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国際特許分類[G01B15/02]の内容

国際特許分類[G01B15/02]に分類される特許

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【課題】 磁気ヘッドなどに用いられる金属多層膜の構造評価に有効な、金属多層膜のX線反射率プロファイルの新しい解析法を提供する。
【解決手段】 金属多層膜のX線反射率プロファイルの解析のための各層の膜厚の初期値t1 i 〜t3 i として、蛍光X線測定から求めた各層の膜厚を用いるようにする。この初期値t1 i 〜t3 i としては、蛍光X線測定により得られた各層の付着量F1 〜F3 を各層の材料の理論密度ρ1 i 〜ρ3 i で割って算出した値を採用するのが有利である。 (もっと読む)


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