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国際特許分類[C25D17/18]の内容

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【課題】表面に導電性を有する基材粒子に、均一な厚みのメッキ層を高い収率で形成可能なメッキ装置を提供する。
【解決手段】基材粒子が接触しつつ周回可能な底面とその底面の周縁に沿い立設した周壁面とを備え基材粒子を含む粒子群9とメッキ液とを収納可能なメッキ室を有するメッキ槽1jと、メッキ室の底面より上方に開口する供給口1fを有しメッキ室の周壁面に沿い旋回するように供給口からメッキ液を供給するメッキ液供給管1eと、メッキ室に開口する排出口を有するメッキ液排出管1cと、メッキ室の底面に配置された基材粒子に接触する陰極1nと、メッキ室に収納されたメッキ液に浸漬する位置に配置された陽極1oと、陰極及び陽極に接続された電源1hとを有し、メッキ液排出管の排出口1dは、メッキ液は透過するが基材粒子は透過しないメッキ液透過部材4で塞がれているメッキ装置とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、表面に導電性を有する基材粒子に均一な厚みのメッキ層を効率的に形成可能なメッキ装置を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明に係わるメッキ装置は、表面に導電性を有する基材粒子のメッキ装置であって、前記基材粒子が接触しつつ周回可能な底面とその底面の周縁に沿い立設した周壁面とを備え前記基材粒子を含む粒子群とメッキ液とを収納可能なメッキ室を有するメッキ槽と、前記メッキ室の底面より上方に開口する供給口を有し前記メッキ室の周壁面に沿い旋回するように前記供給口からメッキ液を供給するメッキ液供給管と、前記メッキ室に開口する排出口を有するメッキ液排出管と、前記メッキ室の底面に配置された前記基材粒子に接触する陰極と、前記メッキ室に収納されたメッキ液に浸漬する位置に配置された陽極と、前記陰極および陽極に接続された電源とを有するメッキ装置である。 (もっと読む)


【課題】コンパクトながら、開口率が高くてイオン交換が活発であり、内部のメッキすべき小物類が充分に転動して、メッキの付きまわりが均一かつ迅速であり、かつ量産性にも優れたメッキ用バレルの提供。
【解決手段】バレル本体1内にメッキする小物類を収容し、処理槽3内で横軸4の周りに回転させながらメッキ処理を行うものであり、バレル本体1を全体としてほぼ球殻形状とし、その全体に多数の多細孔窓6を形成することにより、ほぼ球殻形状のバレル本体1のほぼ全面が多細孔で構成されるようする。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも1つの対象物(1)の表面を処理するための電極(11)に関する。上記電極(11)は、1つの空洞であって、処理作業の間、処理可能な上記対象物(1)を収容し、上記対象物(1)の自由な運動を可能にする、少なくとも1つの空洞(23)を備え、上記空洞(23)が、この空洞(23)の内部に表面処理溶液(5)を通流させる少なくとも1つの開口部(25)を備えた壁(24)によって範囲を設定され、上記表面処理の作業の間、この表面処理溶液内に電極(11)が浸漬される。この空洞(23)はほぼ円筒形であり、且つ上記対象物(1)の最大寸法よりもその直径が、概略50〜100マイクロメータ大きい。
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