【課題】 導電性及び光透過性を有するようにパターニングされた電磁波遮蔽部材に有用な導体層パターン付き基材を転写法を用いて生産性よく製造するためのめっき用導電性基材を提供する。
【解決手段】 凸部のパターン及びそれによって描かれる幾何学図形状の凹部を有し、凸部の上端から０．５〜３μｍ低い位置よりも低い位置の凹部表面に絶縁層が形成されており、凸部の導電性基材の露出部分の幅が１μｍ〜４０μｍであって、凹部に絶縁層を施した後の凸部の高さが、１０μｍ以上であるめっき用導電性基材。凸部の露出部分が先端方向に進むにつれて幅が広がっておらず、全体として下部よりも上部で幅が小さくなっていることが好ましい。
（もっと読む）

【課題】長尺のフラットケーブルの導体露出部に露出する複数本の導体が確実にメッキ電源に接続され、メッキ洩れ導体が生じないフラットケーブルの電気メッキ方法とフラットケーブルの製造方法を提供する。
【解決手段】複数本の導体を平面上に配列して、導体の配列面の両面を絶縁樹脂で被覆した長尺のフラットケーブル１の長手方向に、所定の間隔で複数の導体露出部３を設け、この導体露出部３の導体４に電気メッキ施す方法である。長尺のフラットケーブル１の少なくとも１個所の導体露出部３で、露出する複数本の導体４を導電部材１０で接続一体化して電気的に接続し、フラットケーブルをメッキ液に浸す。また、導体露出部３の露出する導体４は、導電部材１０で接続一体化した部分を切断除去する切断代ｄを有する。 （もっと読む）

【課題】非シアンの酸性のめっき浴を用いて、パターンめっきにおけるレジストの溶解がなくかつ密着性の良好な銀めっきを施す方法を提供する。
【解決手段】非シアンの酸性の銀めっき浴（Ａ）を用いて銀めっきを行う銀めっき方法において、当該の銀めっき工程に先立って、非シアンの酸性のストライク浴（Ｂ）を用いてストライクめっきする工程を含む銀めっき方法。 （もっと読む）

【課題】ワークのマスクしたい領域に表面処理が回り込むことを防止できるマスキング治具を提供する。
【解決手段】ワーク１００に接触して電気的導通を行う第１の導通部１１ａと、第１の導通部１１ａがワーク１００に接触した状態で、ワーク１００の接合面１００ａに弾性変形して接触し、接合面１００ａをシールするゴムリング１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスなどの冷却用ヒートシンク局部の鍍金方法を提供する。
【解決手段】 鍍金液材料をヒートシンクの鍍金を必要とする領域１１１に対応する容器１２内に貯留し、鍍金を必要とする領域に接触させて、被鍍金領域に接触する容器壁により囲われた局部に鍍金層を形成する。
めっき液は、下地層としての亜鉛めっき、ニッケルめっきに適用することができると共に、不必要な箇所へのめっきがされないため、めっき材料の損失が無く、生産効率がよい。 （もっと読む）

本体、例えば内燃機関用のピストンの表面を電解被覆するためのマスク（１）が提案される。このマスクは処理室（３）を備え、これにより被覆すべき表面が覆われ、流入開口部（７）と、層材料含有する電解質に対する流出開口部とに合流する。前側では処理室（３）が被覆すべき表面により閉鎖可能であり、裏側で処理室は平坦なアノードによって封鎖される。アノードは電極を介して直流電圧源のプラス極に接続されている。前記本体は前記直流電圧源のマイナス極に接続可能である。電解質ひいては被覆すべき層材料の均等な分散が次のようにして達成される。すなわち、前記マスク（１）はゴム状でエラスティックポリマからなり、前記マスク（１）には剛性のパイプシステムが鋳込まれており、該パイプシステムは前記流入開口部（７）および前記流出開口部を介して前記処理室（３）に合流し、前記パイプシステムは、真空ポンプ用の接続部（４，５）と、前記電解質用の容器と接続された接続部（６，１０）とを有する。
（もっと読む）

【課題】孔開き金属箔について、特にエッチングやめっきしにくい金属でも製造できる孔開き金属箔の製造方法とこれにより製造された孔開き金属箔を提供する。
【解決手段】作製すべき孔開き金属箔の面形状と同じ表面形状を持ち、且つ一定の厚みを有する型枠層をキャリア基材表面に形成し、前記型枠層の上面に乾式薄膜形成法により金属箔を形成した後、前記キャリア基材ならびに型枠層を金属箔から剥離する孔開き金属箔の製造方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された配線用の溝等の微細窪みに銅又は銅合金等の金属を隙間（空洞）なく均一にめっきすることができる基板のめっき方法及び装置を提供すること。
【解決手段】基板上の微細窪みに金属を充填する基板のめっき方法である。めっき促進剤を添加しためっき液中で第一のめっき処理（第一のめっき槽３にて）を行った後、被めっき表面に付着しためっき促進剤を除去又は低減させる除去剤を被めっき表面に接触させるめっき促進剤除去処理（めっき促進剤除去部４にて）を行ない、さらに第二のめっき処理（第二のめっき槽５にて）を定電位で行う。 （もっと読む）

【課題】燃料電池セパレータのセンタープレートとするバイポーラプレートをクラッド鋼を要することなく製造できるようにする。
【解決手段】電極板１４の両側に、所定の凹凸部をプレス成形してなるステンレス製のプレス材１５を、燃料側表面となる面１５ａを外側にしてそれぞれ配置し、重ね合わせ方向の両側からボルト２２，２４とナット２３，２５を用いて取り外し可能に締め付けて、電極板１４に各プレス材１５を密着させる。各プレス材１５の外周部とボルト挿通孔２０の部分をそれぞれ水密にシールして、組立体１７を形成する。組立体１７を、ニッケルめっき槽１６内でめっき処理することにより、プレス成形された凹凸部を有し、燃料側表面の材質をニッケルとし、酸化剤側表面の材質をステンレスとするバイポーラプレートを製造させる。 （もっと読む）

【課題】めっき方法に関し、電解めっきを実施するに際し、めっきシード膜の溶解を抑止し、且つ、めっきレートの向上を簡単な手段で実現できるようにする。
【解決手段】少なくともアノード及び電源を備えた電解めっき装置内にめっき対象物を設置する工程と、次いで、前記めっき対象物にゲル化されためっき液を載置する工程と、次いで、ゲル化されているめっき液を溶液化し且つ電源をオンにしてめっきを行う工程とが含まれてなることを特徴とする。 （もっと読む）