説明

国際特許分類[C23C14/24]の内容

国際特許分類[C23C14/24]の下位に属する分類

国際特許分類[C23C14/24]に分類される特許

21 - 30 / 1,944


【課題】大型の成膜対象物の表面に分布が均一な成膜を簡素な構成の装置で行うことができる技術を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着装置1は、真空槽2と、真空槽2内に設けられ、溶融蒸発材料30を収容する細長形状の収容部12と、当該収容部12内の蒸発材料をその蒸発温度以上の温度で加熱する加熱手段13とを有する蒸発源10を有する。真空槽2内には、蒸発源10の収容部12の長手方向に対して直交する方向に基板4を搬送するための搬送経路5と、蒸発源10の収容部12の両側部に、蒸発材料31、32を移動させつつ収容部12の両端部にそれぞれ所定量の蒸発材料31、32を供給する第1及び第2の材料供給手段21、22とを有する。 (もっと読む)


【課題】強力な磁気ガイドを含み、無限の異なる軌道内でアークの陰極点を誘導できるようにし、個別に選択され得、かつターゲットを均等に使用するアーク蒸着装置を得る。
【解決手段】磁気ガイドは、2つの独立した磁気システムを含み、該磁気システムのうちの第1のものは、陰極つまりターゲットの周囲に配置されかつ、その磁化がターゲット2の表面領域に対し垂直であるように前記ターゲットと多少の差こそあれ同一平面にくるように配置されている一群の永久磁石3からなり、第2の磁気システムは、ターゲット2の後方部分上に設置されかつ、その磁極のうちの少なくとも1つがターゲットの表面領域に対し平行である状態で前記ターゲット2からある一定の距離のところにて蒸着装置の電気絶縁性本体6内に収納されている電磁石4,5からなる。 (もっと読む)


【課題】メタルマスクを直接冷却することが可能なメタルマスク冷却機構と、そして、当該機構を備えた有機EL成膜装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着チャンバ中で、基板とメタルマスク83とのアライメントを行って蒸着材料を当該基板に蒸着する有機EL成膜装置におけるメタルマスクの冷却機構は、メタルマスクを間に挟み込んで、外形「ロ」の字状に形成され、一方の表面上に前記マスクを取り付ける固定フレーム82の外枠に沿って設けられる、複数の固定板84を備えており、固定板は、各々、熱伝導性に優れた部材により細長い板状に形成されると共に、その内部には冷媒を流すための流体流路を形成すると共に、更に、固定板の各々には、前記固定板の流路に冷媒を供給するための配管と排出するための配管とを設けた。 (もっと読む)


【課題】透過照明方式により性能に優れ、かつ、マスクの有効活用が可能となるマスクアラインメント光学システムを提供する。
【解決手段】蒸着材料を基板上に蒸着する真空蒸着チャンバ1中において、基板6とメタルマスク102とのアライメントを行うマスクアラインメント光学システムでは、メタルマスクの周囲に形成されて四隅にL字状の導光路が形成された固定フレーム101と、基板を表面に搭載すると共に、その四隅にL字状の導光路が形成されたステージ201を備えており、固定フレームの一部に形成された導光路103、及び、ステージの一部に形成された導光路内に導かれた光によるアラインメントマークの透過像によって、メタルマスクとのアライメントを行うマスクアライメント光学システム。 (もっと読む)


【課題】アクチュエータを設けることなく、基板を確実に保持できる有機ELデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダー91と、基板搬送機から基板6を受取るための基板受けピン66と、基板ホルダー昇降機構68と、基板ホルダー91の端部に設けられ、基板クランプ61とクランプ支持金具62とクランプ付勢バネからなる基板保持機構と、基板6を基板クランプ61から解放するためのクランプ開閉ピン67とを備え、クランプ支持金具62は縦方向に回転し第1の腕62a
と第2の腕62cを有し、第1の腕62aの端には基板クランプ61の一端が固定され、第2の腕62cの端には縦方向に回転する回転部が設けられ、基板クランプ61が基板6を基板ホルダー91に押圧するよう、有機ELデバイス製造装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】厚さが均一なコーティングを得る方法を提供すること。
【解決手段】材料を気化させて基板の表面に膜を形成する方法は、所定量の材料を気化装置の中に供給し、その気化装置の中にあるその材料を第1の温度状態に加熱し、その材料の一部に作用する熱パルスを印加してその材料のその部分を気化させることにより基板の表面に付着させる操作を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】高精細で高輝度の表示性能を備え、かつ低消費電力のプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルは、保護層を形成した前面板と、前記前面板に対向配置した背面板とを備え、前記保護層は、酸化マグネシウムと酸化カルシウムからなる金属酸化物により形成され、前記保護層は、アルミニウムを含み、前記保護層面におけるX線回折分析において、酸化マグネシウムの結晶方位面(111)ピークが発生する回折角と、当該ピークと同一方位の前記酸化カルシウムのピークが発生する回折角との間にピークが存在するとともに、前記保護層のカルシウムの濃度を3atom%以上15atom%以下である。また前記保護層のアルミニウムの濃度は、重量比率で100ppm以上200ppm以下であることが望ましい。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、蒸着用マグネシウムペレットの突沸を防止することができ、安定した蒸着レートを維持できるマグネシウムの蒸着方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明は、マグネシウム塊体と前記塊体の表面を覆う酸化マグネシウム被膜とを有する被包ペレットの、前記マグネシウム塊体の一部又は全部を露出させる露出工程と、前記露出工程を経て得られたペレットを加熱してマグネシウムを被着体に蒸着させる蒸着工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】シャッター部を狭ピッチで並設することのできるシャッター装置を提供すること。
【解決手段】シャッター装置1は、x軸方向に往復移動可能なシャッター部3と、シャッター部3をx軸方向へ移動させる駆動部4と、シャッター部3のx軸方向への移動を案内するガイド手段7とを有する。シャッター部3は、遮蔽部31と、遮蔽部31と駆動部4とを連結する連結部32とを有する。ガイド手段7は、y軸方向に連結部32を挟んで設けられた一対の凸部751、752を有している。遮蔽部31のy軸方向の幅をL1とし、連結部32(第1連結部321)のy軸方向の幅をL2とし、凸部751、752の離間距離をL3とすると、L1>L3>L2なる関係を満足する。 (もっと読む)


【課題】大面積で薄く膜厚のばらつきが小さく高純度の金属膜を低い製造コストで効率よく製造する金属膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本金属膜の製造方法は、基体10の主表面上に真空蒸着法により金属膜20を形成する工程と、基体10から金属膜20を剥離する工程と、を含む。ここで、基体10を硫酸紙とすることができる。また、金属膜20は、その純度を99.99質量%以上、その厚さを1000nm未満、その面積を225cm2以上とすることができる。 (もっと読む)


21 - 30 / 1,944