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国際特許分類[F27D11/00]の内容

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【課題】マイクロ波を利用して乾燥炉内に装入された塊成化物の下層部位を選択的に加熱すること。
【解決手段】本発明に係るマイクロ波乾燥装置は、被乾燥物をコンベアにより搬送する際に当該被乾燥物に対して熱風を吹き付けることで前記被乾燥物に含まれる水分を低減させる熱風式の乾燥炉に対して設置され、被乾燥物を乾燥させるために用いられるマイクロ波を発振するマイクロ波発振機と、被乾燥物層の内部に対し、マイクロ波が加熱可能な加熱範囲が被乾燥物層の最下層を含む深さまで挿入された複数の導波管とを備え、複数の導波管のうち少なくとも2つは、乾燥炉の炉幅方向の互いに異なる位置に配置されており、炉幅方向に隣り合う導波管の前記搬送方向の位置は、互いに相違する。 (もっと読む)


【課題】マッフルの耐久性の低下を好適に抑制することができる連続加熱式マッフル炉を提供する。
【解決手段】本発明の連続加熱式マッフル炉は、マッフル8の外部に配置され、被処理物Wを加熱する複数のガスバーナ4a,5a,6aと、マッフル8の外部に配置され、当該マッフル8を保温する電気ヒータ4b,5b,6bと、を備えている。 (もっと読む)


【課題】製品の外部と内部の温度差が小さくなるよう効率よく加熱することができ、更には加熱時間の短縮やエネルギーコストの削減も図ることができるシート状積層体の加熱方法を提供する。
【解決手段】シート状本体の表面に樹脂皮膜層が積層されたシート状積層体を、赤外線ヒータを備えた連続炉の第1加熱域において表層温度が目標温度に達するまで昇温する。次いで、均熱域において表層温度の急降下を抑制する程度に加熱温度を制限して表層側から内部側への伝熱により内部温度を上昇させる。最後に、第2加熱域において表層温度を目標温度まで再び昇温して、シート状積層体の表層温度及び内部温度が目標温度範囲内となるように加熱する。 (もっと読む)


【課題】セラミック体を加熱する際に、工程時間を短縮し、加熱速度を高め、従来より低い温度で焼結できる装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】単一モードマイクロ波加熱室を画定する照射装置12と;前記室内に配置される断熱構造体16と;セラミック体よりも低いマイクロ波結合温度を有する断熱構造体内に配置されたサセプタ20と;前記サセプタに隣接して配置されたセラミック体22と;マグネトロン24と;および温度測定装置28とから構成されるセラミック体の焼結装置である、さらにセラッミク体を焼結する際に、該装置を用いて、加熱温度、加熱時間、加熱速度、冷却速度を所定条件とした方法である。 (もっと読む)


【課題】簡単な構造で安定した加熱を行うことができるとともに、消費電力を抑制することのできる加熱装置を提供することを目的とする。
【解決手段】加熱装置は、第1の加熱板1と、第1の加熱板1とは所定の距離離間して対向するように配置され、複数の穴5が形成された第2の加熱板2と、第2の加熱板2の面2aから所定の距離離間して配置されるハロゲンヒータ3とを備えている。加熱装置は、加熱対象物4を第1の加熱板1と第2の加熱板2との間に介在させ、当該加熱対象物4を加熱する。 (もっと読む)


本発明は、マイクロ波放射をマイクロ波供給源(2)から流動層反応炉(1)へ供給する、反応炉(1)における粒状固形物の熱処理方法、および対応するプラントに関するものである。エネルギーの利用およびマイクロ波放射の導入を改善するため、第1のガスまたはガス混合物を好ましい中央ガス供給管(3)を通して下方から、反応炉の混合室(7)へ導入し、ガス供給管(3)の少なくとも一部を、流動用ガスを供給することにより流動化される固定環状流動層(8)によって包囲している。マイクロ波放射は、混合室(7)へ同ガス供給管(3)を通して供給される。
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【課題】 半導体ウェハ等の板状被加熱物の面内照度分布を半径方向で均一化し、照度分布がブロードになるまでの距離を短くすることができる熱処理装置を提供することにある。
【解決手段】 ランプ、抵抗ヒータ等の加熱サークル4を同心円状に配置した面状加熱装置1に対し、板状被加熱物5を対向させ且つ回転させるように構成し、板状被加熱物5の回転中心C2を、相対的に上記面状加熱装置の加熱源サークル群の円弧の中心C1からずらせ、板状被加熱物5が温度の異なる高低区域を通過する過程で板状被加熱物5の面内温度差が緩和されるように偏心させる。 (もっと読む)


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