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国際特許分類[C25D5/20]の内容

国際特許分類[C25D5/20]に分類される特許

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【課題】ステンレス鋼薄板表面に形成するAuめっき層の厚みが薄くても耐食性に優れ、生産性も高い端子又はコネクタ用めっき材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ステンレス鋼薄板からなる基材の表面に、原子間力顕微鏡により測定した算術表面粗さ(Ra)が3.0nm以下であるAuめっき層を形成してなる端子又はコネクタ用めっき材である。 (もっと読む)


【課題】ステンレス鋼薄板表面に形成するAu被覆層の厚みが薄くても耐食性を向上させることが可能な燃料電池用金属セパレータ材料の製造方法を提供する。
【解決手段】オーステナイト系ステンレス鋼薄板からなる基材2の表面に、pH1.0以下のAuめっき浴を用いて厚み20nm以下のAu被覆層を形成する燃料電池用金属セパレータ材料の製造方法であって、基材及び/又はAuめっき浴に超音波振動を付与した状態で電解めっきする。 (もっと読む)


【課題】凹部の側面にメッキ層を形成する場合、凹部内に存在するメッキ液の入れ替えが困難であるため、いわゆるエッジ効果により、凹部側面のうち、凹部の底部に近い部分におけるメッキ層の厚みよりも、凹部の開口部に近い部分におけるメッキ層が小さくなってしまう。
【解決手段】主面上に凹部を有する絶縁性基体と、前記凹部の側面上に配設された配線導体と、前記配線導体上に配設され、前記凹部の側面から前記凹部の中心軸に向かって(1,1,0)方向に配向したNiを主成分とするメッキと、を備えた配線基板とする。 (もっと読む)


【課題】微細孔内への金属充填の均一性を向上させることにより、微細孔内へ金属を充填した後に突出した部分を研磨等により除去して平滑にする表面処理工程を不要とでき、または、この表面処理工程をより短時間で行うことができ、その結果、作業効率に優れる、増強電場を発生させる微細金属体を有する微細構造体の作製方法を提供する。
【解決手段】基材の表面に微細孔を形成する微細孔形成工程(A)と、微細孔形成工程(A)において微細孔が形成された基材をメッキ液に浸漬させるメッキ液浸漬工程(B)と、メッキ液浸漬工程(B)の後に、加振手段により基体およびメッキ液を振動させて、メッキ液を微細孔内に浸入させる加振工程(C)と、加振工程(C)と並行してまたは加振工程(C)の後に、電解メッキにより微細孔内に金属を充填して、増強電場を発生させる微細金属体を形成する金属充填工程(D)とを有することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】 表面の摩擦係数が小さく、耐久性に優れた複合金属材料を提供する。
【解決手段】 表面がフラーレン或いはフラーレン誘導体3を含む金属1で構成される複合金属材料。 (もっと読む)


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