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国際特許分類[C25D5/16]の内容

国際特許分類[C25D5/16]に分類される特許

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【課題】銅または銅合金を含む基体への銀被膜の接着性が改良された、高温においてさえ、良好な接着性を有する銀層がコーティングされた、電気コネクタ、プリント回路板、発光ダイオードまたは電気自動車の部品またはコンポーネントとして使用されうる銅含有基体を提供する。
【解決手段】銅または銅合金を含む金属基体に隣接してニッケル層を堆積させ、前記ニッケル層に隣接して薄膜のスズ層を堆積させ、次いで前記薄膜のスズ層のすぐ上に前記薄膜のスズ層の少なくとも2倍の厚さの銀層を堆積させる。 (もっと読む)


【課題】電解めっき法により基板上の複数の領域に異なる或いは同一の膜厚のめっき膜を形成する際の、電解めっきの印加電圧やパターンめっきの為のパターンレイアウトなどに関する制約を少なくした電解めっき方法を提供する。
【解決手段】基板1上の複数の領域14、15に所定の膜厚のめっき膜5、6を形成する電解めっき方法である。基板1上の複数の領域14、15に夫々めっき電流が流れる経路の少なくとも1つに、オーミック特性を有する抵抗体4を配し、複数の領域14、15に同時に電解めっきによりめっき膜5、6を成長させる。 (もっと読む)


【課題】高導電性と耐食性を両立し、燃料電池内で長期間安定して使用できる燃料電池用セパレータおよびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】燃料電池用セパレータ1は、純アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基板2と、基板2の上に形成されためっき層3とを備え、めっき層3が、基板2側に形成された銅層3aと、銅層3aの上に形成された錫層3bとを備え、錫層3bが最表層に形成されており、銅層3aの厚さが0.10μm以上であり、かつ、錫層3bの厚さを銅層3aの厚さで除した値が0.1〜50であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 非貫通孔内、貫通孔内へのめっき充填と同時に被めっき面にめっき膜を薄く形成できる電解めっき方法を提供する。
【解決手段】 絶縁体20A、20Bが接触した部分では、電解めっき膜36の成長が遅くなる。即ち、絶縁体20A、20Bにより鉄イオンがめっき界面に強制的に供給され、3価の鉄イオンが2価の鉄イオンに成る還元反応が起こり、銅の析出を抑える。絶縁体20A、20Bが接触しない貫通孔31a内では、めっき界面に3価の鉄イオンが濃度勾配により拡散するのみで強制的には供給されず、3価の鉄イオンの還元反応が低く、電解めっき膜36が成長し、スルーホール導体42を充填しながら、コア基板表面の電解めっき膜36を薄く形成することができる。 (もっと読む)


【課題】一つの半導体基板に形成された複数品種の半導体素子に対し、それぞれの品種に対応したメッキ処理を施すこと。
【解決手段】複数の品種に対応して複数の半導体素子形成領域が画定された半導体基板上に、前記複数の半導体素子形成領域に対応し且つ相互に独立したメッキ処理治具を当接し、前記複数の半導体素子形成領域のそれぞれに対して独立にメッキ処理を施す。 (もっと読む)


【課題】貫通孔を有するシリコンウエハの貫通孔にオーバーハング形状や内部ボイドがなくめっきを充填する方法を提供すること。
【解決手段】シリコンウエハ内の貫通孔開口部と同位置に開口部を有するプレートを一定の距離をおいてシリコンウエハの貫通孔開口部にプレート開口部を合わせて、めっき電極側に向けて配置してめっきを行う。プレート開口径は貫通孔開口径より少し小さくする。プレート開口径と貫通孔開口径Rの差を2xとしたとき、x/Rを0.1〜0.3、シリコンウエハとプレートの距離を0.05mm〜1.0mmとしたときに、前記課題を実現できる。プレートは、多孔質セラミックのような絶縁体でかつ多孔質材料が望ましく、シリコンウエハ表面のめっき成長も抑制できる。 (もっと読む)


【課題】はんだ性及び接触信頼性を損なうことなく、内部応力に起因するウイスカの発生を抑制するとともに、外部応力に起因するウイスカの発生をも抑制するめっき層及びその形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】めっき層に厚みが必要なリード部には、めっきを厚めに皮膜し、めっき層の厚みがリード部ほど必要でなく、むしろ外部応力に起因するウイスカの抑制効果を重視する必要のある接点部のめっき層は薄くする。めっき液浸漬処理後に高温処理をおこなうが、このときめっき層に供給する熱量は、リード部ははんだ性を確保するのを第一義にし、ウイスカ対策は内部応力の除去が達成できる溶融状態未満の熱処理をおこない、接点部は、溶融しためっき材料の表面張力による形状変化はむしろ利点として作用するので、一旦めっき層を溶融させて内部応力の除去を完璧にできるリフロー処理をおこなう。 (もっと読む)


【課題】端子嵌合部5とはんだ付け部6を有する嵌合型コネクタ用端子において、端子嵌合部5において低摩擦係数を実現し、はんだ付け部6のはんだ付け性を改善する。
【解決手段】表面粗さの大きい銅合金板条に打抜き加工を施して端子素材を形成した後、銅合金板条全体に後めっきとしてNiめっき、Cuめっき及びSnめっきを行う。Snめっき層ははんだ付け部6で厚く、端子嵌合部5で薄く形成する。続いてリフロー処理して、Cuめっき層とSnめっき層からCu−Sn合金層12を形成し、かつ平滑化したSn層13を得る。これにより端子嵌合部5では硬いCu−Sn合金層12が一部露出して摩擦係数が低下する。はんだ付け部ではCu−Sn合金層12が露出することなく、Sn層13が全面を被覆してはんだ付け性が改善される。 (もっと読む)


本発明は、板金部材を製造するための方法であって、熱延又は冷延鋼帯が溶融浸漬めっき又は電解めっきされ、めっきされた熱延又は冷延鋼帯はフレキシブルロール圧延処理され、フレキシブルロール圧延処理中、異なるロール圧力によって、鋼帯が肉厚の異なる板金となるようにフレキシブルロール圧延され、めっき時に、前記フレキシブルロール圧延後の板金肉厚に対応して、また、前記フレキシブルロール圧延時のロール圧力に対応して、異なる厚さのめっき層が形成され、その際、ロール圧力に応じ、ロール圧力の高まりが予測されると、めっき層厚さを厚く形成する処理、又は前記めっき層に対して、前フレキシブルロール圧延の前又は後に所望の放射率又は熱吸収率を付与するための機械的又は化学的表面処理、あるいはその両方の処理が施される。
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【課題】従来のめっきは色調が限られており、塗装では金属調外観を出すことはできない。さらに塗装においては耐摩耗性が低いため、環境の厳しいところでは長期の使用で塗膜が摩耗することもあり、使用には適さない。真空成膜加工では金属皮膜を付けるためめっき同様の色調が出せるが、耐摩耗性が低く使用できない。また大物や複雑な形状のものはできない。
【解決手段】複数層のめっき被膜を形成する場合は最上層〜第3層までに、単層の場合はそのめっきを微細な凹凸によってできるものとし、凹凸の面積、深さを調整することで、干渉色のあるめっき品ができる。 (もっと読む)


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