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国際特許分類[C25D5/02]の内容

国際特許分類[C25D5/02]に分類される特許

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【課題】 異なるリードフレームにめっきを施す際の位置合わせの時間を短縮することができる部分めっき方法を提供する。
【解決手段】 同一のスパージャ34を用いて異なる被めっき物31に対して部分めっきを施す際の部分めっき方法において、めっきマスク38の開口部50およびノズル板40のノズル47の位置を、異なる被めっき物21を支持手段32に支持させたときのめっき対象領域に合わせためっきマスク38およびノズル板40を予め複数作成しておき、異なる被めっき物31に対して部分めっきを施す際には、予め作成してあった複数のめっきマスク38およびノズル板40の中から、部分めっきを施そうとする被めっき物31に対応するめっきマスク38およびノズル板40を選択し、支持手段32の位置およびスパージャ34の位置を変更せずに、スパージャ34に取り付ける。 (もっと読む)


【課題】めっきすべき製品を変える際のノズル板およびめっきマスクの交換の手間を省くことができる部分めっき装置を提供する。
【解決手段】被めっき物のめっき対象領域に対して開口した開口部50が設けられためっきマスク38と、めっきマスク38の開口部50に向けてめっき液を噴射するノズル47が設けられたノズル板40と、めっき液を貯留するスパージャ34とを具備する部分めっき装置30において、めっきマスク38とノズル板40とが一体となって構成されためっきマスクユニット36が、スパージャ34に対して脱着可能に設けられている。 (もっと読む)


【課題】 スパージャへめっき液を供給するための配管の脱着を容易に行なうことができる部分めっき装置を提供する。
【解決手段】 スパージャ34の供給孔41と連通する流路81が内部に形成された筒状の接続部82が、スパージャ34の底面から突出して設けられ、接続部82に接続されてめっき液をスパージャ34内に供給させる配管84が設けられ、めっきマスク38をスパージャ34の開放端に装着すべく、スパージャ34とめっきマスク38とを挟み込んで締付けるためにスパージャ34の底面を押圧する押圧部64を有するクランプ装置43が設けられ、クランプ装置43の押圧部64が、配管84を押圧可能となるように設けられ、クランプ装置43がめっきマスク38とスパージャ34とを挟み込んで締付けた場合には、配管84がクランプ装置43の押圧部64によって押圧されて接続部82と接続するように設けられている。 (もっと読む)


【課題】操作の複雑性や使用材料による環境上の悪影響が回避でき、所用時間と費用の少ない車両用ホイールの表面処理方法を提供する。
【解決手段】車両のホイール40を回転させながら、硬いチップを有する切削工具50が該ホイール40の表面42に対して均一な圧力にて押圧され、該表面42がスムージングされるとともにシールされる。スムージングされるとともにシールされたホイール表面42は、次に、該スムージングされるとともにシールされたホイール表面42にニッケル層を直接適用する工程と、該ニッケル層上にクロム層を直接適用する工程とを含む方法を用いてクロムめっきされる。 (もっと読む)


【課題】 フレームめっき法を使用して可能な限り均一な厚さとなるように複数の磁性層パターンを安定に形成することが可能な磁性層パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 フォトレジストパターンのうちのフレーム部の厚さとめっき膜の厚さとの間の相関を表す相関データに基づいて、各フレーム部104F1〜104F3の厚さに各開口部104K1〜104K3ごとに差異を設けることにより、各フレーム部104F1〜104F3の厚さが各開口部104K1〜104K3ごとに異なるようにフォトレジストパターン104を形成したのち、そのフォトレジストパターン104のうちの各開口部104K1〜104K3に選択的にめっき膜を成長させることにより複数の磁性層パターン105を形成する。一連の磁性層パターン105の形成厚さがばらつきにくくなり、すなわち一連の磁性層パターン105の形成厚さが均一化される。 (もっと読む)


【課題】 プリント基板の製造プロセスを簡略化およびその製造コストの低減を可能とする技術を提供すること。
【解決手段】 プラスチックの基板611の上に、めっきシードとしての触媒金属を含有する有機または無機金属化合物を含む溶剤を塗布・乾燥させて金属化合物膜612を形成し、その所望領域に電子線などのエネルギ線613を照射して触媒金属を析出させる。当該照射領域への局所的なエネルギ線照射によりその照射領域のみで金属触媒析出の化学反応が生じ、触媒金属が局所的に析出してパターニングされた金属触媒膜614を得ることができる。また、エネルギ照射された基板611は、表面の溶融により触媒金属を極浅領域に取り込んだり、表面のアブレーションにより触媒金属と基板表面の接触面積が実効的に広くなったり、あるいは化学的改質により基板と触媒金属との結合状態が強固なものとなるので、固着程度が高まり金属触媒膜の剥離が生じ難くなる。 (もっと読む)


本発明は、めっき膜中でのAg濃度を調整したSn−Ag系はんだ合金めっき膜をリフローすることにより得られるボイドの発生が抑制された鉛フリーバンプおよびその形成方法に関する。本発明の鉛フィリーバンプは、Sn−Agの共晶形成濃度より低いAg含量のSn−Ag系合金膜をめっきにより形成し、当該合金めっき膜をリフローすることにより得られる。
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【課題】 コネクタの低背化筐体に適し、長期間在庫放置を経てもウィスカー発生懸念の無い電気電子部品ケースまたはシールドケースの材料を提供する。
【解決手段】 金属基材1上の一部に樹脂皮膜2を有すると共に、樹脂皮膜以外の金属基材上の少なくとも一部に再溶融凝固させたSnまたはSn合金めっき層3を有する電気電子部品ケースまたはシールドケースの材料、前記金属基材上に金属層を少なくとも1層有し、前記樹脂皮膜が前記金属基材上に、直接または前記金属層の少なくとも1層を介して設けられている電気電子部品ケースまたはシールドケースの材料、前記金属基材または前記金属層が下地処理されている電気電子部品ケースまたはシールドケースの材料、前記金属基材表面から樹脂皮膜表面までの高さが60μm以下である電気電子部品用金属材料、及び前記金属材料を用いた電気電子部品ケースまたはシールドケースの部品を提供する。 (もっと読む)


【課題】 電解メッキ用リード配線と金属シート間を絶縁するための絶縁層にピンホールが生じても、金属シートの表面にメッキ金属が析出することを防止できる配線回路基板前駆構造物集合シートを提供する。
【解決手段】 金属シート1の複数の配線回路基板被形領域1Aの各領域に、ベース絶縁層2、配線パターン3及びカバー絶縁層4がこの順に積層され、さらに該カバー絶縁層の所定部分に端子形成用の開口部4aが形成された配線回路基板前駆構造物10を設ける一方、電解メッキ用リード配線被形成領域1Bに、第1絶縁層12、配線パターン3と同一プロセスで形成されて、配線パターン3に繋がった電解メッキ用リード配線13、及び第2絶縁層14をこの順に積層し、金属シート1の電解メッキ用リード配線13の下に位置する部分に開口部16を設ける。 (もっと読む)


【課題】ワーク10を選択的に覆う非付着性取付具50,60およびその加工方法を提供する。
【解決手段】
非付着性の取付具50,60は、ワーク用コーティングを塗布する際、ワーク10の部分を選択的に覆う。取付具50,60の所定の表面は、約25Raもしくはそれ以下の平均表面粗さ、および約65Rcもしくはそれ以上のロックウェル硬さを有する。これにより、取付具50,60が、ワーク用コーティングに対し非付着性になる。ロックウェル硬さにより、取付具50,60の反復使用中、所望の平均表面粗さが維持される。取付具50,60により、取付具50,60とワーク10との間に生じるワーク用コーティングのブリッジングおよび、ワーク10に生じるスプレーしずく量が減少する。そのため、コーティング後に必要な手作業および再加工が最小限になり、プロセスのサイクル時間および生産量が著しく向上する。 (もっと読む)


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