【課題】 成膜対象物上への薄膜の形成を好適に行うことが可能な成膜装置、及び成膜方法を提供する。
【解決手段】 Ｓｉ原子を含む化合物または混合物を表面改質材料として導入する導入管２０と、キャリアガスを導入する導入管２５と、表面改質材料及びキャリアガスを内部に導入、加熱して、それらが混合された表面改質ガスを供給するホットウォール管１２と、ホットウォール管１２の内部において加熱されることで金属材料を含む成膜材料ガスを供給する成膜材料体３０と、成膜面上に薄膜を形成するための成膜用基板１６を保持する基板保持ステージ１５とを用いて成膜装置１Ａを構成する。そして、ホットウォール管１２から基板１６の成膜面へと表面改質ガス及び成膜材料ガスを供給することによって、金属材料を少なくとも含む薄膜を成膜面上に形成する。 （もっと読む）

【課題】非導電性試料の表面に、むらの無い良質な導電性のカーボン膜を短時間で形成する。
【解決手段】開閉弁９ａを開き、ロータリーポンプ１０で試料室２ａの大気を排気する。試料室２ａの真空度が１Ｐａ程度になったら、流量調整弁８ａを開いて試料室２ａにアルゴンガスを導入し、試料室２ａの真空度が２Ｐａ程度になるようにアルゴンガスの流量を調整する。電極棒７ａと７ｂ及び電極５ａと５ｂを通じてカーボン棒に５０Ａ程度の電流を流す。通電によりカーボン棒が赤熱し、カーボンが蒸発することにより蒸着が行なわれる。 （もっと読む）

本発明は、基材が次々と少なくとも１つのプラズマ処理ゾーンを通り搬送される、１つ又は複数の鋼製品を含む連続基材のプラズマ処理用の方法及びシステムであって、処理ゾーン内でプラズマを発生させるための電力が、基材がこのゾーンを通過しているときこの処理ゾーン内に存在する基材の面積に応じて変化することを特徴とする方法及びシステムに関する。
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【課題】真空処理容器内におけるパーティクルの落下を低減し、半導体基板の製品歩留まりの低下を低減するプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】
真空処理容器内に配置され、マイクロ波を吸収し発熱、昇温するマイクロ波吸収発熱体を有するプラズマ処理装置であって、マイクロ波を使用する真空処理容器内での昇華物再付着防止のため、真空処理容器内部にマイクロ波吸収発熱体を設け、プラズマ生成用のマイクロ波発振器を使用し、第1の処理工程でプラズマを励起せず、マイクロ波吸収発熱体を加熱し、第２の処理工程で被処理基板を挿入し、通常のプラズマ処理を行う。 （もっと読む）

【課題】三相遮断素子が故障しているか否かの判別が困難であったという点である。
【解決手段】 電子ビームを発生する電子銃と、前記電子銃放電時に前記電子銃に供給される電流を遮断する遮断回路と、前記電子銃放電時の放電波形を量子化する量子化回路と、この量子化された信号に基づき前記遮断回路の故障状態を判別する判別回路と、を備えた電子ビーム発生装置であって、前記判別回路において前記量子化された信号の幅が所定の幅より長い場合に故障と判別し、所定の幅に満たない場合は正常と判別することを特徴とする電子ビーム装置。 （もっと読む）

【課題】 蒸着効率が高く、かつ高感度であって高画質の放射線画像を与える放射線像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 蒸着装置内において、蓄積性蛍光体（或はその原料）を含む蒸発源を加熱し、発生する物質を蒸発源の上方に配置した基板上に蒸着堆積させることにより蛍光体層を形成することにより放射線像変換パネルを製造する方法において、加熱発生物質が蒸発源から該基板に至る空間から外に拡散するのを防ぐことのできる拡散防止壁部材を、該空間を囲むように配置し、そして拡散防止壁部材を基板の温度よりも高く、かつ蒸発源の温度よりも低い温度に維持しながら、０．１乃至１０Ｐａの範囲の真空度にて蒸着を行う方法。 （もっと読む）

【目的】本発明は、電子源から放出されて加速された電子ビームを物質に照射した状態でスキャンして加熱し、対向して配置した基板上に当該物質を蒸着させる電子源装置におけるスキャン方法および電子源装置に関し、画面上で電子ビームのスキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形を作成したり、作成したスキャン波形が所望でないときは当該スキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形に部分修正を施し、顧客が簡易に試料（材料）の溶けあとが可及的に平坦で有効利用されるように調整可能にすることを目的とする。
【構成】 画面上でスキャンしようとするスキャン波形の１点が指定されると、当該１点をもとにスキャン波形を生成するステップと、生成したスキャン波形を波形発生器に送信してスキャン波形で電子ビームを物質に照射した状態でスキャンして加熱させるステップとを有する電子源装置におけるスキャン方法である。 （もっと読む）

本発明は、物理的蒸着を利用して基材を被覆する装置であって、コイル中で変動電流を用いて、ある量の導電性材料（１０）を空中浮揚状態に維持し、かつ該材料を加熱および蒸発させるためのコイル（１）が配置された真空チャンバを備えてなり、該コイルを空中浮揚された材料から隔離するための手段（３）が該コイル中に配置されている、装置に関する。本発明によれば、該装置は、該隔離手段が、非導電性材料製の容器（２）の一部であり、該容器が、蒸発した導電性材料を被覆されるべき該基材に導くための一個以上の開口部（５）を有することを特徴とする。本発明は、物理的蒸着を利用して基材を被覆する方法にも関する。
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本発明は、環境に有害な物質を使用せず、より単純な膜構成で、高温高湿環境下での実用的な耐久性に優れ、しかも可視領域で９８％以上の分光反射率を有する銀鏡を提供することを課題とする。 本発明は、例えば図１に示すように、基体１上に少なくとも反射膜として銀膜３が形成されてなる銀鏡において、前記銀膜３の両面に直接酸化アルミニウムを主体とする膜２、４が形成された構造を有することを特徴とする。また、前記銀膜３の両面側に形成された酸化アルミニウムを主体とする膜２、４が、いずれも膜密度がバルク比０．９５以上（好ましくはバルク比０．９７以上）の膜であることを特徴とする。
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