国際特許分類[C25D21/10]の内容

国際特許分類[C25D21/10]に分類される特許

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【課題】電着槽内で被塗装物から放出された異物が被塗装物に付着するのを有効に防止することで塗装欠陥の発生を低減する電着塗装装置を提供する。
【解決手段】電着液1を貯留する電着槽2を備え、電着液1に被塗装物Wが浸漬して入槽端2a側から出槽端2b側に搬送される被塗装物移動領域Aの全領域に亘って、被塗装物領域Aの上方に配置された多数の上層ライザー21から電着液1を下方に噴射する。被塗装物移動領域Aを進行する被塗装物Wは、電着液1の下降流F1の存在下に維持され、異物が除去されると共に被塗装物Wから洗い出された異物が槽内循環流Fによって当該被塗装物Wや他の被塗装物Wに付着するのが防止されて塗装欠陥の発生が低減でき、良好な電着塗装が施される。 (もっと読む)


【課題】 厚膜めっき膜の高い電着均一性およびそのめっき速度と共に高品位の膜質が簡便に得られる電気めっき装置およびめっき方法を提供する。
【解決手段】 めっき槽11にめっき液12が充填され、アノードホルダ13とカソードホルダ14間にめっき液噴射ノズル15と多孔遮蔽板16が配置される。被めっき物17は固定治具18と共にカソードホルダ14に保持される。めっき液噴射ノズル15の噴出口15aから吐出するめっき液噴流19は多孔噴射板16に斜め方向から孔部16aに噴射される。孔部16aで曲げられためっき液噴流19が被めっき物17に供給される。めっき液12はオーバーフロー槽20、排出管21を通り噴射ポンプ22に戻り、再び噴射ポンプ22から流量調節器23、噴射めっき液供給ライン24を通りめっき液噴射ノズル15に送られる。 (もっと読む)


【課題】金属鋼線材の接合、めっき処理の効率化を図ることができる金属鋼線材の製造方法およびめっきの均一性、作業性および安全性が向上した金属鋼線材の製造装置を提供する。
【解決手段】金属鋼線材を接合し、接合により生じた接合部のバリを除去する接合工程と、前記接合部にめっき処理を施すめっき工程と、を有する金属鋼線の製造方法であり、接合工程後、接合部をめっき工程で用いるめっき装置に搬送する搬送工程を有する。また、金属鋼線材を溶接する接合装置と、接合されたブラスめっき金属鋼線材の接合部にブラスめっきを施すめっき装置と、を一体の連続した装置として備える金属鋼線材の製造装置である。 (もっと読む)


【課題】各ノズルから被めっき材に噴出されるめっき液の流量のバラツキを小さく抑えること。
【解決手段】めっき槽10内に配置されるとともに、めっき液3が強制的に供給される容器11a、11bと、容器11a、11b内に供給されためっき液3を、めっき槽10内に配置された被めっき材2に向けて噴流する複数のノズルN1a〜N6a、N1b〜N6bと、を備え、容器11a、11bには、互いに離れた複数の供給口からめっき液3が強制的に供給される。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェハ等の被めっき体(基板)にめっきを行う場合に、高電流密度の条件であっても平坦な先端形状のバンプを形成したり、良好な面内均一性を有する金属膜を形成したりすることができるようにする。
【解決手段】めっき装置は、めっき槽10内のめっき液Qに浸漬させて配置されるアノード26と、被めっき体Wを保持しアノードと対向する位置に配置するホルダ24と、被めっき体と平行に往復移動してめっき液を攪拌するパドル32と、所定のピッチで垂直方向に延びる複数のスリット部を有する調整板固定用スリット板96と、電場の拡がりを制限するための開口を有する調整板34とを備え、調整板は、その側端部を調整板固定用スリット板の任意のスリット部に挿入することによって該調整板の位置が調整可能にめっき槽に取付けられる。 (もっと読む)


【課題】気泡の抜けが比較的よく、広い設置面積を必要としないディップ方式を採用し、しかもアノードとして強磁性体を使用したとしても、磁気異方性の均一性に影響を与えることを極力防止しつつ、基板表面に磁性体膜を形成することができるようにする。
【解決手段】めっき槽302と、めっき時にめっき電源の陽極に接続されるアノード318と、基板を保持してアノードと対向する位置に位置させる基板ホルダ26と、めっき槽の周囲に配置され、基板ホルダで保持してアノードと対峙した位置に位置させた基板の周囲に基板に平行な鉛直方向の磁界を発生させる、筒状の電磁石からなる磁界発生装置306を有し、磁界発生装置は、鉛直方向に配置され、独立した電流を流すことで、鉛直方向に強さの異なる磁界を発生させる複数のコイル332a,332b,332cを有する。 (もっと読む)


【課題】 ワイヤ表面のめっきの成長速度を向上させることができるめっき装置を提供する。
【解決手段】 めっき液3内を走行するワイヤ4の表面にめっきを施すものであって、めっき液3を収容するめっき液槽5と、該めっき液槽5内に縦向きに配置される柱状体6と、めっき液槽5の内周面51と柱状体6の外周面61の間に形成されるリング状流路Xを縦方向に走行するワイヤ4に対して、リング状流路Xでめっき液3を流動させる流動機構9と、を備えるめっき装置。 (もっと読む)


【課題】めっき装置を提供する。
【解決手段】めっき装置は、基板の被めっき面にめっきを施すためのめっき装置であって、前記めっき装置は、めっき液が保持される複数のめっき槽133と、前記複数のめっき槽のそれぞれに対応して配置され、前記複数のめっき槽内のめっき液を循環させる複数のポンプ112と、前記複数のポンプの吸込側をそれぞれ対応する前記複数のめっき槽に連結する複数の吸込配管202、203、204と、前記複数のポンプの吐出側をそれぞれの前記吸込側に連結される前記めっき槽とは異なる他のめっき槽にそれぞれ連結する複数の吐出配管と、を備え、前記複数のめっき槽と前記複数のポンプは直列に連結される。 (もっと読む)


【課題】高い電流密度下でも半導体ウエハにめっき焼けやめっき形状の凹凸を呈することなく、めっき面内均一性が得られ生産性を向上できるカップ型めっき装置を提供する。
【解決手段】めっき槽の下部からめっき液を噴出する液流入部と、めっき槽内に設置されるアノード2と、めっき槽の上部で半導体ウエハ4と電気的に接続されるカソード3とを備えた、半導体ウエハ4の表面にバンプ電極を形成するカップ型めっき装置であって、前記アノード2を十分な電極面積を有するプロペラ形状とし、回転可能にめっき槽底部のシャフト7に連結したカップ型めっき装置。 (もっと読む)


【課題】処理容器内で被処理部品を均一に攪拌させると同時に、処理液を効率的に流動させ、めっき膜厚のバラツキ抑制やめっきムラ、密着不良を解決することができる表面処理方法及び表面処理装置を提供する。
【解決手段】上部に開口部2を有し、その内面底部中央近傍から開口部2に向かって曲面が形成された処理容器1の中に、複数の被処理部品3を収容し、開口部2から処理容器1内面の底部中央近傍に向けて配置される噴射口より所望の処理液を噴射し、前記処理液が処理容器1の前記底部中央に当った後に、前記曲面に沿うように開口部2に向かって循環する液流によって被処理部品3を流動攪拌するとともに、処理容器1内部に設けられたカソード電極に被処理部品3を接触させ、開口部2近傍に配置されるアノード電極とによって電解処理を行う表面処理方法及び表面処理装置。 (もっと読む)


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