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国際特許分類[C25D7/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 電気分解または電気泳動方法;そのための装置 (15,555) | 電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳 (10,553) | 被覆される物品に特徴のある電気鍍金 (2,030)

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【課題】超硬合金をハイクロム鋳鉄と強固に接合するにはカーケンドール効果によりハイクロム鋳鉄と超硬合金の接合面に分子拡散層を形成するフラックスが必要である。また、回収超硬合金チップをハイクロム鋳鉄に鋳込む場合は銅メッキを施すために真空薄膜などのコーティングを除去しなければならない問題がある。このため超硬合金とハイクロム鋳鉄との複合ライナの製造は困難であり普及していなかった。
【解決手段】フッ化銅浴中のメッキにより真空薄膜の有無に関わらず超硬合金に強固な銅メッキを施こすとともに、銅メッキの上に液体フラックスを塗布するか、銅メッキの上にマンガンメッキもしくはカニゼンメッキもしくはマンガンメッキとカニゼンメッキを施して液体フラックスを塗布してハイクロム鋳鉄と鋳込むことによりハイクロム鋳鉄と超硬合金が完全に接合した耐摩耗ライナの製造を具現化した。 (もっと読む)


【課題】高度に複雑化したプリント基板のめっきにおいてもヤケがなく、面内膜厚分布の均一性に優れ、かつスルーホールめっきの均一性にも優れるスズめっき液を提供する。
【解決手段】本発明のスズめっき液は、スズイオン源、少なくとも1種の非イオン性界面活性剤、イミダゾリンジカルボキシレート及び1,10−フェナントロリンを含有する。 (もっと読む)


【課題】連続搬送される帯状被処理物の必要部分のみにめっき液を噴出して連続部分めっきしながら、余剰のめっき液が付着したマスク回転体を効率的に洗浄することができる連続部分めっき装置及びそれを用いた連続部分めっき方法の提供。
【解決手段】長尺の被処理物11を搬送しつつ、めっき必要部分にのみめっき処理を施すための連続部分めっき装置であって、アノード電極となる側板に形成された多数の電極ノズル孔から放射状にめっき液を噴出する電極構造体と、該電極構造体の外側に、それ自体がカソード電極となる被処理物11を搬送しながら回転し、被処理物11のめっき不要部分にめっき液を接触させないようにするマスク回転体3を同心円状に配置し、余剰のめっき液が付着したマスク回転体3に向かって微量の純水を噴霧する洗浄ノズル1、マスク回転体3の表面から過剰な液体を落とす拭き取り部材2を付設したことを特徴とする連続部分めっき装置。 (もっと読む)


【課題】熱放射性を一層向上することが可能な放熱部品及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本放熱部品は、第1の金属からなる基材と、前記基材上に形成された、第2の金属中に炭素材料が分散された複合めっき層である第1めっき層と、前記第1めっき層上に形成された第2めっき層と、を有し、前記第1めっき層は、前記炭素材料の一部が前記第2の金属の表面から突出した複数の突出部を含み、前記第2めっき層は、隣接する前記突出部間を充填せずに、前記突出部の表面及び前記第2の金属の表面を覆うように形成されている。 (もっと読む)


【課題】処理対象基板を良好に迅速に基板処理溶液で処理することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置100は、溶液保持容器130に収容されている基板処理溶液TLに処理対象基板PBが浸漬される。このような溶液保持容器130に溶液供給機構141が基板処理溶液TLを上方から下方に落下させて順次供給する。このように上方から下方に落下する基板処理溶液TLを溶液乱流機構142が処理対象基板PBの一面の基板処理領域TSに圧送する。このため、処理対象基板PBの一面の基板処理領域TSは基板処理溶液TLが単純に上方から下方へ落下するだけではなく、乱流となって圧送されることになる。 (もっと読む)


【課題】処理対象基板の一面の基板処理領域のみを簡単かつ迅速に基板処理溶液で処理することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置100は、溶液保持容器130に収容されている基板処理溶液TLに処理対象基板PBが浸漬される。このような状態の処理対象基板PBの基板処理領域TSに溶液供給機構が基板処理溶液TLを圧送するとともに吸引する。このため、処理対象基板PBの一面の基板処理領域TSは圧送されるとともに吸引される基板処理溶液TLにより処理されることになる。 (もっと読む)


【課題】 めっき中のセラミック素体の腐食を低減することができるNiめっき液を提供すること。
【解決手段】 好適な実施形態のNiめっき液は、セラミック電子部品の端子電極を形成するためのNiめっき液であって、pHが5.5以上であり、Sr、Ba、Ca及びMgからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素を含む。 (もっと読む)


【課題】 被めっき物に均一で適切な超音波振動を加えることができ、超音波振動によりめっき浴中の粒子の分散性を向上させ、均一な大面積複合めっきを可能とする複合めっき処理方法および複合めっき処理装置を提供する。
【解決手段】 被めっき物に2つ以上の振動モードの超音波振動を励振できるようにし、その振動モードの組み合わせにより、被めっき物に屈曲進行波や時間的に変化する複数の定在波を励振して、めっき浴中の粒子の分散性を向上させ、均一な複合めっき被膜の形成を可能とする。 (もっと読む)


【課題】ミラー光沢銀層をニッケルもしくはニッケル合金基体上に電気めっきするための、環境に優しい銀電気めっき方法を提供する。
【解決手段】a)1種以上の銀イオン源、1種以上のイミドもしくはイミド誘導体、および1種以上のアルカリ金属硝酸塩を含み、シアン化物を含まない溶液を提供し;b)ニッケルを含む基体を前記溶液と接触させ;並びにc)ニッケルもしくはニッケル合金上に銀ストライク層を電気めっきする。 (もっと読む)


【課題】主体金具に対するニッケルメッキ層の密着性を向上させ、ニッケルメッキ層を設けることによる耐食性の向上効果を十分に発揮させる。
【解決手段】スパークプラグ1は、軸線CL1方向に延びる筒状の主体金具3と、ニッケルを主成分とする金属からなり、主体金具3の外表面を覆うニッケルメッキ層31とを備える。ニッケルメッキ層31の外表面に直交する断面を、200kVの加速電圧による透過型電子顕微鏡で観察したときの、黒を0とし、白を255とした256階調の白黒濃淡画像において、白黒濃淡画像の256階調での平均値が170以上230以下とされる。 (もっと読む)


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