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国際特許分類[C23F1/32]の内容

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国際特許分類[C23F1/32]に分類される特許

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【課題】超硬材工具類又は金型類等の超硬材表面の硬質被膜を選択的に除去でき、かつ、超硬母材の劣化を最小限に抑制することが可能な超硬材における硬質被膜の除去方法を提供する。
【解決手段】第4族元素、第5族元素及び第6族元素からなる群より選ばれた少なくとも1種の元素の炭化物を含有する超硬合金粒子が、Fe、Co、Cu及びNiからなる群より選ばれた少なくとも1種の元素あるいはこれらの元素を含有する合金からなるバインダー金属で焼結された超硬母材の表面を、第4族元素、第5族元素、第6族元素、第13族元素及び第14族元素(但し、炭素は除く。)からなる群より選ばれた少なくとも1種の元素の窒化物、炭化物、炭窒化物、酸化物又はホウ化物を含有する硬質被膜で被覆してなる超硬材を、硬質被膜除去用の処理容器内にてアルカリ薬液に接触させることによって硬質被膜を除去する方法であって、
前記超硬母材に対して犠牲陽極として作用する金属を、前記超硬母材に接触させた状態で、前記超硬母材と共に前記アルカリ薬液中に配置する硬質被膜の除去方法。 (もっと読む)


【課題】銅箔圧延加工用エンボスローラの表面に付着した銅を容易かつ確実に取り除くことが可能なエンボスローラのメンテナンス方法およびメンテナンス装置を提供する。
【解決手段】表面に凹凸を有する銅箔圧延加工用エンボスローラのメンテナンス方法であって、エンボスローラを、銅アンモニア錯体を含むpH8〜13の銅エッチング液に浸漬し、エンボスローラの表面に付着した銅を溶解除去する。 (もっと読む)


【課題】シリコンエッチングにおいて、結晶面によるエッチング速度比やエッチング面の平滑度などのエッチング特性を維持しつつ、且つシリコンエッチング速度が高くシリコンエッチングプロセス時間が短縮されるエッチング剤組成物並びにこのエッチング剤組成物を用いるシリコンのエッチング方法を提供すること。
【解決手段】
無機アルカリ化合物およびヒドロキシルアミン類を含有することを特徴とするシリコン微細加工に用いるエッチング剤組成物、並びにこのエッチング剤組成物を用いるシリコンのエッチング方法。
なし (もっと読む)


【課題】エッチング槽中でシリコン基板を異方性エッチングして構造物を形成する際に行う異方性エッチングのエッチングレートを安定化し、得られる構造物の開口幅のばらつきを抑制する方法を提供すること。また、良好な吐出特性を有するインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】エッチング槽2中に存在するエッチング液の、PH電極10により測定される電位差を一定にする制御を行う。また、この方法を利用してインクジェット記録ヘッドのインク供給口を形成する。 (もっと読む)


【課題】 半導体基板の金属不純物の汚染を抑制し得る半導体基板表面処理剤及び半導体基板表面の処理方法、特に、半導体基板のエッチング剤及びエッチング方法を提供すること。
【解決手段】 (1)アミノポリカルボン酸系キレート剤又はその無機塩と20%(W/W)以上のアルカリ金属水酸化物を含んでなる半導体基板表面処理剤、(2)アミノポリカルボン酸系キレート剤又はその無機塩と20%(W/W)以上のアルカリ金属水酸化物を含んでなる半導体基板のエッチング剤、(3)半導体基板を上記(1)に記載の処理剤で処理することを特徴とする半導体基板表面の処理方法、及び(4)半導体基板を上記(2)に記載のエッチング剤でエッチングすることを特徴とする半導体基板のエッチング方法。 (もっと読む)


鉛含有銅合金を溶液中にクロム酸を含まずリン酸化合物を含む酸性溶液に浸漬し、表面の鉛を除去することを特徴とする鉛含有銅合金の鉛溶出低減処理方法及び鉛含有銅合金製水道用器具であるため、酸性のリン酸化合物による若干のエッチング効果と微小なリン酸皮膜が形成されるのみであるので大きな変色を伴うことなく、商品価値も低下しない。また、塩化ナトリウムを添加してもよく、鉛溶出低減についても十分効果がある。前工程として、鉛含有銅合金をアルカリ性のエッチング液に浸漬して表面の鉛を除去してもよい。これらの鉛含有銅合金は外部表面が、ニッケルクロムめっきをはじめとするめっきが施されていても問題はない。
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結晶膜のパターン形成方法を提供する。第1の原子を含む縮退格子を有する結晶膜が第1領域及び第2領域に設けられる。ドーパントが第1領域内の第1の原子を置換し、第1領域に非縮退結晶膜を形成する。第1領域及び第2領域はウェットエッチャントに晒され、ウェットエッチャントは第1領域の非縮退格子をエッチングせずに第2領域の縮退格子をエッチングする。

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【課題】高密度プリント配線板に必要不可欠な樹脂のエッチング方法において、従来法では、液中の炭酸イオン除去について配慮されておらず、液中の水酸化物イオンが低下し、その結果、基板の不良原因を招く恐れがあった。従って、本発明の目的は、液中の反応生成物として蓄積される炭酸イオンを特定の処理液で沈澱除去し、エッチング液の安定化及び長寿命化を図った。その結果、不良が低減し、高信頼性のプリント配線基板製造が可能となる。
【構成】エッチング槽1中のアルカリ性過マンガン過マンガン酸液をポンプ2で循環る際、配管の途中に特定の液3を注入し、反応生成物の炭酸塩を沈澱させフィルター4により濾過して除去し、自動分析装置5によりアルカリ規定度測定し、所定の規定度に調整し、この液により樹脂のエッチングを行う。 (もっと読む)


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