解決手段】 処理容器３２内にて載置台３８上に載置された被処理体Ｗに対して所定の処理を施す枚葉式の処理装置において、前記載置台を浮上させる浮上用磁石機構６０と、前記載置台の周縁部に設けた羽根部材４４と、前記羽根部材に対して不活性ガスを噴射させて前記載置台に回転力を付与する回転用ガス噴射手段６４とを備えるように構成する。これにより、処理容器内に晒される軸受をなくして、パーティクルの発生を完全に防止する。 （もっと読む）

【課題】 メインバルブ等のメインテナンスを容易に行い得る真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】 真空槽を主ポンプで排気するために設けたメインバルブ５の一部に、取外し可能な背面扉１２を設ける。 （もっと読む）

【目的】 高真空状態のままクリーニングを行なえ、膜の密着性のよい電磁波シールド膜を簡単に形成する方法と装置を提供する
【構成】 クリーニングした基体３に該蒸発源４の電磁波シールド用材料を成膜する方法に於いて、クリーニング手段５をRF電源８に接続されたRFイオン化電極９で構成してアノードの該基体と蒸発源の間に配置し、該真空室内に不活性ガス等を導入して圧力調整したのちRFイオン化電極に通電してグロー放電により該基体をクリーニングし、続いてガス導入口を閉じてその圧力状態で該蒸発源を作動させ、電磁波シールド用材料の蒸気を該グロー放電内で励起・イオン化して基体に堆積させる
【効果】 真空室内の圧力を変更せずにクリーニングしながら密着性の良い電磁波シールド膜の成膜を簡単な操作で短時間に行なえ、電源および複雑な基体の絶縁機構が不要で構成も簡単になる （もっと読む）