説明

国際特許分類[C23C4/00]の内容

国際特許分類[C23C4/00]の下位に属する分類

国際特許分類[C23C4/00]に分類される特許

21 - 30 / 55


【課題】長時間の使用によってもドロス等の異物の付着がなく、安定して高品質のめっき製品を製造することができる溶融金属めっき浴用ロールを提供する。
【解決手段】溶融金属メッキ浴に浸漬して用いる溶射皮膜が被覆されたドロス排出溝を有するめっき浴用ロールにおいて、上記溶射皮膜被覆後のドロス排出溝の断面形状は、基材頂部が上に凸の曲線からなり、溝部断面積Sと基材部断面積Bとの比(S/B)が1.0以上である、好ましくは、溝部断面積S(mm)と溝ピッチP(mm)との比(S/P)が0.1以上であることを特徴とする溶融金属めっき浴用ロール。 (もっと読む)


【課題】開口部を有するマスクを用いて、リードフレームの表面にアルミニウム膜を成膜してなる成膜品の製造方法において、一度使用したマスクを掃除することなく成膜工程に再度使用できるようにする。
【解決手段】成膜材料であるアルミニウムと同一の材料にてマスク100を形成し、溶射によりアルミニウム膜40を形成した後、上面および開口部101の側面に溶射アルミニウム40aが付着したマスク100をリードフレーム40より取り外し、溶射アルミニウム40aとともにプレスすることにより、アルミニウム膜40の成膜工程に再度使用可能な形状に、成形する。 (もっと読む)


【課題】調整可能プラズマスプレーガン装置(10)を提供すること。
【解決手段】 一実施形態では、調整可能プラズマスプレーガン装置(10)は、前方部分及び後方部分を有するプラズマスプレーガン本体(20)と、後方部分においてプラズマスプレーガン本体(20)に取り外し可能に取り付けるように構成された第1のカプラ(30)とを含み、第1のカプラ(30)が、後方部分においてプラズマスプレーガン本体(20)に取り外し可能に取り付けるように構成された第1の軸方向開口(33)を有する第1の部分(32)と、電極本体(40)又は第2のカプラ(50)の一方に取り外し可能に取り付けるように構成された第2の軸方向開口(35)を有する第2の部分(34)とを含む。 (もっと読む)


【課題】プラズマ溶射システム(102)用のガス分配リング(142)組立体(100)を提供する。
【解決手段】本リング組立体は、その内径(148)にガスを流すことのできる複数の開口部を備えたガス分配リング(142)を含む。本リング組立体はまた、ガス分配リング(142)とプラズマ溶射システム(102)の帯電出口(110)との間で該ガス分配リング(142)と軸方向に整列した別個の位置決めリング(144)を含む。 (もっと読む)


【課題】アーク溶射における粗大粒子の発生を防止する。
【解決手段】アーク溶射装置100に、第一線材1を長手方向に移動可能に支持する第一チップ112と、第二線材2を長手方向に移動可能に支持する第二チップ114と、
第一線材1を第一チップ112に供給する第一線材供給装置130と、第二線材2を第二チップ114に供給する第二線材供給装置140と、第一チップ112と第二チップ114との間に設定電圧を印加することにより第一線材1の先端部と第二線材2の先端部との間でアーク放電を発生させる電源装置150と、アーク電圧を経時的に測定する電圧測定装置160と、アーク電圧に基づいてスパイク電圧の発生の有無を判定するとともにスパイク電圧が発生していると判定した場合には第一供給速度、第二供給速度および設定電圧を変更する制御装置171と、を具備した。 (もっと読む)


【課題】溶射の進行に合わせて送給されるワイヤに対するコンタクトチップの安定した接触状態を維持して通電状態を安定化すると共に電極寿命を延ばす。
【解決手段】旋回する溶射ガン2の中央にワイヤ3を溶射の進行に合わせて送給し、一対の電極間にプラズマを発生させ、そのプラズマによりガス噴出孔から噴射されるガスを燃焼させて前記ワイヤ3を溶融し、溶融した溶融金属を被溶射物に向けて噴射して溶射皮膜を形成する溶射皮膜形成装置。この溶射皮膜形成装置では、溶射ガン2の旋回による遠心力Fを受けてワイヤ3と接触する接触状態を維持し且つ導電性を有したコンタクトチップである金属ローラ15を一方の電極とし、前記ガス噴出孔近傍に設けた電極13を他方の電極とした。 (もっと読む)


【課題】溶融粒子の飛行速度を高め、皮膜性能の向上を図ることができる粒子加速ノズル付きプラズマ溶射装置およびプラズマ溶射方法を提供する。
【解決手段】プラズマ溶射装置において、プラズマジェットFを噴射するプラズマガン3のノズル部2と接続される加速ノズル5を有し、加速ノズル5は、その先端に向けて内径が連続的または段階的に拡大するノズル孔を有し、ノズル孔における周方向内壁に、加速ノズル先端側に向けて略筒状のシールドガスを噴射するための噴射口T0〜T4が形成され、上記噴射口は、ノズル孔の中心軸C方向に複数段設けられ、各段の噴射口にガスを供給するガス供給路5n,5j〜5mが個別に設けられ、プラズマジェットの噴射方向において少なくとも最上流側の噴射口に通じるガス供給路5nに、不活性ガスまたは不活性ガスを主成分とするガスが供給されるように構成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】局所的に腐食された部材を修理することにより、耐食性を損なうことなく、長期間の製品寿命を維持できる耐食性部材を提供する。
【解決手段】耐食性部材1は、基材2と、基材2上に形成された第一の酸化物皮膜3と、第一の酸化物皮膜3とは別種の材料により、基材2上に形成された第二の酸化物皮膜4と、を備える。このように耐食性部材1では、基材2が2種類の酸化物皮膜で被覆されている。たとえば、プラズマ環境で使用された部材の部分的に腐食された箇所を高耐プラズマ性の材料で被覆し修理することで本発明の耐食性部材1が作製される。その結果、修理された耐食性部材1は、長期間の使用が可能となる。また、第二の酸化物皮膜4を部分的に被覆することができるため、リコート回数を低減させ耐食性部材1を長期間使用することができる。 (もっと読む)


【課題】溶射成膜の際に生じる残留応力を予測できるようにする。
【解決手段】温度および速度を含む第1の解析条件の単一の溶射粒子を基材に衝突させたときの第1の残留応力を、基材を固体のラグランジェ要素、溶射粒子を流体のオイラー要素としてモデル化した数値解析によって求める単一粒子解析工程(S3,S4)と、単位面積あたりの溶射粒子の個数を含む第2の解析条件で複数の溶射粒子を基材に衝突させたときの第2の残留応力を第1の残留応力の重ね合わせによって予測する予測工程(S5)とを行って、基材に溶射粒子を溶射して成膜する溶射成膜の際に生じる残留応力を予測する。 (もっと読む)


【課題】副トーチの部品点数を少なくし、副トーチ全体の簡素化、小型化を図るとともに、プラズマ及びプラズマ炎の直進性、安定性を向上させ、プラズマ出力を増加させる。
【解決手段】陰極及び陽極並びにプラズマガス供給手段を有する主トーチ1と副トーチ2からなる複合トーチ型プラズマ発生装置において、副トーチ2、39が、主トーチ軸芯を中心として放射線上に複数個設けられ、各副トーチ2,39の陽極10A、40は、外套11、41により囲まれており、外套11,41の内壁には、陰極が設けられている。 (もっと読む)


21 - 30 / 55