【課題】本発明は、スリットの大きさが微細に制御された蒸着用マスクおよび蒸着用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による蒸着用マスクは、貫設された複数のスリットが形成されたマスク本体、および原子層蒸着法（ａｔｏｍｉｃ ｌａｙｅｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＡＬＤ）により前記マスク本体の表面全体にコーティングされた蒸着層を含む。 （もっと読む）

【課題】高い解像度を有し、かつ生産性が高い有機ＥＬ発光装置等の装置を製造するための成膜装置を提供する。
【解決手段】マスク部材１１と、マスク部材１１を固定するフレーム１２と、からなるマスクユニット１０と、マスクユニット（１０）１基に対して１組設けられるアライメント機構と、を備え、マスク部材１１が、複数組の開孔パターン１３ａが並列して設けられてなる開孔部１３を有し、前記アライメント機構により、複数の成膜領域がマトリクス状に設けられている一枚の基板１に対して複数のマスクユニットが互いに干渉されることなく配置され、成膜時においてマスクユニット１０を交換し又は移動することなく、一括して薄膜を成膜することを特徴とする、成膜装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、蒸着品質を高めることができるマスク組立体およびそれを用いて製造された有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】本発明によるマスク組立体は、開口部を形成するフレームと、複数の蒸着用開口部を形成し、長さ方向に沿って引張力が加わった状態で両側端部がフレームに固定される複数の単位マスクとを含む。複数の単位マスクのうちの隣接した少なくとも二つの単位マスクは、互いに向き合う両側面に蒸着用凹部を形成する。単位マスクの幅方向に沿った蒸着用凹部の幅は、単位マスクの幅方向に沿った蒸着用開口部の幅と同一であるか、またはそれよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】蒸着重合膜を連続形成しつつ、蒸着重合膜の組成や膜厚の変化を把握できる蒸着重合膜形成装置を提供する。
【解決手段】赤外光源８８と分光手段と検出器９０と光学系９２とを有する反射型赤外分光光度計８６を設置すると共に、分光手段により分光された赤外光を蒸着重合膜上に集光させる集光鏡１２４と、蒸着重合膜上の集光点での反射光を更に反射させて、検出器９０に導く反射鏡１２６，１２２，１１８とを、光学系９２に設け、更に、集光鏡１２４を、基材フィルムの移送に伴って、蒸着重合膜上での赤外光の集光点の位置を基材フィルムの長さ方向に変化させ得る位置に配置して構成した。 （もっと読む）

【課題】アーク放電状態を確実に評価できるアーク放電評価方法を提供する。
【解決手段】金属ターゲットの表面を複数回撮影して、アーク放電状態を複数の解析画像データとして取得する画像取得工程Ｓ３０と、画像取得工程Ｓ３０にて撮影した解析画像データの所定の位置を原点として、各解析画像データを座標データに変換する変換工程Ｓ５０と、座標データと所定の閾値とを比較することで、座標データよりアークスポットに対応する部分を、前記解析画像データ毎に抽出する抽出工程Ｓ６０と、抽出座標データを回帰して、抽出座標データの二次関数と二次関数の相関係数ｒとを算出し、二次関数の二次項ａと二次関数の相関係数ｒとをアーク放電状態の特徴量として取得する特徴量取得工程Ｓ８０と、を行う。 （もっと読む）

【課題】所望厚さの被膜を形成する。
【解決手段】直流電源装置１がその一次巻線２に接続されるフライバック変圧器と、フライバック変圧器と直流電源装置に接続される第１半導体スイッチング素子４と、二次巻線３に接続されるダイオード５と、ダイオードに接続するコンデンサ６及び第２半導体スイッチング素子７と、第２半導体スイッチング素子に接続され、回転手段９に連結されて回転駆動する被覆材電極１０と、コンデンサの他端に接続され、また被覆材電極に接触することで電気的に導通する被金属加工体１１と、第１半導体スイッチング素子、コンデンサ、第２半導体スイッチング素子に制御パルスを印加する制御装置１２と、を備える。コンデンサの電圧と所定値とを比較して第１半導体スイッチング素子に対してオン・オフ制御を行い、また第２半導体スイッチング素子に対する印加動作制御をパルス信号の印加終了後に行うことで、火花放電被覆を実現する。 （もっと読む）

【課題】溶融した蒸着材料をリザーバ等に溜めておくことなく下方蒸着を行う蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置は、真空槽１０、真空槽内部に配置され基板１を載置する基板ステージ２４、真空槽内部で前記基板ステージよりも上方に配置され下面３１ａに加熱面を有する抵抗加熱ボード３１、及び真空槽内部に配置され抵抗加熱ボードの下面加熱面に線蒸着材３の先端を接触させる線蒸着材供給部４０を備える。 （もっと読む）

【課題】緻密な薄膜の成膜を可能にして、薄膜の耐チッピング性を向上させることができるアークイオンプレーティング装置を提供する。
【解決手段】アークイオンプレーティング装置１は、蒸発源５が載置される陰極の背面中央に設けられる中央磁石１５と、ワーク３の背面に設けられる補助磁石１７とを備え、中央磁石１５と補助磁石１７とは、異なる極を対向させて配置され、ワーク３の成膜面の磁束密度が１ｍＴ以上１４ｍＴ以下となるように設定されている。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、クラスタ構造を有し、ライン長を短くできる、あるいは、スペース効率のよい有機ＥＬデバイス製造装置または基板の姿勢を補正する角度補正機構を提供することである。
【解決手段】
本発明は、第１の櫛歯状ハンドによって基板を搬入する搬入口と、第２の櫛歯状ハンドによって前記基板を搬出する搬出口と、前記基板を支持する複数の支持ピンと、複数の前記支持ピンを固定し、前記基板を支持し回転させる支持ピン回転台と、前記支持ピン回転台を前記基板と平行な平面内で回転させる回転駆動手段と、複数の前記支持ピンと、前記第１の櫛歯状ハンドと前記第２の櫛歯状ハンドの少なくとも一方との干渉を回避する回避手段と、有する。 （もっと読む）