【課題】成膜レートに変動を生じさせることなく、均一性の高い成膜処理を行なう。
【解決手段】成膜装置１００は、被処理基板６０に対向するように配置される二流体スプレーノズル１０と、二流体スプレーノズル１０に原料溶液２４を供給する溶液供給手段２０と、二流体スプレーノズル１０に噴霧エア３４を供給するエア供給手段３０と、エア供給手段３０と二流体スプレーノズル１０との間に配置される噴霧エア流量調整手段４０とを備え、原料溶液２４および噴霧エア３４が二流体スプレーノズル１０の内部で混合された状態で二流体スプレーノズル１０から被処理基板６０に向かって微粒子化されて吹き付けられることにより被処理基板６０に対して成膜処理が行なわれ、エア供給手段３０からの噴霧エア３４は、噴霧エア流量調整手段４０によって所定の流量に調整された状態で二流体スプレーノズル１０に供給される。 （もっと読む）

【課題】基板に対して高品位に成膜を行なうことができる噴霧法を利用した連続式の成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、成膜が行なわれる成膜室１０と、成膜材料２００を霧化させるスプレーノズル２５と、成膜室１０を横断するように設けられた搬送経路と、搬送経路上において基板１００を移動させる搬送機構とを備える。成膜室１０を規定する壁部には、スプレーノズル２５にて霧化された成膜材料２００を成膜室１０に導入するとともに、導入した成膜材料２００を成膜室１０において搬送経路側に向けて噴霧するための噴霧口２３ａが設けられる。成膜室１０を規定する壁部のうちの、搬送経路から見て噴霧口２３ａ側に位置する部分には、第１排気口２４ａが設けられる。成膜室１０を規定する壁部のうちの、搬送経路から見て噴霧口２３ａ側とは反対側に位置する部分には、第２排気口８ａが設けられる。 （もっと読む）

【課題】基板上に成膜される膜の膜厚の均一性を向上する。
【解決手段】成膜材料を微粒子化して噴霧する噴霧口１３１を各々有する複数の噴霧機構と、複数の噴霧機構から噴霧された成膜材料を基板上に分布を補正して到達させるための噴出口１９１を各々有する複数の送風機構とを備える。複数の噴霧機構は、各々の噴霧口１３１が基板と対向し、かつ、平面視において基板の搬送方向と交差する方向に互いに間隔を置くように配置されている。複数の送風機構は、各々の噴出口１３１が複数の噴霧機構のうちの少なくとも１つの噴霧機構の噴霧口１３１の周囲に位置するように配置されている。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を抑制して成膜される膜の品質を安定させる。
【解決手段】筐体１５０と、筐体１５０の内部に成膜材料１６０を微粒子化して噴霧する噴霧口１３０ａを有する噴霧機構と、噴霧口１３０ａと間隙１３３を介して対向する流入口１３２ａ、および流入口１３２ａとは反対側に位置する流出口１３２ｂを有する整流部材１３２とを備える。整流部材１３２の流入口１３２ａと流出口１３２ｂとの間の空間と、筺体１５０の内部とは間隙１３３により連通している。 （もっと読む）

【課題】基板上に成膜される膜の厚さの均一性を向上する。
【解決手段】筐体１５０と、筐体１５０の内部に成膜材料１６０を微粒子化したミストを噴霧する複数の噴霧機構と、複数の噴霧機構の基板２００上への成膜量を所定の範囲に収めるように調節する調節手段とを備える。調節手段は、複数の噴霧機構の各々の基板２００上への成膜量を調節する、または、基板２００上への成膜量に関して複数の群に分けられた複数の噴霧機構においてこの複数の群の各々に含まれる噴霧機構毎に基板２００上への成膜量を調節する。 （もっと読む）

【課題】基板上に複数の膜を連続して高品質に成膜できる。
【解決手段】複数の成膜室１００の各々は、筐体１５０と、この筐体１５０内に成膜材料１６０を微粒子化したミストを噴霧するスプレーノズル１３０とを有する。筐体１５０は、１つの側壁に位置して排気手段と接続される排気口１５２を有し、かつ、複数の成膜室１００を順次通過する基板２００と対向する開放部を加熱炉１２０内に有する。上記ミストは、複数の成膜室１００の各々において、スプレーノズル１３０から開放部を通過して排気口１５２に向けて流動する。排気手段による排気口１５２からの排気流量は、筺体１５０内への流入流量より大きい。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性にすぐれた表面被覆切削工具の製造方法を提供する。
【解決手段】工具基体の少なくとも最表面に、０．０５〜５μｍの膜厚を有し、コランダム型のαアルミナ構造の酸化アルミニウム層を被覆形成する表面被覆切削工具の製造方法において、上記酸化アルミニウム層は、アルミニウムのアルコキシドにアルコール（好ましくは、平均粒径１０〜３００ｎｍのαアルミナ粒子を含有する）を添加し、さらに酸（例えば、希塩酸）を添加した後、１０℃以下の低温にて攪拌してゾルを生成させ、該ゾル中に含まれるアルミニウムと水のモル比が１：３０〜１：１５０になるようにゾルに水を添加した後、１５〜８０℃の温度にて加熱・攪拌する高結晶化処理を施し、該高結晶化処理を施したゾルを上記工具基体表面へ、あるいは、表面上に形成した硬質皮膜の表面に塗布し、引き続き、乾燥処理を１回以上行い、次いで、５００〜１０００℃の温度範囲で焼成処理を行う。 （もっと読む）

【課題】従来技術と比較して低温下で金属表面にグラファイトの薄膜を形成する手段を提供する。
【解決手段】レゾール型フェノール樹脂の１０パーセントアルコール溶液をＡ液として準備する。酢酸鉄（III）の１パーセントアルコール溶液をＢ液として準備する。還元剤としてジエチレングリコールをＣ液として準備する。Ａ液５０ミリリットルとＢ液５０ミリリットルとＣ液１ミリリットルとを十分混合する。それにより得られた混合液を鉄板上に塗布した後、低温側の温度（摂氏１６０度）で３０分間加熱処理を行い、さらに、酸素不在かで高温側の温度（摂氏５００度）で６０分間加熱処理する。これにより、グラファイトの薄膜で被覆された鉄板が得られる。 （もっと読む）

【課題】希薄水溶液からでも簡単な操作で、効率よくリチウムを分離、濃縮、精製しうるリチウム回収方法を提供する。
【解決手段】金属多孔体の空間部分にリチウム吸着能を有する吸着剤を充填してなる電極をリチウム含有水溶液中に浸漬して前記電極に電圧を印加して被処理液中のリチウムを吸着させる吸着工程と、前記リチウムを吸着した電極に電圧を印加して前記リチウムを吸着した吸着剤からリチウムを脱着させるリチウム脱着工程とを含むリチウムの回収方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、陽極箔の静電容量を向上し、漏れ電流を低減した電解コンデンサ用陽極箔を提供することを目的とするものである。
【解決手段】アルミニウム箔１０の表面に誘電体酸化皮膜層１１が形成された電解コンデンサ用陽極箔であって、前記誘電体酸化皮膜層１１が、アルミニウム箔の表面から順に酸化アルミニウム皮膜１２、酸化アルミニウムよりも誘電率の高い高誘電率酸化皮膜１３、リン酸根を含む酸化アルミニウム皮膜１４を形成した電解コンデンサ用陽極箔とすることにより、静電容量を向上し、漏れ電流を低減した電解コンデンサ用陽極箔を提供することができる。また、電解コンデンサ用陽極箔をアルミ電解コンデンサに用いることにより、コンデンサ特性（静電容量、漏れ電流、ＥＳＲ）を向上させることができる。 （もっと読む）