【課題】 可視光透過半導体膜の形成の際に、堆積中の膜に光放出装置からの光を照射しながら半導体膜を形成することにより、各種の可視光透過半導体膜を耐熱性の低い透明基板上に形成することを可能にした可視光透過半導体素子を提供することにある。
【解決手段】 透明基板8と、透明基板8への半導体の組成を含む材料の堆積中に光放出装置9bからの光を照射しながら形成される半導体膜とからなることを特徴とする可視光透過半導体素子である。 （もっと読む）

【課題】簡単に薄膜の光学的特性の向上を図り、特に多層構造とした場合に光学特性の向上を可能にする。
【解決手段】真空容器内１０に保持した基板１４に高屈折率物質と低屈折率物質とを交互にイオンアシスト蒸着法によって蒸着する光学薄膜形成方法において、基板１４に形成した低屈折率物質の蒸着薄膜に高屈折率物質の蒸発粒子とイオンとを同時に供給する蒸着工程の前に、イオンを所定時間供給する予備的イオン照射工程を設けた。 （もっと読む）

【課題】欠陥の少ない膜を形成することができる成膜方法を提供する。また、均質な膜を形成することができる成膜方法を提供する。また、低電圧駆動が可能な発光素子の作製方法を提供する。また、発光効率の高い発光素子の作製方法を提供する。
【解決手段】基板の表面の少なくとも一部を露出させるように基板保持手段に基板を固定し、蒸着材料が充填された蒸発源から蒸着材料を気化させ、気化している蒸着材料に対しレーザビームを照射し、基板の表面に蒸着材料を堆積させることにより、欠陥が少なく、均質な膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】多くの電子電流を引き出すことが可能であると共に、長寿命化を図ることが可能なニュートラライザを提供する。
【解決手段】一方の端部から電子電流を引き出し可能な放電管４と、放電管４内にガスを導入するガス導入管３と、この放電管４の内部でプラズマを発生させる高周波誘導コイル５と、放電管４の内部に配設されたカソード電極６と、放電管４の開口４ａ側に配設された第一のキーパ電極７と、カソード電極６よりも正電位となるように第一のキーパ電極７に電圧を印加する引出し電源１３と、第一のキーパ電極７と離間して配設された第二のキーパ電極８と、この第二のキーパ電極８にカソード電極６よりも正電位となる自己バイアス電圧を印加するコンデンサ１６と、を備える。第二のキーパ電極８の自己バイアス電圧により多くの電子電流が引き出すことができると共に、第二のキーパ電極８はスパッタされにくくなるため、長寿命化を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ基材上に均一にＡｕメッキ層を形成したり、ナノメータレベルの連続した金メッキ細線を形成したりする。
【解決手段】Ｓｉ基材１上にＡｕメッキ層２を形成するＡｕメッキ方法であって、Ｓｉ基材１上に、Ｃ、Ｓ及びＡｕを含み半導電性を有するＣ−Ｓ−Ａｕ膜よりなる下地層３を形成する下地層形成工程と、電気メッキによるＡｕメッキを施して下地層３上にＡｕメッキ層２を形成するＡｕメッキ工程とを備えている。Ｓｉ基材１の表面に下地層３を形成してから、レジスト膜を部分的に形成して、レジスト膜以外の部分に下地層３のＣ−Ｓ−Ａｕ膜が表出したＣ−Ｓ−Ａｕ膜表出部を所定パターンで形成し、レジストの加工パターンをマスクとして、Ｃ−Ｓ−Ａｕ膜表出部上にＡｕメッキ層２を形成すれば、ナノメータレベルの連続したＡｕメッキ細線を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】濃度が制御されたエアロゾルを安定的に生成することができるエアロゾル生成装置、及び、そのようなエアロゾル生成装置を用いた成膜装置を提供する。
【解決手段】エアロゾル生成装置は、収納される粉体を導出する開口１０が形成されている粉体収納室１と、粉体が開口から導出される際に粉体の導出を補助又は促進するアシストガス導入部１３と、開口から導出される粉体を分散させるガスを供給する分散ガス導入部１７とを含む。また、成膜装置は、そのようなエアロゾル生成装置と、基板を固定する基板ステージ７と、該エアロゾル生成装置によって生成されたエアロゾルを基板に向けて噴射するノズル６とを含む。 （もっと読む）

【課題】膜を緻密にすることができる成膜方法を提供することを課題とする。また、均質な膜を形成することができる成膜方法を提供することを課題とする。そして、これらの成膜方法や成膜装置を適用して発光素子を作製することで、寿命が長く発光効率の高い発光素子を得る。
【解決手段】有機化合物２１１が充填された蒸発源２１０を有する成膜室２００内において、基板保持手段２０１に基板２０２を固定する。次に、この有機化合物２１１を気化させる。図において２１２は気化している有機化合物を表す。さらにここで、有機化合物を気化させて蒸着している最中に、気化している有機化合物２１２に対してレーザビーム２０３を照射する。 （もっと読む）

【課題】大型基板に形成された有機層上に、膜厚のばらつきが小さくなるように電極を形成して発光素子を製造する発光素子の製造方法と、当該発光素子を製造する基板処理装置を提供する。
【解決手段】被処理基板上の有機層上に成膜する基板処理装置であって、前記被処理基板を保持する保持台と、前記有機層上への成膜の原料となる原料ターゲットと、前記原料ターゲットにレーザまたは電子ビームを照射する照射源と、を有し、前記レーザまたは電子ビームを前記原料ターゲットに照射して前記有機層上に成膜を行うことを特徴とする基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】電極の厚さのばらつきが少ないとともに有機層のダメージが少なく、高品質な発光素子を提供する。
【解決手段】 第１の電極と、前記第１の電極に対向する第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極の間に形成された発光層を含む有機層と、を有する発光素子であって、前記第２の電極は、前記有機層上に形成された該有機層を保護する導電性の保護層と、該保護層上に形成された導電性の主電極層とを含むことを特徴とする発光素子。 （もっと読む）

【課題】樹脂基板等の耐熱温度の低い基板でもイオンアシスト成膜を可能とする。
【解決手段】真空槽３０と、基板ドーム２１との間に高周波電源４１から高周波電圧を印加し、真空槽３０内のガスをプラズマ化し、陽イオンにより、蒸着分子の成膜基板２２への堆積をアシストする。高周波電圧の印加により発生する基板ドーム２１のセルフバイアス電圧を検出し、セルフバイアス電圧が減少すると、これを補償するように高周波電源４１の出力電力を増加する。 （もっと読む）