【課題】めっき終了後、めっき槽内めっき液を排液した後もアノードが空気に晒されず、アノード酸化による悪影響を抑止できるアノードホルダーを提供する。
【解決手段】下端部が開放されているホルダー本体２６と、該ホルダー本体２６内に設けられたアノード３０の係止部２４と、前記ホルダー本体２６の下端面を閉鎖するフィルター２８と、前記係止部２４に保持されたアノード３０より仕切られた上室２７と下室２８とを連通させる通気・通液孔３２と、前記ホルダー本体２６の上室２７に連通するエア抜き手段３４と、を備えるアノードホルダー。 （もっと読む）

【課題】垂直軸で水平可能なめっき槽を用いためっき装置において、めっき効率を改善し、複数の被めっき物に均一なめっき層を形成できるめっき装置を提供する。
【解決手段】垂直軸１で水平回転可能なめっき槽２の内周部が、円盤状の底部２ａに接続し前記底部２ａを拡張するように続く第１傾斜部２ｂと、該第１傾斜部２ｂに接続する円筒部２ｃと、該円筒部２ｃに接続し前記円筒部２を縮小するように続く第２傾斜部２ｄとを具備し、前記円筒部２の少なくとも一部に陰極を配設するめっき装置。 （もっと読む）

【課題】耐食性が低下した酸化膜を有する金属表面について、母材と同程度以上の耐食性を備える不動態皮膜を効率よく形成させる金属方面の処理方法の提供。
【解決手段】金属の機械加工、又は加熱加工が施されることにより耐食性が低下した金属表面に電解液の層を形成し、電解液を介して対象となる金属と電極との間に、交流、若しくは交直重畳波形の電流を通電して金属表面を処理する方法であって、前記金属を超音波振動子で振動させながら電解処理することを特徴とする金属表面の処理方法。 （もっと読む）

【課題】基板を安定的に処理することができる基板の処理方法および処理装置を提供すること。
【解決手段】処理装置１は、内部に液体Ｌが供給されるとともに、供給された液体Ｌに基板２を浸積させる槽１１と、槽１１内部に配置される基板２の基板面が鉛直方向に略平行となるように基板２を保持する保持部１３とを備える。処理装置１は、槽１１の供給口１１１から排出口１１２に向かって液体Ｌを流すと、液体Ｌが、鉛直方向上方側から下方側に向かって基板面に沿って流れるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】より小さな気泡を安定して発生させることができる気泡発生用部材を提供する。
【解決手段】 気孔同士が連通して形成された複数の貫通孔を有するセラミックスの多孔質体と、該複数の貫通孔の内表面にそれぞれ設けられた撥水層または撥油層とを有する。複数の貫通孔は、多孔質体の外表面に位置する開口部をそれぞれ有し、外表面において、複数の前記開口部の間にセラミックスの結晶が露出している。 （もっと読む）

【課題】安定的にめっきを行うことができるめっき方法、電解めっき装置を提供すること。
【解決手段】電解めっき装置２は、導電層１２に接続される陰極２０と、基材１の他面と対向するように基材１の下方に配置される陽極２１と、基材１の他面と、陽極２１との間に電解めっき液Ｌを流す電解めっき液供給部２３とを備える。電解めっき装置２は、電解めっき液供給部２３により、絶縁層１１の他面と陽極２１との間に電解めっき液Ｌを流すとともに、絶縁層１１の他面と、陽極２１との間の電解めっき液Ｌを絶縁層１１の他面よりも下方に排出するように構成される。 （もっと読む）

少なくとも１つの前処理ステーションおよび少なくとも１つの粉体または液体の塗装ステーションを通過する主コンベアライン（５）に沿って移動する主オーバーヘッドコンベア（４）上のフック（８）を用いて連続的に吊り下がるアルミニウムプロファイルの縦型塗装プラント（２）における陽極酸化ステーション（３）は、少なくとも１つの酸化槽（９）と主コンベア（４）と同期して副コンベアライン（１１）に沿って移動する副オーバーヘッドコンベア（１０）とを備え、主コンベアライン（５）は酸化槽（９）に対向する第１の主ロード部分および／またはアンロード部分（１２）を有し、特定の第１の主ロード手段および／またはアンロード手段（１３）はフック（８）の群（８ｃ）を主コンベア（４）から酸化槽（９）におよび／またはその反対方向に移送するように適合され、副コンベアライン（１１）は酸化槽（９）に対向する第１の副ロード部分および／またはアンロード部分（１４）を有し、特定の第１の副ロード手段および／またはアンロード手段（１５）はフック（８）の群（８ｃ）を副コンベア（１０）から酸化槽（９）におよび／またはその反対方向に移送するように適合され、酸化槽（９）の上流で、主コンベアによって移送されたフック（８）の群（８ｃ）を副コンベア（１０）に移送する第１のダイバータ（２１）と、酸化槽（９）の下流でフック（８）の連続を再構成するため、副コンベア（１０）によって搬送された群（８ｃ）をフック（８）のない部分（８ｂ）に移送する第２のダイバータ（２２）とが設けられる。
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【課題】 金属薄膜付樹脂フィルムなどの長尺基板上に連続電解めっきにより金属層を成膜する際に、金属層での突起の発生を抑制することができる連続電解めっき装置及び連続電解めっき方法を提供する。
【解決手段】 複数のアノード１５ｇ、１５ｈを備えためっき槽１３内で、長尺基板Ｆ１をめっき液１４に浸漬させ且つ各アノード１５ｇ、１５ｈと対向させて搬送しながら電解めっきを行う連続電解めっき装置であって、長尺基板Ｆ１と少なくとも１つのアノード１５ｇ、１５ｈとの間に、めっき液１４の液面１４ａから１０ｃｍまでの深さに配置され、長尺基板Ｆ１に向かってめっき液を噴出する少なくとも１つの第１ノズル１８ｇ、１８ｈを備えている。 （もっと読む）

【課題】処理槽からワークを引き上げる際にワークに付着した処理液を回収して水洗槽に持ち込まれる処理液を減らし、それによって水洗水を削減することができる、処理液の回収装置を提供する。
【解決手段】処理槽１の液面上方のワークＷを挟む位置にワークに向けて洗浄水を噴出するシャワーノズル３、３を設け、該シャワーノズル３、３の上方にワークに向けてエアを噴出するエア噴出口５、５を設け、処理槽１上方にワークＷ及びワークＷを吊り下げるハンガー６の周囲を囲む囲い７を設け、囲い７は上下方向に伸縮自在なものとし、ハンガー６の上昇中囲い７の上端を上昇させて囲いを伸ばし、ハンガー６の上昇完了時囲い７の上端を下降させて囲い７を縮めるエアシリンダ９、９を設けた。 （もっと読む）

【課題】電流が集中するシリンダボアの開口端部における花咲きを抑制するとともに、均一なめっき層を形成可能なシリンダブロックのめっき処理装置およびシリンダブロックのめっき処理方法を提案する。
【解決手段】めっき処理装置１は、シリンダボア１０２を形成する円筒形状のシリンダ内周面１０３を有するシリンダブロック１０１を載置自在な載置台３と、シリンダボア１０２内に配置されシリンダ内周面１０３との間に環状の処理液流路４を形成する筒状電極６と、シリンダボア１０２の一方側の開口縁に当接されシリンダ内周面１０３に比べて小径な開口を有し処理液流路４の断面積を絞る環状のシール部材２１と、シリンダボア１０２の他方側にめっき処理液１１を送給し処理液流路４の他方側から一方側に向けてめっき処理液１１を流動させる処理液循環装置１２と、を備える。 （もっと読む）