【課題】被膜形成対象物又は陰極板若しくはそれら双方から生じる気泡が、被膜形成対象物に再付着することを防止できるようにする。
【解決手段】本発明は、電解液Ｗを貯留した処理槽３０と、その電解液Ｗ内に互いに対向させて配置したワークＰ及び陰極板１０とを有し、それらワークＰと陰極板１０との間に電圧を印加することにより、そのワークＰに酸化被膜を形成するものであり、上記ワークＰ又は陰極板１０若しくはそれら双方から生じる気泡を電解液Ｗとともに吸引する気泡吸引ユニットＵ１を有している。 （もっと読む）

【課題】シード膜の溶解を抑制し、電解めっき後のめっき膜の未析や欠陥の発生を低減する方法を提供する。
【解決手段】実施形態の電子部品の製造方法は、シード膜形成工程Ｓ１１０とめっき工程Ｓ１１４とを備えたことを特徴とする。かかるシード膜形成工程Ｓ１１０では、基体上にシード膜を形成する。そして、かかるめっき工程Ｓ１１４では、窒素ガスでバブリングされているめっき液が供給されためっき槽中の前記めっき液に前記シード膜を浸漬させ、前記シード膜をカソードとして電解めっきを行なう。 （もっと読む）

処理される材料（１０）、特に、処理される平坦な材料（１０）の湿式化学処理のためのデバイス（１）は、処理される材料（１０）を処理液（９）で処理するための処理容器（２）と、処理される材料（１０）を処理容器（２）を通して輸送するための輸送デバイス（２４）と、不活性気体（１６）を処理容器（２）に供給するための供給デバイス（１１）とを備える。
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【課題】微細な穴を有する板状体を処理液に浸漬して行う湿式処理において、穴に気泡が残留することをより十分に抑制し、より均一な湿式処理を実現することが可能な湿式処理方法及び湿式処理装置を提供する。
【解決手段】密閉容器１１内に板状体３を保持した状態で密閉容器１１内を減圧する減圧工程と、減圧工程の後，密閉容器１１内が減圧された状態で密閉容器１１内へ処理液２に溶解可能な溶解性気体８を導入する溶解性気体導入工程と、溶解性気体導入工程の後，密閉容器１１内が溶解性気体８で充満された状態で密閉容器１１内へ処理液２を導入する処理液導入工程とを備えることにより、微細な穴に気泡が残留しない状態で基板３の湿式処理ができるようにしている。 （もっと読む）

【課題】純水等の前処理液を微生物の発生防止のために頻繁に交換することなく、前処理液中の微生物発生を抑制して、めっき欠けやめっき未着等のない良好なめっきを行うことができるようにする。
【解決手段】被めっき物の表面に前処理液による前処理を行った後、めっきを行うめっき装置であって、前処理液中の溶存気体を脱気する脱気装置２８ａと、前処理液中の微生物の発生を抑える微生物処理装置３０ａとを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板表面上に高速で硬質クロム層の沈着をするための方法に関する。
【解決手段】本発明に係る方法は、被覆される基板表面が、周囲圧力に対して減圧下でガルバニー電気沈着に適するクロム含有電解質と接触され、クロム層の基板表面上への沈着中に、基板表面と電解質の相対的運動が行なわれる。 （もっと読む）

【課題】微細な開口部３Ａを有する基板１の開口部３Ａの気泡を十分に除去することのできる脱泡装置１０等を提供する。
【解決手段】開口部３Ａを有するめっきマスク膜３Ｂによりパターニングされた基板１を浸漬する処理溶液２１を蓄える溶液槽２４と、前記溶液槽２４に浸漬された前記基板１の表面に対し前記処理溶液２１を吹き付けるシャワーヘッド群１３Ｂと、前記シャワーヘッド群１３Ｂと前記基板１とを相対的に移動するシャワーヘッド移動部１４と、を有する。 （もっと読む）

【課題】気泡の抜けが比較的よく、広い設置面積を必要としないディップ方式を採用し、しかもアノードとして強磁性体を使用したとしても、磁気異方性の均一性に影響を与えることを極力防止しつつ、基板表面に磁性体膜を形成することができるようにする。
【解決手段】内部にめっき液Ｑを保持するめっき槽４０と、めっき槽４０の内部のめっき液Ｑに浸漬される位置に鉛直に配置されるアノード２２０と、基板Ｗを保持してアノード２２０と対向する位置に位置させる基板ホルダ２６と、めっき槽Ｑの外方に配置され、基板ホルダ２６で保持してアノード２２０と対峙した位置に位置させた基板Ｗの周囲に磁界を発生させる磁界発生装置１１４を有する。 （もっと読む）

【課題】浴液中において下方へ開口する凹部であっても、気体の溜まりを回避でき表面処理不良の発生を防止する方法および治具の提供。
【解決手段】表面２に凹部３を有する金属部材１を浴液に浸漬して金属部材１の表面２に皮膜を生成させる表面処理金属部材の製造方法において、凹部３が下になるように吊下げ治具で金属部材１を保持するとともに、凹部３の下方に、浴液を凹部３に案内するガイド部２１ａを備えた浴液ガイド治具２０を設け、金属部材１を浴液に浸漬する際に、浴液ガイド治具２０によって浴液を凹部３に案内するようにしたことを特徴とする方法および治具。 （もっと読む）

【課題】電解めっき処理方法および装置において、少ないめっき液量でかつ短い時間で、緻密かつ膜厚の大きいめっき被膜をめっき基材に形成することができるようにする。
【解決手段】めっき基材３０にめっき液１中の金属イオンによるめっき被膜を形成する電解めっき処理方法において、めっき処理時に生成されるガスが拡散できる経路をめっき被膜形成箇所と分離して形成した状態でめっき処理を行う。具体的には、一方の極に帯電した円筒状の電極ローラー２１の周面にめっき液１が含浸できる空隙を備えた非導電性の保液材２２を卷装しためっき液保持部材２０を、その一部がめっき液１に入り込んだ状態で配置し、他方の極に帯電した基材３０を前記保液材２２に接触させた状態でめっき処理を行う。 （もっと読む）