国際特許分類[C23C14/22]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般 (47,648) | 金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般 (43,865) | 被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆 (14,491) | 被覆の方法に特徴のあるもの (7,808)
国際特許分類[C23C14/22]の下位に属する分類
真空蒸着 (2,572)
スパッタリング (3,573)
イオン注入法 (264)
基板保持具 (428)
被覆工程の観察のための手段 (34)
被覆工程の制御または調整 (300)
連続被覆のために特に適合した装置;真空を維持するための装置,例.真空ロック (509)
国際特許分類[C23C14/22]に分類される特許
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結晶性酸化物半導体膜の作製方法
【課題】優れた結晶性を有する酸化物半導体膜を作製する。
【解決手段】酸化物半導体の膜を形成するに際し、基板を第1の温度以上第2の温度未満に加熱しつつ、基板の、典型的な長さが1nm乃至1μmの部分だけ、第2の温度以上の温度に加熱する。ここで、第1の温度とは、何らかの刺激があれば結晶化する温度であり、第2の温度とは、刺激がなくとも自発的に結晶化する温度である。また、典型的な長さとは、その部分の面積を円周率で除したものの平方根である。
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成膜装置および成膜方法
【課題】誘電体膜を成膜する際に、基板の被成膜面にイオンビームを照射して、被成膜面に形成された膜の反応性を促進させることで、光透過率が高く、かつ、表面平滑性の高い成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜手段、反応手段30及びイオンガン11を稼働させながら、基板4を成膜手段と反応手段とイオンガンに対向するように移動させ、成膜手段による成膜、反応手段による反応及びイオンガンによるイオンビーム照射を繰り返し行い、薄膜と反応ガスとの反応の促進及び薄膜の一部エッチングにより積層した薄膜を形成する。
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量子ドット形成方法及びこれを実施するためのプログラムを記憶する記憶媒体並びに基板処理装置
【課題】基板表面の構造に拘わらず,所望の位置に高精度で量子ドットを形成する。
【解決手段】定在波を有するレーザ光のレーザ光源Lを基板Wの側方に配置し,そのレーザ光を基板Wの側方からその基板の表面に沿うように照射させることによって,基板表面をそのレーザ光の定在波の半波長間隔で励起させる。その基板に対してその表面を構成する下地膜と格子定数の異なる膜を成長させることによって,上記レーザ光の照射により励起した部位Exに量子ドットが形成される。
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真空成膜装置、樹脂フィルムの真空成膜方法、および樹脂フィルム
【課題】例えばより抵抗が低く透過率の高いITO薄膜のような透明導電膜を、樹脂フィルムの軟化点以下の温度で比較的低コストに均一かつ高速度で成膜する。
【解決手段】真空容器1内の上部に、成膜ローラ10に巻回された樹脂フィルムFがその被成膜面Sを下向きにして配設するとともに、真空容器1内の下部には、蒸着材料を電子ビームガン4によって蒸発させる蒸発源5と、この蒸発源5において蒸発させられた蒸着材料の材料蒸気Aに向けてプラズマBを照射するプラズマ放出源7とを、被成膜面Sに対向するように配置し、このうちプラズマ放出源7を、成膜ローラ10の軸線Oを含んで鉛直方向に延びる仮想平面Rから間隔をあけて配設する。
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接合複合体およびその製造方法
【課題】従来技術の欠点を回避するべき、表面および表面近傍の固体領域のポリマー化合物である基体材料と他の材料との間の確り接合した複合体の提供。
【解決手段】表面および表面近傍の固体領域に僅かな活性表面エネルギーのポリマー化合物を有する基体材料と他の材料との接合複合体において、接合される物質1,4相互の間に、ナノ組織化されたナノ複合材料5を有する変移領域が、該変移領域が20nm〜20μmの層厚を有しそして専らナノ複合材料5で形成されており、該ナノ複合体は基体材料1と他の材料4で構成されそして基体材料1と他の材料4との割合が基体材料1の直ぐ近くの専ら基体材料から他の材料4の直ぐ近くの専ら他の材料に亙って変化するように形成されており、その結果基体材料1が他の材料4中でナノ組織化されて変移することを特徴とする、上記接合複合体によって解決される。
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誘電体層をコートされた基板およびそれを製造するプロセスおよび装置
【課題】ガラス・タイプの透明基板をコートするのに用いることができる新しい薄膜材料、新しい堆積・プロセスおよび新しい装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一つの薄い誘電体層がコートされた基板(1)、例えばガラス基板。誘電体層はカソード・スパッタリングによって、例えば、磁界によってたすけられる、好ましくは酸素および/または窒素の存在下で反応性であるカソード・スパッタリングによって、イオン源(4)からの少なくとも一つのイオンビーム(3)への曝露と、堆積される。イオンビームに曝露された誘電体層がイオン源のパラメータに基づいて調整できる屈折率を有し、前記イオン源が線状源であることができる。
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誘電体層をコートされた基板およびそれを製造するプロセスおよび装置
【課題】ガラス・タイプの透明基板をコートするのに用いることができる新しい薄膜材料、新しい堆積・プロセスおよび新しい装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一つの薄い誘電体層がコートされた基板(1)、例えばガラス基板。誘電体層はカソード・スパッタリングによって、例えば、磁界によってたすけられる、好ましくは酸素および/または窒素の存在下で反応性であるカソード・スパッタリングによって、イオン源(4)からの少なくとも一つのイオンビーム(3)への曝露と、堆積される。イオンビームに曝露された誘電体層が結晶化することもできる。
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ITO透明導電膜の形成方法及びその形成装置
【課題】ITOがアモルファスとなる成膜温度で、低抵抗で表面が平坦なITO透明導電膜を、膜剥がれを起こさずに安定して形成するための形成方法、それによって形成されたITO透明導電膜、およびそれを形成するための形成装置を提供する。
【解決手段】ITO透明導電膜の形成装置100は、レーザー光Lの照射機構を備えており、真空チャンバー1内で、スパッタリング法によりITOの薄膜を形成する成膜工程と、薄膜にレーザー光Lを照射するレーザー光照射工程とを繰り返えすことによりITO透明導電膜を形成する。
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スパッタリング装置
【課題】本発明は高アスペクトのビアや凸凹形状のレンズのような3次元形状の基板に対して、小型装置にて面内の高い膜厚均一性かつ高スループットが達成できるスパッタリング装置を提供するものである。
【解決手段】真空容器と、前記真空容器内に配置されたターゲットと、前記真空容器内にガスを導入しながら排気するガス調整手段と、前記ターゲットに対向して配置され、かつ、基板を載置する回転可能な基板保持台によって構成され、スパッタガスまたは、スパッタガスと反応性ガスを導入することにより、前記ターゲットにてターゲット材料または、ターゲット材料の反応生成物を基板上に堆積することができるスパッタリング方法において、前記ターゲットを前記基板に対してずらして配置し、かつ、イオンを前記基板に対して、垂直および斜め方向から入射する複数のイオン発生機構を配置する。
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半導体エピタキシャルウェハの製造方法、半導体エピタキシャルウェハ及び半導体素子
【課題】MBE法又はMOCVD法により半導体基板上に半導体薄膜をエピタキシャル成長させる際に、半導体薄膜の特性を変えることなく、残留キャリアを低濃度に制御する技術を提供する。
【解決手段】半導体基板上に半導体薄膜をエピタキシャル成長させてなる半導体エピタキシャルウェハの製造方法において、半導体薄膜をエピタキシャル成長させる際、同時にアルミニウム(Al)をドープする。
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