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国際特許分類[F27D7/00]の内容

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【課題】有機溶媒蒸気を速やかに炉外に排出することができ、塗膜を効率的に乾燥させることができるバッチ式塗膜乾燥炉を提供する。
【解決手段】塗膜が形成された平面状のワーク3が載せられるステージ2と、その上方の天井部に配置されワーク3を加熱する赤外線加熱装置5と、ステージ2を挟んで設置された送風手段11及び排気手段12とを備える。この構成により、赤外線加熱装置5とワーク3との間の空間内にワーク3の上面から離隔した高さの横風を形成し、塗膜から発生する有機溶媒蒸気を速やかに炉外に排出する。 (もっと読む)


【課題】従来の方法では、炉内の水分除去が不十分で、露点を目標の−45℃以下とするのに長時間を要するため、容易に低露点雰囲気とならしめる炉内雰囲気改善法を提供する。
【解決手段】炉内雰囲気ガスから一部取り出したガスをリファイナー7で脱湿した後、再び炉内12へ供給する、連続焼鈍炉3の雰囲気調整方法において、前記取り出したガスを前記リファイナーに通した後、熱交換器6にてガス温度を400〜600℃にする昇温を行った上で、焼鈍炉壁10から炉壁耐火物11内部を経由させて炉内へ供給する。 (もっと読む)


【課題】工業炉における金属材料または金属ワークピースの熱処理に使用されるプロセスガスの調製方法であって、処理チャンバと調製チャンバ間に導かれたガスの分解反応が生じることなく、出力/入力モニターを介して、調製チャンバ内でこれらガスの最適調製を監視する方法および装置を提供する。
【解決手段】処理チャンバ1.1での熱処理後に、前記熱処理で消費された使用済みプロセスガスを調製チャンバ2.2へ供給するステップと、前記調製チャンバ2.2において、前記処理チャンバ1.1の温度とは独立した最大で約1250°Cまでの温度で、前記使用済みプロセスガスを再利用してプロセスガス3を調製するステップと、前記調製チャンバ2.2で調製された調製済みプロセスガスを、前記処理チャンバ1.1へ供給するステップと、前記処理チャンバ1.1で熱処理を行う前に、随意的に前記調製チャンバ2.2で反応ガスを生成するステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】炉芯管内へ供給する雰囲気ガスで回転するガス流束を形成して雰囲気ガスに直進性を誘導させ、それにより、被処理物の近傍における雰囲気ガスの滞留を抑制するばかりでなく、乱流の発生を防止し、雰囲気ガス、発生ガスを炉芯管内に沿って排気口へ向け安定した流れで直進させて処理ムラの発生を防止する熱処理炉を提供する。
【解決手段】加熱手段3を有する炉本体1内に円筒状の炉芯管2を配置し、その炉芯管の一端部に雰囲気ガスの供給口5aを、他端部に排気口7aを設けた熱処理炉Aにおいて、前記ガス供給口5aの前位置に、供給されるガス流の乱流を抑制しながら雰囲気ガスを排気口方向へ誘導させる整流ファン14を配設した。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成によって、換気システムの換気量を最適に制御することが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理装置10は、ヒータ20、参照負荷率演算部(CPU50)、換気量調整部16、および換気量制御部(CPU50)を備える。ヒータ20は、炉体12の内部に配置され、ワーク18を加熱するように構成される。参照負荷率演算部(CPU50)は、ヒータ20の参照負荷率を演算する。換気量調整部16は、換気システム11の換気量を調整する。換気量制御部(CPU50)は、参照負荷率演算部(CPU50)の演算結果に基づいて、換気量調整部16を制御する。換気量制御部(CPU50)は、ヒータ20の参照負荷率の増加に応じて換気システム11の換気量を増加させる一方で、参照負荷率の減少に応じて換気システム11の換気量を減少させる。 (もっと読む)


【課題】常温分離法により製造される窒素ガスを原料として安定した組成の窒素と水素と水との混合ガスを安価に製造することができる熱処理雰囲気ガス発生方法を提供する。
【解決手段】圧力変動吸着分離式窒素発生手段又は分離膜式窒素発生手段で発生させた原料窒素ガスに酸素含有ガスを混合して所定酸素濃度の酸素混合窒素ガスを発生させる工程と、該酸素混合窒素ガスに所定量の水素ガスを添加して原料混合ガスとする工程と、該原料混合ガス中の酸素と水素とを触媒反応させて水を生成させ、熱処理炉に導入する熱処理雰囲気ガスとする工程とを有している。 (もっと読む)


【課題】還元焼成時において炉室内への還元ガスの供給を自在にコントロールすることができ、しかも、化石燃料を使用せずに還元焼成を行うことができ、環境負荷が小さく、自然環境を保全しようとする立場からも好適な電気式陶芸窯を提供する。
【解決手段】本体1と還元材燃焼炉4とによって構成され、還元材燃焼炉4は、内部空間が、中段に保持された仕切板5によって、上方の燃焼室6と下方の加熱室7とに仕切られるとともに、扉9を閉めることによって内部空間を閉塞できるように構成され、燃焼室6は、連絡路10を介して本体1の炉室2と連通した状態となっており、加熱室7内には、加熱装置8が配置されており、仕切板5の上に載置した還元材を加熱し、燃焼させることができるように構成した。 (もっと読む)


【課題】煤煙の発生を抑制するだけでなく、陶磁器の焼き上がりに不具合を生じさせることのない登り窯や穴窯を提供する。
【解決手段】登り窯1の煙道15a,15bには、背が高く、幅も広く、中程に中間壁21を備えた二次燃焼室20を備えている。中間壁21の上流側直前には、バーナー22が設置される。バーナー22は、燃料(ガス、灯油等)を停止して空気のみを吹き込むブロワーとして使用可能なものであって、それ自体が、二次燃焼室20内に進入・後退可能に設置される。二次燃焼室20の中間壁21の上部にはロストル23及び温度センサ24が設置される。二次燃焼室の入口25の近傍には仕切り壁26が設置される。二次燃焼によって発生したガスは、仕切り壁26に遮られると共に、送風機30が煙突内に発生させる気流に引かれ、逆流することなく排出される。 (もっと読む)


【課題】単位枚数あたりのワークを処理するのに要する熱処理空間を拡張させることなく、また、炉体内部のクリーン度を維持しつつ、簡易な構成によって大型の平板状ワークを均一に加熱することが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理装置は、炉体12、循環ファン22、加熱ヒータ20、耐熱フィルタ14、および熱風整流板16を備える。熱風整流板16は、耐熱フィルタ14とワーク18との間に配置される。熱風整流板16は、ワーク18の上面においては、第1の側面側からワークに供給される熱風の風量を、第2の側面側からワークに供給される熱風の風量よりも多くする一方で、同じワーク18の下面においては、第2の側面側からワーク18に供給される熱風の風量を、第1の側面側からワーク18に供給される熱風の風量よりも多くするようにする。 (もっと読む)


【課題】金属材料の浸炭処理においては、Cポテンシャルを好適に制御するためには熱処理室をスキャベンジングする多量のガスが必要であり、スキャベンジングによる損失を小さくする方法を提供する。
【解決手段】熱処理室2.1を備えた加熱室2及び焼き入れ室8を有する工業用炉1内で金属材料を熱処理するための方法に於いて、シールドガスをリサイクルするために、a)工業用炉の加熱室のための、構造的に又は機能的に熱処理室に関連して配置され、かつ触媒床3.1を備えた準備室3に於いて、二酸化炭素、酸素及び水蒸気を、反応ガスとして送り込まれた炭化水素と触媒反応させることにより、一酸化炭素及び水素に変換し、b)触媒床の触媒により、前記反応を加速させ、c)前記反応の後に、シールドガスを制御されたCポテンシャル状態とし、d)このようにして処理された前記シールドガスを、熱処理室から準備室に再循環させる。 (もっと読む)


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