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国際特許分類[C23C4/00]の内容

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国際特許分類[C23C4/00]に分類される特許

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【課題】ワークを外側から把持せずに簡単に位置決めできる上に、溶射中風圧により動くことがないように、ワークを確実に固定することができる溶射装置を提供する。
【解決手段】ターンテーブル2に、ワークWを支持するワーク支持具26A〜26Dを回転自在に支持する。ターンテーブルの回転中心軸線Oに沿って昇降する昇降台32を設けて、この昇降台の上にワーク位置決め装置を取り付ける。ワーク位置決め装置は、ワーク支持具26A〜26Dの支持台21A〜21Dの上にそれぞれ載せられたワーク相互間に介在するように設けられた位置決めブロック33AB,33BC,33CD,33DAを備えていて、位置決めブロック33AB,33BC,33CD,33DAのそれぞれに設けられたワーク位置決め部が各位置決めブロックの両側のワークWの外周面に接触させることにより各ワークの中心軸線をワーク支持具の回転中心軸線にほぼ一致させるように位置決めする。 (もっと読む)


【課題】円筒型ガラス管内壁に溶射膜を形成する際、ガラス管を横型にして回転させながら溶射していたが、ガラス管を十分保持できなかったため、回転中にガラス管のぶれ・位置ずれ・脱落等が生じ、均一な溶射膜形成が困難であった。
【解決手段】プラズマガン、回転台座、アーム及び排気ダクトを備えたプラズマ溶射装置であって、回転台座は、円筒型ガラス管の中心軸を中心として回転可能なように円筒型ガラス管を鉛直に保持し、アームは、プラズマガンから照射されるプラズマフレームが円筒型ガラス管内壁に届く距離に、ガラス管に対向させるようプラズマガンを保持し、かつ回転台座に対して上下左右に移動可能であり、排気ダクトは、溶射により発生する円筒型ガラス管内部の粉塵を排気するために、回転台座の内側またはアーム移動範囲外にダクトを備えたプラズマ溶射装置。 (もっと読む)


【課題】プラズマ化された作動ガスの噴射口の数を減らすことができて構造を簡素化でき、しかも仮に作動ガスの噴射方向がズレたとしても、完全に溶融された溶射材料を含むプラズマフレームを作り出すことができて、溶射材料の効率的な使用ができるプラズマ溶射装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ溶射装置100の噴射通路12を、溶射材料17の1つの供給口15の両側に開口される2本のものとし、これら2本の噴射通路12を、その軸心方向がノズル陽極11の外側にて交差するようにするとともに、これら2本の噴射通路12の各内方に2本の陰極13を配置し、各噴射通路12の開口中心線が互いに平行で開口面積が同じ長穴としたこと。 (もっと読む)


【課題】 プラズマジェットフレームを高出力で比較的長時間にわたって連続して発生することのできるプラズマ溶射装置を得る。
【解決手段】 タングステンチップ12を有するカソード電極10と、該カソード電極10の前方に配置されたノズル状の第1アノード電極20と、カソード電極10の近傍に不活性ガスを供給する第1供給孔31と、第1アノード電極20の前方に配置されたノズル部材40と、該ノズル部材40の前方に配置された回転式の第2アノード電極50と、ノズル部材40の空間部に空気、水又は水蒸気を供給する第2供給孔32とを備えたプラズマ溶射装置。カソード電極10と第1アノード電極20との間に放電を発生させることでパイロットプラズマフレームを生じさせ、カソード電極10と第2アノード電極50との間に放電を発生させることで前記パイロットプラズマフレームが成長したプラズマジェットフレームを生じさせる。 (もっと読む)


半導体処理に用いるための清浄な基板を製造する方法であって、基板を粗面化処理してミクロ割れを発生させ、次いで、高濃度強酸で処理し、その後、少なくとも1種の金属酸化物を含有する物質で被覆する方法。
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