【課題】薄膜の屈折率と薄膜に添加される希土類元素の量とを独立して制御して薄膜を形成できる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る薄膜形成装置は、プラズマ生成室とスパッタリング室とが互いに異なる位置且つ前記基板台上に固定された基板表面を見込める位置で前記成膜室に接続されている。さらに、本発明に係る薄膜形成装置は、薄膜の形成に使用されるプラズマとは別に薄膜に添加される希土類元素のスパッタリングのためのプラズマを発生させている。そのため、両プラズマ間に干渉が無く、薄膜の屈折率に影響のあるプラズマ生成室のプラズマのガス条件とスパッタリングのための電力とを独立して制御でき、薄膜を形成させつつ希土類元素のスパッタリングをすることができる。 （もっと読む）

【課題】樹脂基材に対する密着強度が高く、高度な屈曲性と引っ張り疲労強度と優れたガスバリア性を発揮することが可能な樹脂成形体を提供する。
【解決手段】樹脂基材と、前記樹脂基材の表面に形成されたガスバリア膜とを備える樹脂成形体であって、前記ガスバリア膜が：（Ａ）クロムの含有量ａが、１０≦ａ≦６０ｍａｓｓ％の範囲；（Ｂ）ニッケルの含有量ｂが、０≦ｂ≦８０ｍａｓｓ％の範囲；（Ｃ）鉄の含有量ｃが、０≦ｃ≦８０ｍａｓｓ％の範囲；（Ｄ）アルミニウムの含有量ｄが、０≦ｄ≦１０ｍａｓｓ％の範囲；（Ｅ）ニッケルの含有量ｂと鉄の含有量ｃとの和が、３０≦ｂ＋ｃ≦８５ｍａｓｓ％の範囲；（Ｆ）ニッケルの含有量ｂとアルミニウムの含有量ｄとの和が、１≦ｂ＋ｄ≦８０ｍａｓｓ％の範囲；で表される条件を全て満たすクロム含有合金からなるものであり、且つ、前記ガスバリア膜の厚みが５ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲にある。 （もっと読む）

【課題】 材料の使用効率を向上させつつ、蒸着器で蒸発すべき材料を基板に蒸着でき、これによって、面積が大きくて均一な薄膜を形成するマルチノズル蒸着器が開示される。
【解決手段】 蒸着器は、開放上面を有する円筒状のまたは長方形の柱状のるつぼ３１または５１と、るつぼ３１または５１の高さよりも低い高さの円筒状または長方形の柱形状を有しかつるつぼの上部に組み立てられる本体部と、本体部の上面と底面との間で本体部を貫通しつつ、ある角度で形成された複数の蒸発管とを備えるノズルユニット３２とを有する。蒸発される材料は、傾斜した蒸発管によって基板の周辺領域に向かって噴出し、これによって、蒸着すべき薄膜の均一性と、蒸発される材料の使用効率とが向上し、噴出部における蒸発された材料の凝縮が防止される。
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【課題】長期間一定条件でターゲットを蒸散可能にすること。
【解決手段】蒸散室（３）内に設定された蒸散領域（３ａ）に、被膜原料が含まれる被膜原料溶液により構成された液体ターゲット（Ｔ）を供給する液体ターゲット供給装置（６）と、前記蒸散領域（３ａ）に前記被膜原料を蒸散させるレーザー光（Ｌ）を照射するレーザー光源装置（９）と、前記被膜原料を組成に含む被膜が形成される基板（１２）を前記蒸散領域（３ａ）の近傍に支持する基板支持部材（１１ｂ）と、を備えたことを特徴とする被膜生成装置（１）。 （もっと読む）

【課題】湿度の高い雰囲気中におかれても、レンズ基材の局所的変形を起こさず、優れた
耐擦傷性を持つプラスチックレンズ、およびそのような特性をレンズ基材に付与する多層
反射防止層を提供すること。
【解決手段】多層反射防止層３は、高屈折率層（３Ｈ１、３Ｈ２、３Ｈ３）と低屈折率層
（３Ｌ１、３Ｌ２、３Ｌ３、３Ｌ４）とを積層してなり、高屈折率層（３Ｈ１、３Ｈ２、
３Ｈ３）が粒界を有する。プラスチックレンズ１０は、レンズ基材１の上に多層反射防止
層３を備える。 （もっと読む）

【課題】生産性を高めることが可能な二層記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１１上に非磁性基板１１と平行な面内に磁化容易軸を有する軟磁性層１２を堆積する軟磁性層堆積段階と、軟磁性層１２上に非磁性基板１１に垂直な磁化容易軸を有する記録磁性層１３を堆積する記録磁性層堆積段階とを含む二層記録媒体の製造方法であって、軟磁性層堆積段階が、軟磁性層１２の比透磁率がイオンアシストのない状態の１．２倍以上となるイオンアシストありのスパッタリングにより軟磁性層１２を堆積する。 （もっと読む）

【課題】面積の大きな基材に対して、均一に、スパッタリングによる成膜と、プラズマイオン注入による表面改質とを行うことが可能な基材表面処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の基材表面処理装置１００は、成膜槽３０と、該成膜槽３０の内部にシート状プラズマ２７を発生させるシート状プラズマ発生装置と、前記成膜槽３０の内部に配置されたスパッタリングターゲット３３Ａと、該スパッタリングターゲット３３Ａに対向するよう前記成膜槽３０の内部に配置された基材３４Ａを保持可能な基材ホルダ３４と、前記スパッタリングターゲット３３Ａに、前記シート状プラズマ２７の電位に対して負の直流バイアス電圧を印加するためのバイアス電圧印加装置Ｖ_２と、前記基材ホルダ３４を介して前記基材３４Ａに、前記シート状プラズマ２７の電位に対して負のパルス電圧を印加するためのパルス電圧印加装置Ｐと、を備える。 （もっと読む）

【課題】樹脂基板上に高い密着性と緻密性を有する光学薄膜を成膜する。
【解決手段】成膜基板２３を基板ドーム２２に配置する。ＳｉＯからなる蒸着材料３４に電子銃３６から電子ビームを照射してこれを加熱し蒸発させると共に負極性の矩形直流電圧を基板ドームに印加した状態で３００ｎｍ以上の膜厚のＳｉＯ_Ｘ膜を形成する。続いて、ＺｒＯ_２等の蒸着材料を電子ビームで加熱すると共にイオンソース４０からイオンを供給することによりイオンアシスト効果を付与しＺｒＯ_２膜を形成する。以後、同様の工程で、必要な膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】製造プロセスに何らかの異常が発生した場合、あとからその原因を追求して速やかに修復できるように、製造プロセスの履歴を保存できるようにする。
【解決手段】同一の工程処理をサイクル毎に繰り返し行う処理装置（磁気ディスク製造用のスパッタリング装置など）１１と、処理装置における処理条件の生データ（放電条件など）を収集するサンプリングユニット３０と、前記生データを受け取り、生データを一定のルールに基づいて演算してサイクル毎の特徴点を表現する要約データ（特性値：例えば平均値、最大値、最小値、標準偏差、放電時間など）として加工する演算部１００と、その加工した要約データを記憶手段に保存するデータ保存ユニット４０と、記憶手段に保存された要約データをチャート表示する表示・出力ユニット５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】成膜の良好なモニタリングが可能な真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置は、真空槽３０と、基板が設置された基板ドーム２２と、蒸着材料が設置された坩堝と、基板ドーム２２に設置されたモニター部２１と、を備える。モニター部２１は、モニターガラス４１と、モニター窓４２と、投光部４３と、ミラー４４と、受光部４７等から構成されており、モニター窓４２を介してモニターガラス４１に形成された膜の厚さを投光部４３から光を照射し、各波長における吸収率光の強度の変化量を測定することにより計測する。モニター窓４２は、断面形状が台形状に形成されているため、開口４２ａ内にイオン、蒸着材料が導かれやすい。従って、モニターガラス４１は良好に成膜される。モニターガラス４１へ良好に成膜が生じることにより、基板ドームに設置された基板の成膜の良好なモニタリングが可能となる。 （もっと読む）