本発明は、金属有機電解液から金属及び／又は金属合金を分離し及びこれを製品（７）上に沈積する装置（１）に関連し、該装置は、製品（７）を被覆する少なくとも１つの被覆部（３）、少なくとも１つの他の処理部（２、４）及び概ね酸素及び／又は水分の浸透なく製品（７）を装置（１）へ導入及び排出する少なくとも１つの固定チャンバ（２０、４０）を含む。本発明による装置には、被覆部（３）からの装置の他の部分（２、４）のガスに関連した分離を行い又は被覆部（３）に対して該他の部分（２、４）を密閉する分離要素（５３、５４）を含む少なくとも１つのサイフォンすすぎ装置（６０、６１）、並びに不活性ガスで満たすことができ、及び被覆部（３）、少なくとも１つのサイフォンすすぎ装置（６０、６１）及び少なくとも１つの他の処理部（２、４）を概ね気密に囲繞する少なくとも１つのフード部（５）が設けられている。本発明はまた、溶媒の損失が概ねなく、該製品は概ね気密の態様で少なくとも１つの被覆部（３）に配送され、次に被覆され及び概ね気密な態様で少なくとも１つの出力部（４）へと配送され、及び最終製品（７）が排出されるように、製品（７）が装置に導入される対応する方法にも関連する。不活性ガス雰囲気の蓋が本発明の装置の部分（５０、５１、５２）すべての上方に設けられている。
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本発明はハウジングに関するものであり、そのハウジングは、開閉可能な側壁面と屋根面およびスライドゲートを有しており、前壁面（１４Ａ，１４Ｂ）、少なくとも部分的に開閉できる側壁面（１６Ａ，１６Ｂ）、屋根面（１８Ａ，１８Ｂ）を含んでいる。本発明によれば、少なくとも一つの側壁面がカーテン（２０Ａ，２０Ｂ）として構成されており、そのカーテンはその下部端で巻き上げ可能であり、その両端でガイドされるエンドバー（２２Ａ，２２Ｂ）を使って使用できるように保持され、そして上昇または下降することができる。閉じられたとき、ガイドされる少なくとも一つのエンドバー（２２Ａ，２２Ｂ）は輪郭要素（Ｐ）として構成され、少なくとも一部で屋根面を構成し、少なくとも一つ側壁面（１６Ａ，１６Ｂ）の方を向いた境界域を有しており、そこからカーテン（２０Ａ，２０Ｂ）が実質的に垂直に吊り下げられている。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、電気化学めっきセル１００を提供する。該めっきセルは、陽極液コンパートメント及び陰極液コンパートメントを有する流体ボウル１０１、１０２と、該陽極液コンパートメントと該陰極液コンパートメントとの間に配置されたイオン膜１１２と、該陽極液コンパートメント内に配置された陽極とを含み、該イオン膜は、ポリテトラフルオロエチレンをベースとするアイオノマーを備える。 （もっと読む）

【解決手段】湿式化学処理チャンバは、被固定ユニットと、被固定ユニットに着脱可能に結合される着脱ユニットと、被固定ユニット及び着脱ユニットに接触するシールと、被固定ユニット及び／又は着脱ユニットに設けられる処理要素とから構成される。被固定ユニットは、被固定ユニットを介して処理流体を導くように構成されてなる第１の流路系統と、統合処理ツールにおけるプラットホームないしデッキに被固定ユニットをしっかりと取り付けるための取付固定具とを備える。着脱ユニットは、被固定ユニットにおける第１の流路系統へと及び／又は同流路系統から処理流体を導くように構成されてなる第２の流路系統を備える。シールに設けられたオリフィスを通って、処理流体は第１の流路系統と第２の流路系統との間を流れ、処理要素は、サブ・ミクロンの微細構造をもった微細構造ワークピースの表面を処理すべく処理流体に性質を与える。 （もっと読む）

【課題】流れ攪拌器及び／又は複数電極を用いる微小特徴加工物を処理する方法及びシステムを提供する。
【解決手段】位置合せシステムを備えた装着モジュールを有するツール。装着モジュールは、反応装置と加工物を反応装置まで及び反応装置のために移動する加工物搬送装置とを正確に配置するための位置決め要素を含む。反応装置の位置決め要素間の相対位置は、反応装置が取り外されて別の反応装置と交換される時に加工物搬送装置を再較正する必要がないように固定されている。反応装置は、加工物の処理表面での処理流体を攪拌するための攪拌器を含む。攪拌器と、反応装置と、反応装置内の電極とは、攪拌器及び／又は加工物が互いに対して往復する時に加工物の表面で攪拌器によって生じる電気遮断の可能性を軽減し、電界に対する三次元の影響に対処するように構成されている。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、一般に、電気化学的メッキシステムを提供する。このメッキシステムは、メインフレーム処理プラットホームに連通して位置された基板ロードステーションと、メインフレームに位置された少なくとも１つの基板メッキセルと、メインフレームに位置された少なくとも１つの基板ベベル洗浄セルと、メインフレーム及びロードステーションの少なくとも一方に連通して位置されたスタック型基板アニールステーションとを備え、このスタック型基板アニールステーション内の各チャンバーは、加熱プレートと、冷却プレートと、基板移送ロボットとを有している。 （もっと読む）

【課題】導電性シート上に金属めっき膜を形成する電解めっき方法において、厚み制御がしやすく、厚み分布が均一で、めっき液量が少量ですむめっき方法および装置。
【解決手段】導電性シートと前記導電性シート表面から間隔をおいて設置された回転ローラーとの間に、めっき液を保持しながらめっきをおこなう。また前記回転ローラーは表面に凹凸を有し、前記導電性シートと前記ローラー間の間隔を調整する機構を有することで、上記課題が解決する。 （もっと読む）

【課題】液シール性を高めて、ワークの大きさ、めっき厚さ等の浸漬処理条件の変更等に柔軟に対応できる経済的なダム式連続浸漬処理装置を提供する。
【解決手段】ワークＷを浸漬処理する浸漬処理槽Ｄとこの浸漬処理槽の前及び／又は後に配設したボックス槽Ｂとを備えた浸漬処理槽群と、ワークＷを水平走行させる搬送手段Ａと、各ボックス槽の前後に設けたワーク通路１を開閉する、液シール性を高めたゲート手段２と、ボックス槽と浸漬処理槽とに連通する連通パイプと、ボックス槽から排出される処理液を受ける受け槽と、受け槽から対応する浸漬処理槽に液を返送する返送手段とを有し、ボックス槽が、ワーク進行方向に対して直交する方向に複数並設したボックス室ｂ１、ｂ２を有する構成とし、ボックス槽の前後に変換槽Ｃを配設し、変換槽が、複数設けたワーク走行レーンの所望の走行レーンにワークＷを変換する変換手段３１を配設してなる構成である。 （もっと読む）

【目的】 膜圧の均一なめっきを得ることのできる噴流めっき装置を構成する。
【構成】 アノード片を収容する５個のアノードボックス２を設ける。これらアノードボックスに対応して設けられ対応ボックス２内のアノード片に対して電気分解用の電力を供給する５個のめっき電源１，基板９に対してめっき液４を噴出するための５個のノズル、これらノズルに対応して設けられ対応ノズルに対しアノードボックス２を介してめっき液４を供給する５個の循環ポンプを夫々設ける。電源１による供給電力及び循環ポンプ１によるめっき液４の供給量を、基板９の形状、大きさ、配線パターン等に応じて夫々独立に制御することにより、基板表面の電流分布を制御でき、膜圧の均一なめっきが得られる。 （もっと読む）