説明

国際特許分類[G01B15/04]の内容

国際特許分類[G01B15/04]に分類される特許

161 - 170 / 232


【課題】基板上に形成された形状の欠陥を良好な効率で検出する欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成された形状の欠陥を検査する欠陥検査方法であって、前記基板上の分割された複数の領域にそれぞれ形成される所定のパターンに対して、光学式方法で順次1次検査を行って当該複数の領域から2次検査を行う該領域を選択する第1の工程と、前記第1の工程で選択された前記領域に対して、電子線を用いた前記2次検査を行って前記欠陥を検出する第2の工程と、を有することを特徴とする欠陥検査方法。 (もっと読む)


【課題】 荷電粒子線顕微装置において、任意倍率における幾何歪みを高精度に測定し、補正する。
【解決手段】 周期構造を持つ標準試料を基準にした絶対歪みとして第1の倍率における幾何歪みを測定する。幾何歪み測定済の第1の倍率と、幾何歪み未測定の第2の倍率で微細構造試料を撮影する。第1の倍率の画像を第2の倍率まで等方的に伸縮した伸縮画像を生成する。第2の倍率における幾何歪みを、伸縮画像を基準とした相対歪みとして測定する。第1の倍率における絶対歪みと第2の倍率における相対歪みから 、第2の倍率における絶対歪みを求める。以後、第2の倍率を第1の倍率に置き換えて相対歪み測定を繰り返すことにより、任意倍率における幾何歪みを測定し、補正する。 (もっと読む)


【課題】外観検査において、全体の欠陥捕捉率を高く維持しながら虚報を抑制することにより実質感度を向上する技術を提供することにある。
【解決手段】外観検査において、予備検査を行って、欠陥候補の検出と同時に少なくとも1ダイ分の画像情報(背景情報)を取得し、該取得した画像情報と検出された欠陥候補のダイ内座標位置情報を重ねて表示し、それらの情報(背景の類似と欠陥候補の密集状態)を基に虚報のグループを推定して非検査領域あるいは感度低下領域を設定することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】特に半導体欠陥レビュー装置において、検索基準となる画像に対する類似画像を、簡単かつ高速に検索し、類似度順に出力する。
【解決手段】画像に付帯する情報、例えば、取得日時、取得条件、画像以外の情報を解析した結果、ユーザによるコメントなどを、テキスト情報として画像と対応させて保存する機能を有し、これら付帯情報のキーワード検索により類似画像候補を限定した後、画像の特徴量に基づき検索基準画像に対する類似度を算出し、類似度順に検索結果を出力する。 (もっと読む)


【課題】微細ラインパターン上のエッジラフネスのうち、デバイスの作成上あるいは材料
やプロセスの解析上特に評価が必要となる空間周波数の成分を抽出し、指標で表す。
【解決手段】エッジラフネスのデータは十分長い領域に渡って取得し、パワースペクトル
上で操作者が設定した空間周波数領域に対応する成分を積算し、測長SEM上で表示する。
または、十分長い領域のエッジラフネスデータを分割し、統計処理と理論計算によるフィ
ッティングを行って、任意の検査領域に対応する長周期ラフネスと短周期ラフネスを算出
し測長SEM上で表示する。 (もっと読む)


【課題】
従来の中性子トモグラフィ技術では、金属製容器内の水を直接観察でき、且つその3次元計測も可能であるが、この計測は時間に関する平均量についてのものであるので、対象物質の時間変化が分からず、又そのため時間変化量である速度やその時間変化等の時間変化量が計測できない。
【解決手段】
本発明は、時間平均値である3次元計測データに時間変化を加えた4次元計測データを得るための方法及び装置に関するものであり、前記4次元計測とは、3次元の瞬時値の時間差分から速度等時間変化量を計測するものである。この4次元データを得るために、本発明においては、(1)中性子ビームの散乱現象に着目してビームを複数化し、更に高速中性子を有効利用して熱中性子を増幅する、(2)ビデオカメラで複数の中性子ラジオグラフィ投影像の同時記録をすることが行なわれる。 (もっと読む)


【課題】物品の質量検査と形状検査とを同一装置内で実現可能なX線検査装置を得る。
【解決手段】質量推定部40は、X線検出部8によって検出された透過X線のX線量に基づいて検査対象物12の質量を推定する。質量判定部41は、質量推定部40から入力されたデータS1に基づいて検査対象物12の質量の正常/異常を判定する。画像作成部42は、X線検出部8によって検出された透過X線のX線量に基づいてX線透過画像を作成する。形状判定部43は、検査対象物12の形状の正常/異常を判定する。不良判定部44は、質量判定部41及び形状判定部43による各判定結果の少なくとも一方が異常である場合に、検査対象物12が不良品であると判定する。 (もっと読む)


【課題】装置を大気開放すること無しに、簡便にマスクを検査することができる電子ビーム露光装置、及び電子ビーム露光装置用マスクの検査方法を提供すること。
【解決手段】
ブロックパターン8aの形状に電子ビームEBを整形するブロックマスク8と、複数のブロックパターン8aのうちの一つに電子ビームEBを偏向する偏向器13、14と、ブロックパターン8aを通った電子ビームEBをウエハ26表面に結像させるレンズ系21と、レンズ系21を通った電子ビームEBの電流値を測定する電流計27aと、上記電流値をブロックパターン8aの開口面積で割ることにより電子ビームEBの電流密度を算出し、更に該電流密度が基準値の許容範囲を超えているかどうかを調べ、超えている場合にブロックパターン8aに異常があると判断する制御部30とを有する電子ビーム露光装置による。 (もっと読む)


【課題】製品の3次元的内外面形状を測定し、測定したデータから設計、製造に必要なCADデータを作成し、製品を再現化する3次元形状測定方法および3次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る3次元形状測定方法は、対象物の表面形状および内部形状のそれぞれを撮像し(St−1、St−2)、撮像した内部形状を点群データに変換し、変換した点群データを基準マーカを基点に重ね合わせて合成する内部形状合成工程(St−3)と、撮像した表面形状を点群データに変換し、変換した点群データを基準マーカを基点に重ね合わせて合成する表面形状合成工程(St−4)と、前記内部形状合成工程(St−3)で作成した内部形状合成点群データと前記表面形状合成工程(St−4)で作成した表面形状合成点群データとを合成して一体化する内部表面データ合成工程(St−5)と、この内部表面データ合成工程(St−5)で作成したデータをCADデータに変換する3次元形状変換工程(St−6)とを備える。 (もっと読む)


【課題】本発明は、パターン照合方法およびパターン照合装置に関し、平坦試料上で電子光学系の焦点深度を超えた歪みがある場合などに再フォーカス合わせによる電子光学系のパラメータの変化による影響を受けることなく平坦試料の全面に渡って高精度にパターンマッチングしてパターンの位置およびパターン測長を正確に行うことを目的とする。
【解決手段】フォーカスしたときの焦点位置Z0を取得して記憶するステップと、フォーカスしたときの焦点位置Z1を取得するステップと、焦点位置Z0と焦点位置Z1との差ΔZをもとに、テーブルを参照して回転量ΔR1および拡縮倍率ΔM1を算出するステップと、回転量ΔR1および拡縮倍率ΔM1した設計データパターンを生成するステップと、生成した設計データパターンと、他の場所にフォーカスして取得した画像上のパターンとを照合し、パターンの位置および寸法のうちの必要なものを測長するステップとを有する。 (もっと読む)


161 - 170 / 232