説明

国際特許分類[C25D21/10]の内容

国際特許分類[C25D21/10]に分類される特許

21 - 30 / 97


【課題】ばら状の被めっき物を均質にめっきすることができ、めっき効率も向上させることができる開口バレルめっき装置を提供することである。
【解決手段】左右のサイドフレーム1に揺動自在に支持した揺動部材7にカップ状のバレル容器5の底側を取り付け、モータ6aの回転駆動力を平歯車14a、14b、14c、14d、傘歯車16a、16bおよび平歯車17a、17bで、バレル容器5を取り付けた容器取り付け部材18に伝達するとともに、モータ6bの出力軸に装着した円板22に取り付けた連結ピン21aと、揺動部材7に取り付けた連結ピン21bをリンク23で連結することにより、バレル容器5を回転させながら揺動させ、ばら状の被めっき物を、バレル容器5の底側での偏り状態が変化するように流動させて、めっき液と満遍なく接触させるようにした。 (もっと読む)


【課題】比較的簡単な構成で、めっき槽内のめっき液の流れをより均一に調節して、めっき膜の膜厚の面内均一性をより高め、めっき膜の埋込み等をより短時間で確実に行うことができるようにする。
【解決手段】めっき槽の内部に該めっき槽内のめっき液に浸漬されるように配置され、ホルダで保持した被めっき材の被めっき面に向けてめっき液を噴射してめっき槽内にめっき液を供給する複数のめっき液噴射ノズル406を有するノズル配管400を備え、該ノズル配管400は、縦パイプ402と横パイプ404とを格子状に組んで構成され、ホルダで保持してめっき槽内にめっき液に浸漬させて配置される被めっき材の被めっき面と平行に横方向及び/または縦方向に移動自在に構成されている。 (もっと読む)


【課題】板厚が3.0mm以上でアスペクト比が10以上の、高板厚・高アスペクト比配線板に対しても、スルーホール内にめっき未着やめっき皮膜のざらつきの発生を抑制し、信頼性の高いめっき装置及びめっき方法を提供する。
【解決手段】貫通孔を有する板状の被めっき体2を垂直方向に保持するラック4と、このラックが浸漬されるめっき槽5と、このめっき槽内の被めっき体下方に配置されたエア吐出配管6と、前記ラックの駆動機構7とを備えるめっき装置1において、前記駆動機構が、前記ラックに垂直方向の振動12を間欠的に与えつつ、前記ラックを前記被めっき体の表裏面側に交互に傾けるめっき装置及びこのめっき装置を用いためっき方法。 (もっと読む)


【課題】人手を要しなくても陰極棒の接触位置が変更されて円筒袋状ワークの表面に接点跡が残ることのないめっき処理用治具を提供する。
【解決手段】本発明に係る筒袋状ワークのめっき処理用治具1は、円筒袋状ワークWの内方に差し入れられ円筒袋状ワークの軸心方向を回転軸として回転可能な陰電極21を有し、陰電極は、円筒袋状ワークの内面に当接することにより円筒袋状ワークを保持して円筒袋状ワークを回転可能に形成され、かつ円筒袋状ワークを保持したときに円筒袋状ワークを常に陰極とするための接点部34を有する。 (もっと読む)


【課題】貫通電極用凹部の底部からのめっき膜の成長速度を遅くすることなく、貫通電極用凹部内に銅等の金属を、内部にボイド等の欠陥を生じさせることなく完全に充填することができるめっき方法を提供する。
【解決手段】表面に貫通電極用凹部12を有する基板Wとアノードとをめっき液中に互いに対峙させて配置し、基板Wとアノードとの間に電圧を印加しながら基板Wとアノードとの間のめっき液を攪拌して貫通電極用凹部12内へ金属を充填し、貫通電極用凹部内12への金属の充填量に相関して、基板とアノードとの間のめっき液の攪拌条件を変化させる。 (もっと読む)


【課題】取扱いが比較的容易な無機酸浴を用いて、効率良くめっき層を形成することが可能なめっき付銅条材の製造方法を提供する。
【解決手段】銅又は銅合金からなる銅条材を連続的に走行させながら、その表面に多層に金属めっき層を形成した後、リフロー処理するめっき付銅条材の製造方法であって、各金属めっき層を、無機酸を主成分とするめっき液からなるめっき浴内に、不溶性アノードと銅条材とを浸漬し、レイノルズ数が1×10〜5×10となるように、銅条材及びめっき浴内のめっき液を相対移動させながら通電するとともに、電流密度を5〜60A/dmの範囲内とした電解めっきにより形成する。 (もっと読む)


【課題】微小な内径で且つアスペクト比が大きい細管の内壁に均一なめっき皮膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】細管10の内壁10aへの接触を防止する非導電性部材14が外周面に固定されている電極線12を前記細管10内に挿入し、前記細管10内壁と前記電極線12との間隙にめっき液を満たした状態で前記電極線12を前記細管10の管軸方向に往復移動させると共に前記めっき液を前記電極線12と同じ方向に交互に流動させる。そして、前記電極線12を+極、前記細管10を−極として直流電流を流して細管10の内壁10aにめっき皮膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】比較的簡単な構成で、めっき速度を高め、しかもめっき槽内のめっき液の流れをより均一に調節して、めっき膜の膜厚の面内均一性をより高めることができるようにする。
【解決手段】めっき液188を保持するめっき槽186と、該めっき槽186内のめっき液188中に浸漬されて被めっき材Wの被めっき面と対向する位置に配置され、被めっき材Wの被めっき面と平行に往復運動してめっき液188を攪拌する攪拌翼234を備えた攪拌機構236とを有し、攪拌翼234の少なくとも1辺には凹凸234aが形成されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、基板表面上に高速で硬質クロム層の沈着をするための方法に関する。
【解決手段】本発明に係る方法は、被覆される基板表面が、周囲圧力に対して減圧下でガルバニー電気沈着に適するクロム含有電解質と接触され、クロム層の基板表面上への沈着中に、基板表面と電解質の相対的運動が行なわれる。 (もっと読む)


【課題】めっき槽内のめっき液を十分に撹拌することができて、めっき膜の厚さ及び組成を均一にする。
【解決手段】めっき液が貯留されるめっき槽1と、該めっき槽1の上部開口位置で被処理基板Sをめっき液に接触させた状態に支持する基板支持部3と、めっき槽1内にめっき液を供給する液供給手段4と、めっき槽1の上部からめっき液を外部に排出する液排出手段5とを具備するめっき装置であって、液供給手段4として、めっき槽1の底部から上方に向けてめっき液を噴出させる噴出ノズル11が設けられ、噴出ノズル11の噴出方向前方に攪拌翼21が設けられている。 (もっと読む)


21 - 30 / 97