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国際特許分類[C23C14/50]の内容

国際特許分類[C23C14/50]に分類される特許

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【課題】基板とマスクとの隙間を高精度に制御することのできる有機ELデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】真空処理室内に設けられたシャドウマスクと、基板を載置する基板ホルダーと、基板とシャドウマスクとの間を、接近させ又は離間させる基板密着手段と、基板ホルダーの四隅に設けられた距離計測機構とを備え、距離計測機構は、基板ホルダーを貫通するように設けられた距離計測用空間と、基板ホルダーの表面上に設けられた透明ガラス板と、距離計測用空間に配置された距離計測部とを備え、距離計測部は、光を発射し反射光を受光して距離を計測する距離計と、距離計を真空処理室内の雰囲気から隔離する距離計筐体と、距離計筐体の一部に設けられた透明ガラス窓とを備え、距離計が、透明ガラス窓を介して透明ガラス板とシャドウマスクとの間の距離を計測するよう、有機ELデバイス製造装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】多数の基板上の特定部分のみに薄膜を形成する作業を簡素化して効率化することにより、薄膜形成時の作業時間を短縮し、成膜作業における費用の低減が可能な薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】薄膜形成装置100に備えられた基板保持機構3は、基板の非成膜部分の一部が他の基板と重なり合い、成膜部分が露出するように複数の基板を保持する基板保持部材10〜40と、基板保持部材10〜40を支持する支持部材50と、支持部材50を回転させる回転部材60と、を備え、基板保持部材10〜40は、複数の基板を保持し、成膜源4と複数の基板との間に配設される複数の保持面と、複数の保持面の間に形成され、複数の基板の端部とそれぞれ当接する複数の段差部と、複数の段差部に基板の端部が当接した状態にあるとき、成膜部分に相当する部分の保持面上に形成された複数の開口部と、を有する。 (もっと読む)


【課題】フィルム状ガラスの両面上に膜が形成されており、反りが抑制された膜付フィルム状ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】フィルム状ガラス1をターゲット2の表面2aに対して垂直に保持した状態でターゲット2の上を通過させながらフィルム状ガラス1の両面1a、1bの上に成膜する。とくに、フィルム状ガラスを、スパッタリング法、CVD法または真空蒸着法により成膜を行うことが好ましく、さらにターゲット上を通過する軌道に沿って旋回させながらフィルム状ガラスの両面の上に成膜することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】成膜条件が異なる場合であっても多数の基材に対して一度に且つ均一に成膜を行うことにより生産性を向上させる。
【解決手段】本発明のAIP装置101は、真空チャンバ内を真空排気する真空排気手段と、成膜対象である基材を自転状態で保持する4つの自転保持部4と、自転保持部4をその自転軸と軸心平行な公転軸Q回りに公転させる公転テーブル5と、アーク蒸発源6と、4つのバイアス電源10B1〜10B4を備えた電源ユニット10Bとを備え、自転保持部4の各々はスリップリング151を介して異なるバイアス電源に接続され、バイアス電位の差により異なる成膜条件を構成する。 (もっと読む)


【課題】温度分布の制御精度の向上を図ることができるセラミックスヒータを提供する。
【解決手段】本発明のセラミックスヒータ1によれば、各発熱抵抗体Qk(k=1〜5)から発せられた熱を、セラミックス基板2から伝熱面としての接合界面Sj(j=1〜3)を通過させた上で、セラミックス支持部材4の低温箇所に流れ込ませることができる。セラミックス基板とセラミックス支持部材との接合界面Sjは、セラミックス基板2の載置面Sに対して垂直な軸線を取り囲むとともに、当該軸線に対して垂直な方向に離散的に配置されている。 (もっと読む)


【課題】プラズマを用いて被処理基板に対してプラズマ処理を行なうプラズマ処理装置において、被処理基板載置部材の上に載置された被処理基板に傷が付くことを抑制する。
【解決手段】被処理基板100に対してプラズマ処理を行なうプラズマ処理装置1Aは、被処理基板載置部材5と、被処理基板載置部材5の表面5a上に設けられ、被処理基板載置部材5の上に載置された被処理基板100を上方支持することによって、被処理基板100と被処理基板載置部材5との間に隙間Sを形成する支持部材4と、被処理基板100に面するようにプラズマを生成することによって、被処理基板100にプラズマ処理を行なうプラズマ生成部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】ドライコート法による成膜処理において、成膜対象である基板のセッティング性を向上させる技術を提供する。
【解決手段】成膜装置100は、基板25を保持する保持器具50と、成膜室110において、保持器具50を、取り付けられた基板25が立った状態となるように固定する基台112とを備える。保持器具50は、枠部51と、枠部51の互いに対向する長辺に沿って設けられた第1と第2の側辺支持部52,53と、枠部51の底辺に沿って設けられた底辺支持部54とを備える。第1と第2の側辺支持部52,53は、基板25の長辺の一部を収容するスリットSを有する。第1と第2の側辺支持部52,53は、基板25が水平方向へと傾くことを抑制するとともに、基板25が枠部51から離間することを抑制する。底辺支持部54は、基板25が重力方向へ脱落することを抑制する。 (もっと読む)


【課題】装置自体の大型化を招来することなく、一度に載置するワーク数を増加させられるようにする。
【解決手段】本発明は、ターゲット20,21による蒸着位置を含む一定の公転経路上に沿って、複数のワークPそれぞれを自転させながら移動させる蒸着装置用ワーク移動機構Bにおいて、上記隣り合うワークP,Pどうしを、これらの自転領域を重なり合わせ、かつ、互いに干渉しない姿勢に保持しているとともに、それら隣り合うワークP,Pを互いに逆回転させながら公転経路上を移動させる。 (もっと読む)


【課題】複数の棒状ヒータランプが並列配置されるとともに、該ヒータランプを点灯制御する制御部を備えた熱処理装置において、余計な部材を使うことなく、簡単な制御によって、ワーク表面を均一加熱できるようにすることである。
【解決手段】前記ヒータランプは、中央ランプ群と、その両側に配置された端部ランプ群とに区分けされ、前記制御部は、前記端部ランプ群を構成するヒータランプを点灯した後に、前記中央ランプ群を構成するヒータランプを点灯するよう制御して、ワークの中央部領域と端部領域とが熱反応温度以上の温度領域にいる反応時間帯をほぼ一致させたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】筒状体の内周面に均一な膜厚で、かつ均一なドープ濃度で共蒸着膜を形成可能な成膜装置および成膜方法。
【解決手段】成膜装置30は、筒状体1の内周面に共蒸着膜を形成するための成膜装置であって、筒状体1を保持するための筒状体ホルダ2と、第1の蒸着材料11を充填するための内部空間を有する第1の蒸着容器12と、第2の蒸着材料12を充填するための内部空間を有する第2の蒸着容器22とを備えている。筒状体ホルダ2と第1および第2の蒸着容器12、22とは、筒状体1の延在する方向に互いに相対的に移動可能であり、筒状体1の延在する方向に延びる仮想の軸線A−Aを中心として互いに相対的に回転可能である。 (もっと読む)


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