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国際特許分類[C23C14/04]の内容

国際特許分類[C23C14/04]に分類される特許

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【課題】高精細な複数の開口パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】平板状の磁性金属材料に、薄膜パターンの形成領域に対応して該薄膜パターンよりも形状が大きい貫通する複数の開口部5を設けてメタルマスク1を形成し、メタルマスク1の一面に可視光を透過する樹脂製のフィルム2を面接合し、透明基板8の一面に薄膜パターンと同形状の複数の基準パターン9を薄膜パターンと同じ配列ピッチで並べて形成し、該基準パターン9を下側にしてステージ上に載置された基準基板3の基準パターン9がメタルマスク1の開口部5内に位置するようにメタルマスク1を基準基板3に対して位置合わせした後、フィルム2を基準基板3の他面に密着させ、メタルマスク1の開口部5内の基準パターン9に対応したフィルム2の部分にレーザ光Lを照射して、薄膜パターンと同形状の貫通する開口パターン4を形成する。 (もっと読む)


【課題】高い解像度を有する有機EL発光装置が得られ、かつ生産性が高い有機EL発光装置の製造装置を提供する。
【解決手段】複数のマスク部材10と、複数のマスク部材10を固定するフレーム20と、からなるマスクユニット2と、マスク部材10と基板40との相対位置を決めるアライメント機構と、蒸着源30と、を備え、マスク部材10が、複数組の開孔パターン12が並列して設けられてなる開孔部11と、マスク部材10上であってマスク部材10とフレーム20とが接合している領域に設けられるアライメントマーク14,15と、を有し、マスク部材10と、マスク部材10と同一の形状の基板40と、が、前記アライメント機構を用いて、マスク部材10に設けられるアライメントマーク14、15と基板40に設けられるアライメントマーク42、43とを合わせることによってアライメントが行われる。 (もっと読む)


【課題】高精細な複数種の薄膜パターンの形成を効率よく行い得るようにする。
【解決手段】フィルム2に有機EL層17R,17G,17Bと同形状の開口パターン4を設けたマスク1をフィルム2がTFT基板19側となるようにして該TFT基板19上に位置決めし載置し、TFT基板19のR対応アノード電極21R上にマスク1の開口パターン4を介して成膜し、R有機EL層17Rを形成した後、マスク1を複数種の有機EL層17R〜17Bの配列ピッチと同寸法だけアノード電極21R,21G,21Bの並び方向に移動し、TFT基板19のG対応アノード電極21G上にマスク1の開口パターン4を介して成膜し、G有機EL層17Gを形成する。 (もっと読む)


【課題】メタルマスクを直接冷却することが可能なメタルマスク冷却機構と、そして、当該機構を備えた有機EL成膜装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着チャンバ中で、基板とメタルマスク83とのアライメントを行って蒸着材料を当該基板に蒸着する有機EL成膜装置におけるメタルマスクの冷却機構は、メタルマスクを間に挟み込んで、外形「ロ」の字状に形成され、一方の表面上に前記マスクを取り付ける固定フレーム82の外枠に沿って設けられる、複数の固定板84を備えており、固定板は、各々、熱伝導性に優れた部材により細長い板状に形成されると共に、その内部には冷媒を流すための流体流路を形成すると共に、更に、固定板の各々には、前記固定板の流路に冷媒を供給するための配管と排出するための配管とを設けた。 (もっと読む)


【課題】高精細な複数の開口パターンの形成を容易にすると共に、ハンドリング中も開口パターンの形状及び位置が維持できるようにする。
【解決手段】平板状の磁性金属材料に薄膜パターンよりも形状が大きい貫通する複数の開口部6を設けて保持部材1を形成し、保持部材1の一面に可視光を透過する樹脂製フィルム2を密着して保持し、第1の磁気チャック17上に載置された基板3に対して保持部材1を位置合わせした後、磁力により保持部材1を吸着してフィルム2を基板3面に密着させ、保持部材1の開口部6内のフィルム2の部分にレーザ光を照射して、薄膜パターンと同形状の貫通する開口パターン4を形成し、第2の磁気チャック18の磁力により保持部材1を吸着して該保持部材1及びフィルム2を一体的に基板3上から剥離する。 (もっと読む)


【課題】透過照明方式により性能に優れ、かつ、マスクの有効活用が可能となるマスクアラインメント光学システムを提供する。
【解決手段】蒸着材料を基板上に蒸着する真空蒸着チャンバ1中において、基板6とメタルマスク102とのアライメントを行うマスクアラインメント光学システムでは、メタルマスクの周囲に形成されて四隅にL字状の導光路が形成された固定フレーム101と、基板を表面に搭載すると共に、その四隅にL字状の導光路が形成されたステージ201を備えており、固定フレームの一部に形成された導光路103、及び、ステージの一部に形成された導光路内に導かれた光によるアラインメントマークの透過像によって、メタルマスクとのアライメントを行うマスクアライメント光学システム。 (もっと読む)


【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板2上に一定形状の薄膜パターン4を成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、箔状の磁性部材5に薄膜パターン形成領域9に対応して該薄膜パターン4と同形状の貫通する開口パターン6を形成し、磁性部材5が磁力により第1の磁気チャック3の平坦な吸着面3aに吸着されて保持されたマスク1の開口パターン6を、第2の磁気チャック8上に載置された基板2の薄膜パターン形成領域9に位置合わせするステップと、第2の磁気チャック8の磁力により磁性部材5を吸着してマスク1を第1の磁気チャック3から基板2上に移すステップと、マスク1の開口パターン6を介して基板2上の薄膜パターン形成領域9に成膜し、薄膜パターン4を形成するステップと、を行うものである。 (もっと読む)


【課題】基板とマスクとの隙間を高精度に制御することのできる有機ELデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】真空処理室内に設けられたシャドウマスクと、基板を載置する基板ホルダーと、基板とシャドウマスクとの間を、接近させ又は離間させる基板密着手段と、基板ホルダーの四隅に設けられた距離計測機構とを備え、距離計測機構は、基板ホルダーを貫通するように設けられた距離計測用空間と、基板ホルダーの表面上に設けられた透明ガラス板と、距離計測用空間に配置された距離計測部とを備え、距離計測部は、光を発射し反射光を受光して距離を計測する距離計と、距離計を真空処理室内の雰囲気から隔離する距離計筐体と、距離計筐体の一部に設けられた透明ガラス窓とを備え、距離計が、透明ガラス窓を介して透明ガラス板とシャドウマスクとの間の距離を計測するよう、有機ELデバイス製造装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】成膜用ワークの形状、構造に拘わらず、必要な面のみを安価に成膜できるマスキング成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜用ワーク(W)を固定側金型(10)と可動側金型(15)とにより成形するとき、成膜する面は、固定側金型(10)と可動側金型(15)とで構成されるキャビテイ(C)により直接成形し、マスキングする面はキャビテイ(C)内に挿入したマスキング治具(1)により成形する。成膜不要な面にはマスキング治具(1)が付着して覆われているので、そのまま成膜室に搬入して成膜を開始する。 (もっと読む)


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