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国際特許分類[C23C18/42]の内容

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【課題】ソルダーレジストや下地ニッケルに腐食を生じさせることなく、配線基板に半田接合性やワイヤーボンディング特性が良好な金めっき皮膜を形成できる安全性の高い置換金めっき液を提供する。
【解決手段】金イオンとして0.5−5g/Lの水溶性亜硫酸金化合物と、5−200g/Lの亜硫酸及び/又はその塩と、5−50g/Lの水溶性ポリアミノポリカルボン酸及び/又はその塩とを含有し、エチレンジアミン及びタリウムを含まない無電解金めっき液。 (もっと読む)


【課題】残渣等へのめっきの析出を防止することが可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板60の表面に二酸化ケイ素からなる第1下地膜62を形成する工程と、第1下地膜62の表面に金属からなる所定パターンの第2下地膜65を形成する工程と、基板60をカップリング処理液71に浸漬して、残渣70aが付着した第1下地膜62の表面にカップリング膜72を形成する工程と、基板60をめっき処理液に浸漬して、第2下地膜65の表面に選択的にめっき皮膜を形成する工程と、を有する構成とした。 (もっと読む)


本発明は、0.01〜20g/Lの銀イオンまたは銀錯体イオン、0.1〜150g/Lのアミン錯化剤、0.1〜150g/Lのアミノ酸錯化剤、および0.1〜150g/Lのポリヒドロキシ酸錯化剤を含む弱アルカリ性の化学銀めっき溶液に関する。本発明において提供する弱アルカリ性の化学銀めっき溶液は、国内および国外の両方で現在一般的に用いられている酸性の化学銀めっきプロセスに存在する欠点を克服することが出来る。これらの欠点としては、銅ワイヤの消耗および腐食、側面の腐食、ブラインドホール内に銀めっきをすることの困難性、はんだボールの孔隙および溶接の低い強度が挙げられる。前記銀めっき溶液によってめっきされた銀層は、高い腐食耐性、低い接触抵抗、エレクトロマイグレーションが無いこと、高い溶接強度などの特性を有し、めっき片が溶接された場合に、はんだ中に気泡が発生しない。
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【課題】接触抵抗を長期に渡って低く、安定して維持することのできる燃料電池用セパレータを製造する方法を提供する。
【解決手段】燃料電池用セパレータの製造方法は、TiまたはTi合金製の燃料電池用セパレータとしての基板2の表面の少なくとも一部にガスを流通させるガス流路11を形成するための凹部を形成する形成工程S1と、前記凹部を形成した前記基板2の表面に、Ru,Rh,Pd,Os,Ir,PtおよびAuから選択される少なくとも1種以上の貴金属のイオンを含有する酸溶液に浸漬して、前記貴金属の粒子を前記基板2の表面に析出させて付着させる付着工程S2と、前記粒子が付着した基板2を熱処理することで前記基板2の表面に、前記貴金属を含んでなる島状の結晶3を形成する熱処理工程S3と、を含む。 (もっと読む)


【課題】エラストマー材料からなる基体の表面に、密着性の高い金属パターンが比較的簡単な工程で精度よく形成された表面実装用部品を提供する。
【解決手段】表面実装用部品1は、基体3と、基体3の表面に形成されたパターン5とを備えている。基体3は、導電性を有するエラストマー材料によって形成されたもので、導電性を有するエラストマー材料としては、シリコーン系エラストマーをベースにして導電材として機能する銀フィラーを配合してなる材料が利用されている。パターン5は、銅によって形成されたもので、パラジウム化合物を含有する触媒成分含有液を用いて、パターン5に相当する形状の印刷を基体3の表面に施すとともに、当該印刷が施された箇所に銅を含有する金属成分含有液を接触させて、無電解めっき法にて銅を析出させることによって形成されている。 (もっと読む)


【課題】ニッケルめっき皮膜上に置換析出型の金めっき皮膜を形成する際に用いる活性化液であって、安定したハンダ接合強度やワイヤーボンディング接続強度を有する置換型金めっき皮膜を形成することが可能であり、しかも安定性が良好で、長期間連続して使用可能な新規な処理剤を提供する。
【解決手段】(i) ニッケルイオンの錯化剤、
(ii)チオ尿素、チオ尿素誘導体、イソチオ尿素、イソチオ尿素誘導体及びこれらの塩からなる群から選ばれた少なくとも一種からなる酸化防止剤、
(iii) ヒドラジン及びヒドラジン誘導体からなる群より選ばれる少なくとも1種の成分、
(iv) アミノ基及びイミノ基からなる群より選ばれる含窒素基を2個以上含み、置換基を有することのあるエチレン基を該含窒素基の窒素原子間に有する化合物、並びに
(v)ニッケルと金の間の酸化還元電位を有する金属元素を含む化合物、
を含有する水溶液からなる置換析出型金めっきの前処理用活性化組成物。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、孔径が50〜1000nmである細孔を有する金多孔質体の製造方法、および当該金多孔質体を提供することである。
【解決手段】本発明にかかる金多孔質体の製造方法は、例えば、モリブデン板を塩化金塩酸に1時間浸漬し、金ナノ粒子を析出させる工程(「コーティング工程」)、アルゴン雰囲気中930℃で10分間、上記モリブデン板を加熱して金ナノ粒子同士を接合する工程(「焼結工程」)、および酸化雰囲気中で上記モリブデン板を900℃程度まで加熱してモリブデン板を酸化および昇華させて除去する工程(「昇華工程」)を含む。上記製造方法により、例えば、孔径が100〜300nmである細孔を有し、空孔率は14.5%、厚さ500nmである膜状金多孔質体を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】液安定性に優れ、また中リン濃度のNi-Pめっき金属層からなる下地であっても該下地を荒らすことなくめっきが行える非シアン無電解金めっき液を提供する。
【解決手段】本発明に係る非シアン無電解金めっき液は、シアン系化合物を含有しない非シアン無電解金めっき液において、該無電解金めっき液には、金の安定化錯化剤として、ビス−(3−スルホプロピル)ジスルファイドが添加されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】一貫して湿式法により絶縁基体の表面に密着性の優れためっき層を形成しためっき体、およびめっき方法を提供することにある。
【解決手段】ガラス基板に対する酸・アルカリ洗浄工程ST1工程、マスキング工程ST2、触媒化処理工程ST3、無電解ニッケルめっき工程ST5、金めっき工程ST6をこの順に行う。ニッケルめっき層としては、リン含有量が6〜10質量%のニッケルめっき層(柱状析出タイプの中リンニッケルめっき層)を用いる。また、中リンニッケルめっき層を形成する前段階で行う洗浄工程では、水洗浄として超音波洗浄を行い、水洗浄後には水溶性有機極性溶媒による溶剤洗浄を行う。 (もっと読む)


【課題】導電性が良好で、かつ電極との接続信頼性の高い、突起を持つ銀めっきされた導電性微粒子を提供する。
【解決手段】 基材粒子の表面にニッケルメッキ被膜が形成され、該ニッケルメッキ被膜下地層の表面に無電解銀メッキにより銀メッキ被膜が形成され、最表面に微小突起を有することを特徴とする導電性微粒子。ニッケルメッキ被膜の表面に銀メッキ被膜が形成されていることにより、経時的にニッケルメッキ層が腐食して電気抵抗が増大することなく、しかも安価で電気抵抗が低い銀メッキ被膜を有しているため、導電性が良好なものとなる。 (もっと読む)


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