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国際特許分類[C30B11/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 結晶成長 (9,714) | 単結晶成長;そのための装置 (9,714) | ノーマル・フリージングまたは温度勾配凝固による単結晶成長,例.ブリッジマン―ストックバーガー法 (253)

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【課題】 透過率が高く、高濃度に3価のTbイオンを含む磁気光学素子用酸化テルビウム結晶を提供する。
【解決手段】 組成式(Tb1−a(式中、MはEr、Tm、Yb、Lu、Scから選択される一種以上の元素、0.01≦a<0.3)で示される結晶系が立方晶系の結晶体であって、1.06μmと532nmにおける3mm長さあたりの直線透過率がいずれも70%以上であることを特徴とする、磁気光学素子用透光性酸化テルビウム結晶であり、製法としては、水冷した容器1の中に結晶育成用の原料2を充填し、原料の中央部を高温に加熱融解するが、水冷容器に接する原料2の外側部分の外皮2aは溶融せず、スカル状に焼結緻密化して坩堝として作用させ、原料2を充分溶融してから高周波パワーを減らし、容器1を下げて底から冷却して結晶化させるスカルメルト法が好適であるが、フローティングゾーン法を採用することもできる。 (もっと読む)


【課題】 種結晶と結晶方位がそろった結晶を歩留りよく育成することができ、大型の結晶を効率的に育成する。
【解決手段】 一方向凝固法による結晶育成に用いる結晶育成用るつぼ30であって、結晶原料を収納し、かつ結晶を成長させる容器部分である結晶成長部32と、結晶成長部32とネック部38を介して連通して設けられた種子結晶40の収納部34とを備え、ネック部28は、種子結晶40の収納部34よりも細く形成されている。 (もっと読む)


【課題】高いキャリア濃度を有し、かつ、高い結晶性を有するGaAs単結晶の製造方法およびGaAs単結晶ウェハを提供する。
【解決手段】種結晶10、不純物となるSi原料12およびGaAs原料14、固体の二酸化ケイ素(石英板)、ならびに酸化ホウ素原料18をるつぼ4内に収容した状態で縦型ボート法を行い、GaAs単結晶20を成長させる。成長前の加熱により石英板が融解し、原料溶融時点では既にGaAs融液15と液体B2O319との界面近傍に、極めてSiO2濃度の高い層(SiO2高濃度層17)が形成されるため、原料融解時から結晶成長時にわたって、ホウ素濃度を低く抑えることができる。 (もっと読む)


【課題】垂直ブリッジマン法による単結晶の成長装置で、簡便な方法で結晶に欠陥のない高品質な単結晶を安定して得ることができる構造の結晶製造装置を提供する。
【解決手段】単結晶3を成長させるルツボ1の下部を、支持して引き下げを行うための支持構造20が、ルツボの底面の外周部分に接する円筒状の支持管21と、支持管がルツボを設置する設置部の反対側の端部に底部を有し、底部に結合して支持管とルツボを支持して引き下げを行う支持部材と、支持管内部を遮蔽する遮蔽部材23とを有する構造とする。 (もっと読む)


【課題】 種結晶と結晶方位がそろった結晶を歩留りよく育成することができ、大型の結晶を効率的に育成することを可能にする。
【解決手段】 るつぼ10のテーパ収納部11bのテーパ面に接する面が、テーパ面と同一の傾斜角度を有するテーパ面に形成された接触面を備える種結晶20を使用し、るつぼ10に種結晶20を配置する際に、テーパ収納部11bのテーパ面に種結晶20の接触面を接触させて配置し、結晶原料を溶融した際に、融液がテーパ収納部11bと種結晶20との界面に流れ込むことを抑制して種結晶20から単結晶を成長させる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、小さい遅延時間定数、特に少なくともCe:LSOと同等な遅延時間定数を有することができる物質を与える。
【解決手段】本発明は、一般式M1−xCexBr3の無機シンチレーション物質に関する。ここで、Mは、La、Gd、Yからなる群のランタニド又はランタニドの混合から選択され、特にLa、Gdからなる群のランタニド又はランタニドの混合から選択され、またxは、セリウムによるMの置換の程度であり、0.01mol%又はそれよりも大きく、厳密に100mol%未満である。また本発明は、単結晶シンチレーション物質を成長させる方法、並びに産業、医療及び/又は原油掘削探知の用途のためのシンチレーション検知器の部品としてシンチレーション物質の使用に関する。 (もっと読む)


【課題】転位を低減した半導体結晶を製造する、半導体結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体結晶の製造方法は、先端部6aと胴部6bとを有する縦型容器の先端部6aに種結晶7を配置する工程と、縦型容器の胴部6bに固体の原料9、10を配置する。原料9、10を加熱することにより原料9、10を溶融して、種結晶7上に原料融液を形成する工程と、原料融液を種結晶7側から凝固することにより、半導体結晶を成長する工程とを備え、原料融液を形成する工程では、種結晶7と接触する原料融液の温度と、原料9、10と対向する側の種結晶7の端部8の温度との差を30℃以下にする。半導体結晶の製造方法は、種結晶7の少なくとも一部を溶融する工程後に、原料9、10を加熱することにより原料9、10を溶融して、種結晶7上に原料融液を形成する工程を備えていてもよい。 (もっと読む)


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