短切断の合成またはセルロースに基く天然の強化繊維が通常の容量測定または重量測定による秤量装置を用いる単軸または二軸スクリュー押出し機或いはダブルアームドバッチ式混合機で行われるような混練り工程に均一に供給される形でポリマー複合物のために提供される。本強化繊維は、混練り工程に供給したときにマトリックス樹脂中に分散し、均一に分布するようになる。また本強化繊維は、繊維を被覆し且つ各切断繊維束内に一時的繊維間結合を形成する仕上げ組成物を有する切断繊維束の形で提供される。この仕上げ組成物は、切断繊維束が容量低下または重量低下によるスクリュー供給機装置により混練り工程に均一に供給できるように繊維間付着性を提供する。混練り工程での混合時には、一時的結合が壊れ、切断繊維束が別々の個々の繊維に崩壊し、マトリックスポリマー中に分散する。短切断強化繊維の製造法も提供される。 （もっと読む）

【課題】配合セラミック｛ＲＳＲ（遠赤外線用のマイナスイオン発生材）、ペー竹炭、及び、パラファインＭ−１（マイナスイオン発生材）｝と、二酸化ゲルマニウムを適量に混ぜ合わせ、アクリル系樹脂バインダー（粘着材）とともに、綿に吹きつけ加工した、全身の疲労回復用の寝具及び、健康マットの中詰め綿として使用する綿を提供する。
【解決手段】原綿をカード機により解きほぐし、オートフィダーにより、数枚を重ね合せ、さらにローラーにより、厚みの調整を行った綿に、配合セラミック及び二酸化ゲルマニウムを適量に混ぜ合わせた溶液に、粘着材であるアクリル系バインダーを混入し、再度、よく混ぜ合わせた溶液を、高圧スプレーで両面に噴射付着させ、続いて、乾燥機内温度、１５０℃＋−５℃で約８分間乾燥する。 （もっと読む）

本発明は、大まかには、肌に接触させて、肌から粘液を取り除くのに適したウェットワイプまたはシートに関する。より詳しくは、本発明は、粘液を溶かして取り除くのに適していて、ウェットワイプの布状マトリックス(20)とともに用いられる生理食塩水溶液成分を含んでいるウェットワイプに関する。典型的には、ウェットワイプの布状マトリックス(20)は、1平方メートル当たり溶液約125グラムの吸収容量を持っている。また、マトリックスには、生理食塩水溶液がマトリックス(20)の吸収容量の約80パーセント以下の程度含浸している。 （もっと読む）

【課題】 外科医が手術中に逆に感染しないようにするための、外科医のための手術服または掛け布を製造するために使用される塗布繊維であるコーティング生地を提供する。
【解決手段】 繊維1と少なくとも前記繊維1の一部に供給された塗布膜層2を具備する生地であって、該塗布膜層2は前記繊維1の一部に液体が浸み込まないようにするために、該繊維1の一方側に、防水性を有して風を通しやすい塗布膜層2としてコーティングにより形成している。 （もっと読む）

【課題】ラミー繊維の低い生産性や、製品品質の不安定さといった要因から不可能であった、超高繊度なラミー布帛を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明による製造方法は、ヤーンを形成するために水溶性繊維をキャリヤとして用いることによって、２５００番手以上のラミー繊維を混紡する段階と、ヤーンを低温でサイジング処理し、その後にヤーンを製織し生機を製造する段階と、１６０番手以上の繊度を有するラミー繊維を得るために、プリント工程や染め工程の後の仕上げ工程の間に、生機を減量加工することによって、水溶性繊維を生機から取り除く段階とを備える。 （もっと読む）

本発明は、テキスタイル基材に永続的な汚れ防止性およびソイルリリース特性を付与するために有用な組成物であって、（Ａ）フルオロポリオキシアルケン鎖［鎖（Ｒ_ｏｆ）］を含む少なくとも１個のフッ素化ブロックと、任意に１個以上の芳香族基または脂環式基を含んでいてもよい２〜１４個の炭素原子を有する炭化水素鎖［鎖（Ｒ_ＨＣ）］を含む少なくとも１個の官能性ブロックとを含む少なくとも１種のフッ素化イオン化性ポリウレタンポリマー［ポリマー（ＰＵＲ）］であって、前記鎖（Ｒ_ＨＣ）が少なくとも１個のイオン化性基を含み、前記両ブロックが式（Ｉ）（式中、Ｅは、任意に芳香族環を含んでいてもよい直鎖または分岐の二価炭化水素基である）のウレタン部分によって連結されており、前記ポリマー（ＰＵＲ）がパーフルオロアルキル鎖［鎖（Ｒ_ｆ）］を含まない、ポリウレタンポリマー［ポリマー（ＰＵＲ）］と、（Ｂ）式（ＩＩ）の１個以上のエステル部分および／または式（ＩＩＩ）のウレタン部分および／または式（ＩＶ）のウレア部分によって連結された少なくとも１個のパーフルオロアルキル鎖［鎖（Ｒ_ｆ）］を含む少なくとも１種のフッ化炭化水素ポリマー［ポリマー（Ｆ）］と、（Ｃ）少なくとも１種の架橋剤とを含む組成物に関する。本発明の更なる目的は、テキスタイル基材を処理するための前記組成物の使用および前記処理から得られたテキスタイル基材である。
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