【課題】 厚膜めっき膜の高い電着均一性およびそのめっき速度と共に高品位の膜質が簡便に得られる電気めっき装置およびめっき方法を提供する。
【解決手段】 めっき槽１１にめっき液１２が充填され、アノードホルダ１３とカソードホルダ１４間にめっき液噴射ノズル１５と多孔遮蔽板１６が配置される。被めっき物１７は固定治具１８と共にカソードホルダ１４に保持される。めっき液噴射ノズル１５の噴出口１５ａから吐出するめっき液噴流１９は多孔噴射板１６に斜め方向から孔部１６ａに噴射される。孔部１６ａで曲げられためっき液噴流１９が被めっき物１７に供給される。めっき液１２はオーバーフロー槽２０、排出管２１を通り噴射ポンプ２２に戻り、再び噴射ポンプ２２から流量調節器２３、噴射めっき液供給ライン２４を通りめっき液噴射ノズル１５に送られる。 （もっと読む）

【課題】電着槽内で被塗装物から放出された異物が被塗装物に付着するのを有効に防止することで塗装欠陥の発生を低減する電着塗装装置を提供する。
【解決手段】電着液１を貯留する電着槽２を備え、電着液１に被塗装物Ｗが浸漬して入槽端２ａ側から出槽端２ｂ側に搬送される被塗装物移動領域Ａの全領域に亘って、被塗装物領域Ａの上方に配置された多数の上層ライザー２１から電着液１を下方に噴射する。被塗装物移動領域Ａを進行する被塗装物Ｗは、電着液１の下降流Ｆ１の存在下に維持され、異物が除去されると共に被塗装物Ｗから洗い出された異物が槽内循環流Ｆによって当該被塗装物Ｗや他の被塗装物Ｗに付着するのが防止されて塗装欠陥の発生が低減でき、良好な電着塗装が施される。 （もっと読む）

【課題】金属鋼線材の接合、めっき処理の効率化を図ることができる金属鋼線材の製造方法およびめっきの均一性、作業性および安全性が向上した金属鋼線材の製造装置を提供する。
【解決手段】金属鋼線材を接合し、接合により生じた接合部のバリを除去する接合工程と、前記接合部にめっき処理を施すめっき工程と、を有する金属鋼線の製造方法であり、接合工程後、接合部をめっき工程で用いるめっき装置に搬送する搬送工程を有する。また、金属鋼線材を溶接する接合装置と、接合されたブラスめっき金属鋼線材の接合部にブラスめっきを施すめっき装置と、を一体の連続した装置として備える金属鋼線材の製造装置である。 （もっと読む）

【課題】各ノズルから被めっき材に噴出されるめっき液の流量のバラツキを小さく抑えること。
【解決手段】めっき槽１０内に配置されるとともに、めっき液３が強制的に供給される容器１１ａ、１１ｂと、容器１１ａ、１１ｂ内に供給されためっき液３を、めっき槽１０内に配置された被めっき材２に向けて噴流する複数のノズルＮ１ａ〜Ｎ６ａ、Ｎ１ｂ〜Ｎ６ｂと、を備え、容器１１ａ、１１ｂには、互いに離れた複数の供給口からめっき液３が強制的に供給される。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ等の被めっき体（基板）にめっきを行う場合に、高電流密度の条件であっても平坦な先端形状のバンプを形成したり、良好な面内均一性を有する金属膜を形成したりすることができるようにする。
【解決手段】めっき装置は、めっき槽１０内のめっき液Ｑに浸漬させて配置されるアノード２６と、被めっき体Ｗを保持しアノードと対向する位置に配置するホルダ２４と、被めっき体と平行に往復移動してめっき液を攪拌するパドル３２と、所定のピッチで垂直方向に延びる複数のスリット部を有する調整板固定用スリット板９６と、電場の拡がりを制限するための開口を有する調整板３４とを備え、調整板は、その側端部を調整板固定用スリット板の任意のスリット部に挿入することによって該調整板の位置が調整可能にめっき槽に取付けられる。 （もっと読む）

【課題】気泡の抜けが比較的よく、広い設置面積を必要としないディップ方式を採用し、しかもアノードとして強磁性体を使用したとしても、磁気異方性の均一性に影響を与えることを極力防止しつつ、基板表面に磁性体膜を形成することができるようにする。
【解決手段】めっき槽３０２と、めっき時にめっき電源の陽極に接続されるアノード３１８と、基板を保持してアノードと対向する位置に位置させる基板ホルダ２６と、めっき槽の周囲に配置され、基板ホルダで保持してアノードと対峙した位置に位置させた基板の周囲に基板に平行な鉛直方向の磁界を発生させる、筒状の電磁石からなる磁界発生装置３０６を有し、磁界発生装置は、鉛直方向に配置され、独立した電流を流すことで、鉛直方向に強さの異なる磁界を発生させる複数のコイル３３２ａ，３３２ｂ，３３２ｃを有する。 （もっと読む）

【課題】 ワイヤ表面のめっきの成長速度を向上させることができるめっき装置を提供する。
【解決手段】 めっき液３内を走行するワイヤ４の表面にめっきを施すものであって、めっき液３を収容するめっき液槽５と、該めっき液槽５内に縦向きに配置される柱状体６と、めっき液槽５の内周面５１と柱状体６の外周面６１の間に形成されるリング状流路Ｘを縦方向に走行するワイヤ４に対して、リング状流路Ｘでめっき液３を流動させる流動機構９と、を備えるめっき装置。 （もっと読む）

【課題】めっき装置を提供する。
【解決手段】めっき装置は、基板の被めっき面にめっきを施すためのめっき装置であって、前記めっき装置は、めっき液が保持される複数のめっき槽１３３と、前記複数のめっき槽のそれぞれに対応して配置され、前記複数のめっき槽内のめっき液を循環させる複数のポンプ１１２と、前記複数のポンプの吸込側をそれぞれ対応する前記複数のめっき槽に連結する複数の吸込配管２０２、２０３、２０４と、前記複数のポンプの吐出側をそれぞれの前記吸込側に連結される前記めっき槽とは異なる他のめっき槽にそれぞれ連結する複数の吐出配管と、を備え、前記複数のめっき槽と前記複数のポンプは直列に連結される。 （もっと読む）

【課題】高い電流密度下でも半導体ウエハにめっき焼けやめっき形状の凹凸を呈することなく、めっき面内均一性が得られ生産性を向上できるカップ型めっき装置を提供する。
【解決手段】めっき槽の下部からめっき液を噴出する液流入部と、めっき槽内に設置されるアノード２と、めっき槽の上部で半導体ウエハ４と電気的に接続されるカソード３とを備えた、半導体ウエハ４の表面にバンプ電極を形成するカップ型めっき装置であって、前記アノード２を十分な電極面積を有するプロペラ形状とし、回転可能にめっき槽底部のシャフト７に連結したカップ型めっき装置。 （もっと読む）

【課題】処理容器内で被処理部品を均一に攪拌させると同時に、処理液を効率的に流動させ、めっき膜厚のバラツキ抑制やめっきムラ、密着不良を解決することができる表面処理方法及び表面処理装置を提供する。
【解決手段】上部に開口部２を有し、その内面底部中央近傍から開口部２に向かって曲面が形成された処理容器１の中に、複数の被処理部品３を収容し、開口部２から処理容器１内面の底部中央近傍に向けて配置される噴射口より所望の処理液を噴射し、前記処理液が処理容器１の前記底部中央に当った後に、前記曲面に沿うように開口部２に向かって循環する液流によって被処理部品３を流動攪拌するとともに、処理容器１内部に設けられたカソード電極に被処理部品３を接触させ、開口部２近傍に配置されるアノード電極とによって電解処理を行う表面処理方法及び表面処理装置。 （もっと読む）