【課題】半導体ウェハ等の被めっき体（基板）にめっきを行う場合に、高電流密度の条件であっても平坦な先端形状のバンプを形成したり、良好な面内均一性を有する金属膜を形成したりすることができるようにする。
【解決手段】めっき装置は、めっき槽１０内のめっき液Ｑに浸漬させて配置されるアノード２６と、被めっき体Ｗを保持しアノードと対向する位置に配置するホルダ２４と、被めっき体と平行に往復移動してめっき液を攪拌するパドル３２と、所定のピッチで垂直方向に延びる複数のスリット部を有する調整板固定用スリット板９６と、電場の拡がりを制限するための開口を有する調整板３４とを備え、調整板は、その側端部を調整板固定用スリット板の任意のスリット部に挿入することによって該調整板の位置が調整可能にめっき槽に取付けられる。 （もっと読む）

【課題】軸体上に形成されためっき皮膜の厚さの均一性に優れる、めっき皮膜を有する軸体の製造方法および軸体上に亜鉛系めっき皮膜を形成するためのめっき液を提供する。
【解決手段】軸体８の被めっき部を内包し両端部が鉛直方向に開口する中空部を有する管状の管状部材７、前記中空部の鉛直方向上側端部の開口の上方に設けられ前記軸体を前記中空部内に保持する支持手段１、前記中空部の鉛直方向下側端部の開口から前記中空部内にめっき液を供給するめっき液噴流手段、前記中空部の鉛直方向上側端部の開口近傍に設けられ前記めっき液噴流手段により前記中空部内に供給されためっき液を前記管状部材外に排出可能にする排出構造９、および前記排出構造を通じて前記管状部材から排出されためっき液を前記めっき液噴流手段に供給する環送手段を備え、前記支持手段は前記軸体と電気的に接続可能な接点部２を備え、前記管状部材はその中空部に不溶性陽極を備える。 （もっと読む）

【課題】気泡の抜けが比較的よく、広い設置面積を必要としないディップ方式を採用し、しかもアノードとして強磁性体を使用したとしても、磁気異方性の均一性に影響を与えることを極力防止しつつ、基板表面に磁性体膜を形成することができるようにする。
【解決手段】めっき槽３０２と、めっき時にめっき電源の陽極に接続されるアノード３１８と、基板を保持してアノードと対向する位置に位置させる基板ホルダ２６と、めっき槽の周囲に配置され、基板ホルダで保持してアノードと対峙した位置に位置させた基板の周囲に基板に平行な鉛直方向の磁界を発生させる、筒状の電磁石からなる磁界発生装置３０６を有し、磁界発生装置は、鉛直方向に配置され、独立した電流を流すことで、鉛直方向に強さの異なる磁界を発生させる複数のコイル３３２ａ，３３２ｂ，３３２ｃを有する。 （もっと読む）

【課題】構成がコンパクトで、かつ極微小の被めっき物に対しても所望のめっき処理を施すことができ、めっき液中の浮遊物や不良品が良品中に混在するのを極力抑制できる回転式のめっき装置とめっき方法を実現する。
【解決手段】めっき処理室４が、上方に開口部８を有すると共に外周部に陰極１０が設けられた回転体１１と、該回転体１１の回転中心に配された筒状部材３と、回転体１１の内部に配された陽極１３とを備えている。回転体１１は、回転体本体１５と該回転体本体１５を支持する底板１６とを有し、陰極１０は回転体本体１５と底板１６との間に介在されている。底板１６を駆動系５に接続してめっき処理室４を回転駆動させる一方、めっき液２を筒状部材３に対してオーバーフローさせて該めっき液を筒状部材３に流入させ、流入しためっき液２を開口部８からめっき処理室４に還流し、めっき液２を循環させる。 （もっと読む）

【課題】角形基板のめっき処理にカップ方式のめっき法を使っても、均一なめっき厚さを得ることができるめっき装置を提供する。
【解決手段】本発明のめっき装置１００は、底面にめっき液噴出口１３０が形成されためっき槽１１０と、めっき液噴出口１３０の上部に位置し、スリット１５５が形成された陽極部１５０と、めっき槽１１０の上部に位置する陰極部１２０とを含む。 （もっと読む）

【課題】処理液の流れ方向を自在に切替えることができ、かつ処理液の流れ方向を切替える際に、処理液の全体的な流量の変化や流れの不均一を生じさせることのないようにする。
【解決手段】処理槽２０に接続され、該処理槽２０内に方向が異なる処理液の流れが形成されるように切替えて使用される複数の入口配管２６ａ，２６ｂ及び出口配管２８ａ，２８ｂと、入口配管２６ａ，２６ｂ及び出口配管２８ａ．２８ｂを通して処理槽２０内に処理液を供給し循環させるポンプ３０を備え、入口配管２６ａ、２６ｂ及び出口配管２８ａ，２／８ｂには、切替えて使用される時に、内部を流れる処理液の流量が時間ととも変化するように制御部４８で制御される流量制御装置４４ａ，４４ｂ、４６ａ，４６ｂがそれぞれ設けられている。 （もっと読む）

【課題】 ワイヤ表面のめっきの成長速度を向上させることができるめっき装置を提供する。
【解決手段】 めっき液３内を走行するワイヤ４の表面にめっきを施すものであって、めっき液３を収容するめっき液槽５と、該めっき液槽５内に縦向きに配置される柱状体６と、めっき液槽５の内周面５１と柱状体６の外周面６１の間に形成されるリング状流路Ｘを縦方向に走行するワイヤ４に対して、リング状流路Ｘでめっき液３を流動させる流動機構９と、を備えるめっき装置。 （もっと読む）

【課題】 接触抵抗が小さい陽極酸化装置、連続陽極酸化装置、および陽極酸化装置または連続陽極酸化装置を用いた製膜方法を提供する。
【解決手段】 陽極酸化可能な金属または少なくとも片面が陽極酸化可能な金属である複合導電金属箔からなる帯状物の密着部分が導電性材料で構成された給電ドラムと、給電ドラムに対向して設けられた対向電極と、帯状物を密着支持した給電ドラムの一部と対向電極を浸漬する電解液が入った電解槽と、給電ドラムにおいて密着支持された帯状物の短手方向端部と帯状物が密着しない部分とをオーバーラップして電解液から保護する保護部材と、給電ドラムに密着させた帯状物と保護部材を電解液中で共走行させる駆動部とを有し、給電ドラムに巻き掛けられた帯状物にかかる幅当たりの張力をＴ（Ｎ／ｍ）、給電ドラムの半径をＲ（ｍ）とし、電解液中を共走行される帯状物にかけられる幅当たりの張力Ｔの値が１０００×Ｒ以上である。 （もっと読む）

【課題】ワークを確実に乾燥でき、また、作業中にワークが飛散するのを防止できる、乾燥機を、提供すること。
【解決手段】回収容器４５が載せられる受板５２と、受板５２に載せられた回収容器４５を上下から密閉するフード５３と、フード５３内に空気を供給して排出する空気給排手段５４と、を備えている。受板５２は、載せられた回収容器４５の底４５１が面する部分に、貫通孔５２１を、有している。空気給排手段５４は、空気好ましくは熱風を送出するブロワ（図示せず）と、ブロワからの空気を上フード部５３１内に供給するための供給管５４２と、下フード部５３２内から空気を排出するための排出管５４３と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】めっき槽内における板状ワークの揺動を防止して、めっき品質の向上を図るとともに、搬送時における基板の脱落や損傷を防止する。
【解決手段】めっき槽２ａが、その上方に設けられた、搬送用ハンガー１５ａを移動方向に搬送する上部ガイドレール１１と、処理槽２ａ内に設けられた、搬送用ハンガー１５ａの下部クランプ４９との間で引力を生じさせる下部ガイドレール１４と、を備え、めっき処理を行っているときに引力を生じさせ、搬送用ハンガー１５ａの下部クランプ４９を下方向に引っ張ることで、板状ワークＷに張力を与える。 （もっと読む）