国際特許分類[C23C18/34]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般 (47,648) | 金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般 (43,865) | 液状化合物または溶液のいずれかからなる被覆形成化合物の分解による化学的被覆であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの;接触メッキ (2,675) | 還元または置換によるもの,例.無電解メッキ (2,437) | 金属による被覆 (1,076) | 鉄,コバルトまたはニッケルのうちいずれか一種による被覆;これら金属の1つとりんまたはほう素の混合物で被覆するもの (257) | 還元剤を用いるもの (166)
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次亜りん酸塩を用いるもの (81)
国際特許分類[C23C18/34]に分類される特許
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異方性導電接続用導電性粒子
本発明の実施形態には、リン含量が約1.5重量%未満の導電性ニッケル/金(Ni/Au)複合金属層が高分子樹脂粒子の表面上に形成されてなる導電性粒子が含まれる。その形成方法もまた含まれる。リン含量が約1.5重量%未満のNi/Au複合金属層を有する導電性粒子は、相対的に高い導電性を有しつつ、高分子樹脂粒子へのNi/Au金属層の接着性が相対的に優れる。本発明の他の実施形態によれば、本発明の実施形態による導電性粒子を含む異方性接着剤組成物が提供される。 (もっと読む)
切削用振動体、振動切削ユニット、加工装置、成形金型、及び光学素子
【課題】 線膨張係数が小さな保持部材によって高精度の加工を可能にする振動切削ユニットであって、切削工具の着脱を繰り返しても工具取付面が破損し難い振動切削ユニットを提供すること。
【解決手段】 ツール部21先端に設けた溝21xの内面には、下地部分SBよりも硬度の大きな表面被覆層SFが形成されている。このような表面被覆層SFは、溝21xの下側において工具取付面SSを形成するので、工具取付面SSの硬度を高めることができる。本実施形態のように、工具取付面SSの硬度を高くした場合、切削工具23の着脱を繰り返しても、工具取付面SSに傷や変形が生じにくいので、切削工具23をしっかり固定することができ、振動体82の発熱若しくは加熱を低減できる。
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無電解ニッケルめっき液およびそれを使用しためっき方法
【課題】鉛を含まない無電解ニッケルめっき液およびそれを使用しためっき方法を提供する。
【解決手段】無電解ニッケルめっき液の安定剤として、例えば、クエン酸ビスマスアンモニウム、酒石酸ビスマスカリウム、酒石酸ビスマスナトリウム等、高濃度の無電解ニッケルめっき原液に易溶性のビスマス塩化合物を採用する。それのより、安定剤として鉛を含む従来の無電解ニッケルめっき液と遜色のない浴寿命を有し、かつ、得られためっき皮膜2が優れた電気抵抗特性を示す無電解ニッケルめっき液を提供できる。
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金属−多孔質基材複合材料及びその製造方法
【課題】多孔質基材上にその形状と表面積を損なうことなく金属を担持させ、当該金属を粒状もしくは針状にして表面積をさらに大きくした金属−多孔質基材複合材料を得る。
【解決手段】金属M2よりも酸化還元電位の低い金属M3のイオンを含む溶液に超音波をかけながら多孔質基材を浸漬して多孔質基材に金属イオンM3を担持させる工程と、金属イオンM3を担持した多孔質基材を純水あるいは希薄酸溶液に浸漬する工程と、金属M2のイオンを含む溶液に超音波をかけながら金属イオンM3を担持した多孔質基材を浸漬して多孔質基材に金属M2のコロイドを担持させる工程と、金属イオンM2のコロイドを担持した多孔質基材を純水あるいは希薄酸溶液に浸漬する工程と、金属M1のイオン及び還元剤を含み平滑化剤の濃度を50ppm以下とした溶液に金属M2のコロイドを担持した多孔質基材を浸漬する無電解めっき工程とを含むようにする。
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マイクロエレクトロニクス応用における無電解堆積の欠陥及びプロセス制御
マイクロエレクトロニクデバイスの製造においてコバルト,ニッケル,あるいはこれらの合金を基板上に無電解的に(electrolessly)堆積する(depositing)方法と組成体(composition)。無電解コバルト及びニッケル堆積溶液のためのグレインリファイナー(grain refiner), レベラー(leveler),酸素除去剤(oxygen scavenger) ,及び安定化剤(stabilizer)。 (もっと読む)
無電解ニッケルめっき浴およびそれを用いた無電解めっき方法
【課題】プリント基板などの銅電極の上に、選択的に直接無電解ニッケルめっき膜の形成が可能な無電解ニッケルめっき浴およびそれを用いた無電解めっき方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】酢酸ニッケルを主成分とする金属供給源としてのニッケル塩と、還元剤としてのヒドラジンと、錯化剤としてのEDTAおよび乳酸と、pH緩衝剤としてのホウ酸とからなる無電解めっき浴とし、絶縁樹脂1の表面に銅電極2が形成された被めっき物を無電解めっきすることにより、高純度ニッケルめっき膜4を形成する。
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導電性組成物
【解決手段】(a)(A)一分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、
(B)一分子中に少なくとも2個の珪素原子に結合した水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、
(C)白金族金属系触媒
を含有するシリコーンゴム組成物:3〜40重量%、
(b)非導電性母材粒子の最外層表面が金属で被覆され、かつ(a)成分の重合体の比重に対する差が±1.5以内である比重を有する導電性粒子:3〜40重量%、
(c)金属粉末からなる導電性粒子:30〜94重量%(但し、この(c)成分の含有量は(b)成分の含有量より多い)
を含有することを特徴とする導電性組成物。
【効果】本発明の導電性組成物は、貯蔵安定性に優れ、硬化性の経時変化が小さく、かつ硬化して得られる導電性ゴムの体積抵抗率の経時変化が小さい。
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耐摩耗性チタン材
【課題】 疲労寿命および耐摩耗性、密着性などの特性を保障しうる、信頼性の高いNi−Pめっきを施した、耐摩耗性チタン材を提供することである。
【解決手段】 Ni−Pめっき皮膜を設けたチタン材であって、Ni−Pめっき皮膜が、質量%で、Ni:85%以上、P:1〜5%、NH4 基:0.1〜1%を含むNi合金からなるとともに、X線回折法によるNi−Pめっき皮膜組織解析における皮膜の結晶子平均サイズが1〜5nmである結晶性めっき皮膜からなり、かつ前記チタン材とNi−Pめっき皮膜との界面に、Niが99%以上からなるNiまたはNi合金層か、Pdが90%以上からなるPdまたはPd合金層かの、少なくともいずれか一方が形成されており、Ni−Pめっき皮膜のめっきままでの硬度が500Hv以上であることとする。
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水素吸蔵合金の表面処理方法、表面処理された水素吸蔵合金及びこれを用いたニッケル−水素二次電池
【課題】 水素吸蔵合金の表面処理方法、表面処理された水素吸蔵合金及びこれを用いたニッケル−水素二次電池を提供する。
【解決手段】 水素吸蔵合金粒子の表面に耐久性ニッケル被覆膜を形成し、かつ、その被覆量を特定範囲内に制御することによって、電気化学的特性、特にサイクル初期の活性と高率放電特性を向上させ、同時にサイクル寿命特性を向上させることを特徴とする、水素吸蔵合金粒子の表面処理方法。
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無電解ニッケル複合めっき浴および無電解ニッケル合金複合めっき浴
【課題】 有害物質である鉛等を実質的に含有させずに、良好なめっき皮膜が得られ、めっき被膜中への水不溶性材料の共析が優れると共に、めっき浴の連続使用を達成できる無電解ニッケル(合金)複合めっき浴を提供すること。
【解決手段】 水溶性ニッケル塩、還元剤、モリブデン及びアンチモン並びに水不溶性材料を含有する無電解ニッケル複合めっき浴およびこれに更に合金化金属塩を含有する無電解ニッケル合金複合めっき浴。
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