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国際特許分類[C25D21/10]の内容

国際特許分類[C25D21/10]に分類される特許

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【課題】めっき液を撹拌し、めっき槽内のめっき液の濃度分布や温度分布を均一にするめっき装置において、装置を小型化でき、撹拌するための運転費を不要とすることができるめっき装置を提供する。
【解決手段】ポンプ14が駆動すると、めっき液タンク6内のめっき液3がめっき液供給配管13等を介してノズル構成体15の角筒状のノズル17に供給される。ノズル17の先端の開口部17aは時計方向側に開放されているため、開口部17aからめっき液3が時計方向に向かって流出され、その流出力によりノズル構成体15が反時計方向に回転され、めっき液3が撹拌される。この場合、ノズル構成体15を回転させるためのそれ専用の機構を必要とせず、その分小型化することができ、まためっき液3を撹拌するための運転費を不要とすることができる。 (もっと読む)


【課題】 被めっき物に均一で適切な超音波振動を加えることができ、超音波振動によりめっき浴中の粒子の分散性を向上させ、均一な大面積複合めっきを可能とする複合めっき処理方法および複合めっき処理装置を提供する。
【解決手段】 被めっき物に2つ以上の振動モードの超音波振動を励振できるようにし、その振動モードの組み合わせにより、被めっき物に屈曲進行波や時間的に変化する複数の定在波を励振して、めっき浴中の粒子の分散性を向上させ、均一な複合めっき被膜の形成を可能とする。 (もっと読む)


【課題】被めっき部材の表面に形成されるめっき皮膜のピンホールやピットの発生を抑制する電気めっき方法及びめっき部材を提供する。
【解決手段】めっき浴槽20内に、平均粒子径20μm〜300μmの粒子を5体積%〜65体積%の範囲で含むめっき液21を満たし、めっき浴槽内のめっき液中に被めっき部材11及び陽極13を配置し、被めっき部材11及び陽極13を配置しためっき浴槽20内を、めっき液の蒸気圧Pb〜(蒸気圧Pb+15kPa)の範囲の圧力に保持し、圧力を保持しためっき浴槽20内において、陽極13を上流側とし被めっき部材11を下流側としてめっき液21を流動させ、めっき液を流動させつつ、被めっき部材11及び陽極13間に電圧を印加し被めっき部材の表面にめっき膜を形成することを特徴とするめっき部材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】導電性を有する基材粒子表面に均一なメッキ層を形成するメッキ装置を提供するものであり、メッキ液の攪拌による基材粒子の飛散を防止してメッキ効率に優れたメッキ装置にする。
【解決手段】メッキ液Lと基材粒子20aを貯留可能なメッキ室11dを有するメッキ槽11aと、メッキ室11dにメッキ液Lが貯留された状態でメッキ液Lに浸漬される陽極13aおよび陰極13bと、陽極13aと陰極13bとの間に電位差を与える電源14と、陰極表面に沿ってメッキ液Lと基材粒子20aを流動させる流動発生手段12eと、極性の異なる磁極面15aを複数並べて向きが交互になる複数の磁界15bを形成する磁気回路15とを備え、流動する基材粒子20aが前記複数の磁界中を通過するように磁気回路が配置されたメッキ装置10とする。 (もっと読む)


【課題】品質や生産性および作業性に優れているラック式のめっきを行う上で、均等な被膜形成を可能にする。
【解決手段】めっき液1が注入されるめっき槽2と、被処理物を保持可能なラック4と、めっき槽2内に設けられており、ラック4を保持可能であり陰極として機能するハンガー3とを有し、ラック4は、被処理物を包囲可能な網状のワークホルダー7と、ワークホルダー7に保持されている被処理物の異なる位置にそれぞれ接続される2つの負電荷供給部と、負電荷供給部のいずれか一方を選択的にハンガー3と導通させる陰極接続切換部とを有し、ラック4はハンガー3に対して相対運動可能であり、ラック4のハンガー3に対する相対運動により、ハンガー3の導体露出部分3aと接触して接続される負電荷供給部が陰極接続切換部によって切り換えられる。 (もっと読む)


【課題】簡素な構成の磁場発生手段でも効果的な攪拌によりめっき膜厚を均一化できるとともに低濃度のめっき浴でも高速めっきが可能である電解めっき装置を提供する。
【解決手段】めっき浴11内にアノード電極20とカソード電極21とを対向して配設し、アノード電極20とカソード電極21との間に電場を与えてめっきを行う電解めっき装置において、カソード電極21の近傍領域に前記電場に対して直交する成分をもつ磁場を形成する磁場発生手段130をカソード電極21の反アノード電極20側に配設するとともに、前記磁場をカソード電極21の面内方向に対して平行に移動させることのできる磁場移動手段132を備えてなる構成とする。 (もっと読む)


【課題】電解析出による物質の析出速度を向上させるとともに、電解析出の材料となる気体の消費量を削減できる電解析出装置および電解析出方法を提供する。
【解決手段】電解析出装置1は、電解槽2とバッファ槽3、電解槽2とバッファ槽3とを連結する液循環ライン4、液循環ライン4に設けられた微小気泡生成混入部6および微小気泡攪拌部7より構成されている。電解槽2内には基板Wと対極21とが対向配置され、電解液中に含浸されている。液循環ライン4内を流れる電解液と微小気泡生成混入部6で生成された微小気泡とが、微小気泡攪拌部7において攪拌状態になることで、溶存濃度が飽和状態で、かつ気体の微小気泡をも有する気体過剰電解液が生成される。この気体過剰電解液の液流が、電解槽2内で基板Wの被電析面FSに沿う方向に形成されている状態で電解析出が行われる。 (もっと読む)


少なくとも1つの前処理ステーションおよび少なくとも1つの粉体または液体の塗装ステーションを通過する主コンベアライン(5)に沿って移動する主オーバーヘッドコンベア(4)上のフック(8)を用いて連続的に吊り下がるアルミニウムプロファイルの縦型塗装プラント(2)における陽極酸化ステーション(3)は、少なくとも1つの酸化槽(9)と主コンベア(4)と同期して副コンベアライン(11)に沿って移動する副オーバーヘッドコンベア(10)とを備え、主コンベアライン(5)は酸化槽(9)に対向する第1の主ロード部分および/またはアンロード部分(12)を有し、特定の第1の主ロード手段および/またはアンロード手段(13)はフック(8)の群(8c)を主コンベア(4)から酸化槽(9)におよび/またはその反対方向に移送するように適合され、副コンベアライン(11)は酸化槽(9)に対向する第1の副ロード部分および/またはアンロード部分(14)を有し、特定の第1の副ロード手段および/またはアンロード手段(15)はフック(8)の群(8c)を副コンベア(10)から酸化槽(9)におよび/またはその反対方向に移送するように適合され、酸化槽(9)の上流で、主コンベアによって移送されたフック(8)の群(8c)を副コンベア(10)に移送する第1のダイバータ(21)と、酸化槽(9)の下流でフック(8)の連続を再構成するため、副コンベア(10)によって搬送された群(8c)をフック(8)のない部分(8b)に移送する第2のダイバータ(22)とが設けられる。
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【課題】被塗物Wを処理槽T内の処理液Lに浸漬させて処理液L中を進行移動させる塗装用浸漬処理において、被塗物Wに対する処理液Lの相対速度を調整可能にする。
【解決手段】被塗物Wの処理液L中での移動姿勢θを調整することで、処理槽T内における被塗物W周りの処理液Lの通過断面積を調整して被塗物Wに対する処理液Lの相対速度を調整する。 (もっと読む)


【課題】ワイヤ外周面に対して効率良くブラシめっきを施すめっき方法、及び、めっきが施されたワイヤ外周面に対して砥粒を効率良く供給して電着させることにより、電着ワイヤ工具の生産性を向上させる電着ワイヤ工具製造方法を提供する。
【解決手段】 ワイヤをめっき液内で擦過する擦過部材により当該めっき液を流動させながら前記ワイヤ表面にめっきを施す。また、前記ワイヤと前記擦過部材の擦過部分が前記めっき液に覆われるようにする。 (もっと読む)


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