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国際特許分類[C23C16/453]の内容

国際特許分類[C23C16/453]に分類される特許

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【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】誘導結合型プラズマトーチユニットTにおいて、ソレノイドコイル3が、第一石英板4、第二石英板5、及び、複数の石英管6によって囲まれた長尺チャンバの周囲に配置され、最下部にプラズマ噴出口8が設けられる。石英管6の内部には冷却水が供給される。長尺チャンバ内部の空間7にガスを供給しつつ、ソレノイドコイル3に高周波電力を供給して、長尺チャンバ内部の空間7にプラズマを発生させ、基材2に照射する。 (もっと読む)


【課題】高い焼結作用を有する二酸化チタン粉末を提供する。
【解決手段】BET表面積30〜65m2/g及びルチル含有率50〜70%を有する凝集一次粒子の形の結晶二酸化チタン粉末。それは、四塩化チタン蒸気、及びそれとは別に、水素、空気、又は酸素で富化された空気を混合チャンバー中に導入し、四塩化チタン蒸気、水素及び一次空気の混合物をバーナーで点火し、そして火炎を反応チャンバー中で燃焼し、続いてガス状物質から固体を分離することによって製造され、その際使用される量は、式A=A=105{[(TiCl4×H2)/(空気の量×合計ガス)]/BET}、[式中、A=6〜12に従う]であるように選択される。該二酸化チタン粉末は、セラミクス産業において使用されうる。 (もっと読む)


【課題】イトロ処理などの燃焼化学気相蒸着で表面改質が行われる被加飾体への異物の付着を防止し、歩留まりを向上させた加飾品の製造装置を提供する。
【解決手段】被加飾体である蓋部材103をワークとして、移動テーブル30がワークをスライダーに沿って移動させる。バーナー21は、移動テーブル30の上方に取り付けられており、下方を移動するワークに向かって、改質剤化合物の入っている火炎をあてる。吸気部40は、移動テーブル30の下方に中空の台座32の開口部32aを有しており、バーナー21及び移動テーブル30の下方に向かってブロアー41により行う。 (もっと読む)


【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】プラズマトーチユニットTにおいて、弧状の銅管3からなるコイルが、石英ブロック4の周囲に配置され、弧状の銅管3の弧が途切れた部分にプラズマ噴出口8が設けられる。筒状チャンバ内部の空間7にガスを供給しつつ、銅管3に高周波電力を供給して、筒状チャンバ内部の空間7にプラズマを発生させ、基材2に照射する。 (もっと読む)


【課題】太陽電池を製作するためのプラズマデポジション装置及び方法を提供する。
【解決手段】少なくとも1つの基板を支持するための長手方向軸を持つコンベヤと、少なくとも1つの基板上に反応生成物の層を堆積するためのそれぞれ少なくとも1つのプラズマトーチを持つ少なくとも2つのモジュールと、前記コンベヤと前記少なくとも2つのモジュールとを含むチャンバと、排気システムとを備え、前記少なくとも1つのプラズマトーチは、少なくとも1つの基板から離れて置かれている、太陽電池を製作するためのプラズマデポジション装置。他の実施形態では、基板を支持する手段と、反応物を供給する手段と、前記基板上に生成物を堆積するためのプラズマトーチと、前記基板に対して前記プラズマトーチを振動させる手段とを備え、前記プラズマトーチは、前記基板から離れて置かれている、太陽電池を製作するためのプラズマデポジション装置。 (もっと読む)


【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができ、かつ、再現性に優れたプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的としている。
【解決手段】プラズマトーチユニットTにおいて、螺旋形の導体棒3が石英管4の内部に配置され、その周囲に真鍮ブロック5が配置されている。筒状チャンバ内にガスを供給しつつ、導体棒3に高周波電力を供給して、筒状チャンバ内にプラズマを発生させ、基材2に照射する。真鍮ブロック5は開口部12を先端として先細形状に構成され、放射光の光軸43が真鍮ブロック5によって遮られない位置に、基材2の表面温度を測定するための放射温度計受光部42が配置されている。 (もっと読む)


【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的としている。
【解決手段】プラズマトーチユニットTにおいて、コイルは複数の導体棒3を接続したもので、石英管4の内部に配置されており、石英管4の内側の半円柱部分が筒状チャンバ内部の空間7に露出する。導体棒3と石英管4の内部に水が流れることによって石英管4と導体棒3が冷却される。プラズマ噴出口12からプラズマを基材2に照射することにより、基材2上の薄膜16をプラズマ処理することができる。 (もっと読む)


【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができ、かつ、小型で簡潔な構成のプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的としている。
【解決手段】プラズマトーチユニットTにおいて、螺旋形の導体棒3が石英管4の内部に配置され、その周囲に真鍮ブロック5が配置されている。筒状チャンバ内にガスを供給しつつ、導体棒3に高周波電力を供給して、筒状チャンバ内にプラズマを発生させ、基材2に照射する。石英管4、真鍮ブロック5、蓋6には冷媒流路が設けられ、冷媒としての水が流れることによって各部材が冷却される。 (もっと読む)


【課題】気化室に対して改質剤化合物を供給する際の温度変化の影響を排除し、ひいては、燃料ガス中に含まれる改質剤化合物の濃度変化が少ない表面改質装置等を提供する。
【解決手段】改質剤化合物を貯蔵するための貯蔵室と、所定温度下に蒸発させ、気体状態の改質剤化合物を生成するための気化部と、気化部に、キャリアガスを導入し、気体状態の改質剤化合物を、噴射部に移送するための移送部と、改質剤化合物を含む燃料ガスに由来した火炎を吹き付けるための噴射部と、を含む表面改質装置等であって、気化部が、少なくとも第1の気化室及び第2の気化室を含む複数の気化室を備えるとともに、当該第1の気化室及び第2の気化室を交互使用するための切替装置を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


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