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国際特許分類[C23F1/08]の内容

国際特許分類[C23F1/08]に分類される特許

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【課題】 電解粗面化処理、及び陽極酸化処理において、粗面化が不均一となったり、陽極酸化皮膜に欠陥が生じたりするのを効果的に抑制することができる平版印刷版用紙自体の製造方法を提供する。
【解決手段】
陽極酸化処理装置410により、酸性水溶液を濾過ライン438の濾過装置458で固形物を除去しながらアルミニウムウェブ12に陽極酸化皮膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】圧縮空気の消費量を最小限に抑えつつ、好適なE/Fを得ることが可能なエッチング方法の提供。
【解決手段】エッチング液を1流体ノズル20から噴射してエッチング対象物1のエッチング対象面に吹き付けることによって、エッチング対象面をエッチングする第1のエッチング工程と、エッチング液と気体とを混合して2流体ノズル30から噴射し、第1のエッチング工程でエッチングされたエッチング対象面にエッチング液を吹き付けることによって、エッチング対象面をさらにエッチングする第2のエッチング工程と、を備える。第2のエッチング工程では、第1のエッチング工程よりも微小液滴のエッチング液を、第1のエッチング工程よりも強い打力でエッチング対象面に吹き付ける。 (もっと読む)


【課題】装置の大型化を抑制し基板上の薬液が累積することなく液切りが良好に行える薬液処理装置を提供する。
【解決手段】帯状の基板(1)を長手方向(DR1)に搬送する基板搬送部(51)を備え基板(1)を搬送しつつその上表面(1u)に付着した薬液(LQ)の液切りを行う。基板搬送部(51)は、基板(1)を上下から対向挟持して搬送させる上ローラと下ローラとからなるローラ組を、第1〜第3のローラ組(R3〜R5)として長手方向(AR1)に沿ってその順に有する。上ローラと下ローラとによって基板(1)を挟む挟持位置について、第2のローラ組(R4)の挟持位置(KP4)が第1及び第3のローラ組の挟持位置(KP3,KP5)よりも低い位置にある。 (もっと読む)


【課題】フラットな物品、例えばシリコン基板の、発生する反応ガスを吸引しながら行う片面の湿式化学的な処理を可能にし、その際、気泡の破裂に基づく上面の所望されない濡れの上述の問題を、この面の保護を必要とすることなく回避する装置及び方法を提供する。
【解決手段】捕集チャンバ(10)が、出口(9)の領域に流入開口(11)を備えるとともに、入口(8)の領域に流出開口(12)を備えて、排気通路(13)を形成し、搬送ガス(G)が、排気通路(13)を搬送方向(7)とは逆向きに、かつ搬送平面(6)及び搬送方向(7)に対して略平行に通流可能であるようにした。 (もっと読む)


【課題】液相処理をより均一に行うことができる処理装置等を提供する。
【解決手段】本発明に係る処理装置は底面と、前記底面に連続する側面と、前記側面と連続する第1開口と、前記側面に位置する第2開口と、を有する処理槽と、前記第2開口に設けられた導入部と、前記導入部から前記処理槽内に延び、末端部を有する配管と、前記配管に設けられた複数の吐出孔と、を含み、前記複数の吐出孔は、第1吐出孔と、第2吐出孔と、を含み、前記第2吐出孔は、前記第1吐出孔よりも前記末端部側に配置され、前記第1吐出孔の開口面積は前記第2吐出孔の開口面積より大きい。 (もっと読む)


【課題】多層配線基板の表層から内層に到る有底ビアを電気的に接続するためのめっきを行う際に、内層とめっきとの接続信頼性を確保可能なめっき前処理装置及びめっき前処理方法を提供する。
【解決手段】被めっき体である前記多層配線基板の脱脂を行う脱脂槽と、脱脂に用いた脱脂液を前記多層配線基板から洗浄除去する水洗槽Aと、前記多層配線板の貫通ビアの内壁に露出した内層端面または有底ビアの底部に露出した内層表面に対してエッチングを行うソフトエッチング槽と、前記エッチングに用いたソフトエッチング液を前記多層配線基板から洗浄除去する水洗槽Bと、を備え、前記水洗槽Aの水洗水の実際の温度が、前記ソフトエッチング槽のソフトエッチング液の設定温度に対して、所定範囲に制御されるめっき前処理装置及びこれを用いためっき前処理方法。 (もっと読む)


【課題】母材を腐食させずに、残存なく金属結合層を酸洗剥離する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】酸洗処理方法は、表面に溶射膜を備えた母材を強酸性水溶液に浸漬して酸洗処理する酸洗処理工程と、母材が浸漬された強酸性水溶液の電位を測定する電位測定工程と、測定した電位の変化に基づき、測定した電位が上昇傾向を示したか否かを判定する判定工程と、を備え、測定した電位が上昇傾向を示したと判定された場合に、酸洗処理を終了する。 (もっと読む)


【課題】エッチング液がケース外に漏れるのを減らし、エッチング品質を高める垂直搬送式エッチング装置を提供する。
【解決手段】二列の搬送ローラー柱10,11,12,20,21,22と、動力入力ギアセット30と、ローラー柱台座40,41と、エッチング液ノズル50,51と、ケース60とによって構成する。動力入力ギアセットは、二列の搬送ローラー柱の頂部に設けられ、外部の動力で作動する上層ギアセット31と、下に動力を伝える下層ギアセット32とで構成する。また、下層ギアセットの両側の反対方向に回転する最終動力伝達ギアは、対応する搬送ローラー柱の頂部に差し込まれ、各搬送ローラー柱の底部は、対応するローラー柱台座を挿入してケース内の底面に固定され、一列の搬送ローラー柱の底部のローラー柱台座は、二列の搬送ローラー柱の底部の中間に向かって延伸し、回路基板の底縁を転がす搬送ローラーを形成する。 (もっと読む)


【課題】エッチングにより配線基板を製造する場合、配線基板の面内におけるエッチングのばらつきを抑制すること。
【解決手段】エッチングにおいては、基板1の搬送方向側に中間基準体20を配置して、エッチング装置に搬送する。このとき、スプレー11と、このスプレー11に対して搬送方向側に最初に配置された吸引ノズル12との距離をA、吸引ノズル12と、この吸引ノズル12に対して搬送方向側に最初に配置されたスプレー11との距離をB、搬送方向側における基板1の捨て領域1Dの長さDと中間基準体20の長さEとの和をCとしたとき、A+B≦Cである。 (もっと読む)


【課題】エッチング液を所定の硝酸濃度、酢酸濃度及び燐酸濃度に自動制御し、かつエッチング処理槽の液補給に対して適切な管理を行ない、もってエッチング性能を常時一定化するエッチング装置を提供する。
【解決手段】エッチング液を貯留するエッチング処理槽1と、エッチング液を循環させるエッチング液循環機構10と、アルミニウム膜を含む基板を搬送するエッチング処理機構5と、を備えるエッチング処理装置において用いられるエッチング液管理装置において、エッチング液サンプリング手段34と、エッチング液の吸光度を1920〜1960nmの範囲のうち特定の測定波長を用いて測定することにより、前記エッチング液の水分濃度に相関する吸光度値を得る吸光光度計Eと、前記吸光光度計により得られた吸光度値に基づいて、前記エッチング処理槽に補充液を供給する補充液供給手段24〜27と、を備える。 (もっと読む)


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