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国際特許分類[G01C3/08]の内容

国際特許分類[G01C3/08]に分類される特許

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【課題】 出力飽和を抑制しつつ、正確な測距が可能な測距装置を提供する。
【解決手段】 測距装置は、変調した光を対象物Hに照射し、対象物Hで反射された光の入射に応答して発生したキャリアを時分割で振り分け、振り分けられたキャリアの電荷量に基づいて、対象物Hまでの距離dを求める測距装置において、振り分けられたキャリアをそれぞれ蓄積する複数のキャパシタC1b,C2bと、キャパシタC1b,C2bに蓄積されたキャリアの電荷量に対応する出力電圧VOUT1,VOUT2のいずれかが、閾値Vthを超えたかどうかを判定する比較器COMP1,COMP2と、出力電圧VOUT1,VOUT2のいずれかが、閾値Vthを超えた旨を、比較器COMP1,COMP2が示す場合には、それぞれのキャパシタC1b,C2bの入力側端子P1,P3を、それぞれのキャパシタC1b,C2bの蓄積電荷量が減少するよう、一定電位Vに接続するスイッチQa,Qbを備えている。 (もっと読む)


【課題】 正確な測距を行うことが可能な測距センサ及び測距装置を提供する。
【解決手段】 光感応領域1G内でイオン化された不純物によるポテンシャルφPGと、第1及び第2半導体領域FD1、FD2内でイオン化された不純物によるポテンシャルφFD1,φFD2の差は、光感応領域と第1及び第2半導体領域で導電型が異なるので、これらの導電型が同一の場合よりも、大きくなる。このようにポテンシャルの差がある状態で、光感応領域1Gの導電型を半導体基板1A,1A’と同一のP型とし、その不純物濃度を低下させると、光感応領域1Gにおけるポテンシャルの横方向分布が、一方向のみに傾斜しやすくなる。光感応領域1G内で発生したキャリアが第1半導体領域FD1及び第2半導体領域FD2内に確実に流れ込みやすくなり、光感応領域1G内におけるキャリアの残留を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】 出力飽和を抑制しつつ、正確な測距が可能な測距装置を提供する。
【解決手段】 複数のキャパシタC1b,C2bは、それぞれ半導体領域FD1、FD2に振り分けられたキャリアをそれぞれ蓄積している。また、判定手段としての比較器COMP1,COMP2及び論理積回路ANDは、キャパシタC1b,C2bに蓄積されたキャリアの電荷量に対応する値(出力電圧VOUT1,VOUT2)が、全て閾値Vthを超えたかどうかを判定している。キャパシタC1b,C2bに蓄積されたキャリアの電荷量に対応する値(出力電圧VOUT1,VOUT2)が、全て閾値Vthを超えた旨を、判定手段が示す場合には、減算手段としてのスイッチSW1a,SW2a及び電荷引き抜き用キャパシタC1a,C2aは、それぞれのキャパシタC1b,C2bに蓄積されたキャリアの電荷量から、一定の電荷量を減じている。 (もっと読む)


【課題】被写体までの距離の計測の精度が悪くなるのを抑制することが可能なセンサを提供する。
【解決手段】このセンサ100は、LED2から照射されて被写体により反射された反射光を検出することにより被写体までの距離を計測するための画素42を備え、画素42は、画素42に蓄積される信号電荷を衝突電離させて増加するための高電界領域422aを含む。 (もっと読む)


【課題】測距対象物までの距離に比例する出力が正確に得られる位置検出誤差の少ない位置検出用受光素子を提供する。
【解決手段】N型基板1と、N型基板1表面に形成されたP型抵抗層8と、P型抵抗層8の両端側にそれぞれ接続された2つの第1アノ−ド電極4と第2アノ−ド電極5とを備える。N型基板1とP型抵抗層8とから受光部9を構成し、受光部9に入射する入射光位置に応じた光電流が第1アノ−ド電極4と第2アノ−ド電極5から出力される。P型抵抗層8は、第2アノ−ド電極5から第1アノ−ド電極4に向かって不純物濃度が高くなるよう配置された5個の異なる不純物濃度の抵抗部8a〜8eからなり、抵抗部8a〜8eの隣り合う境界部分は、不純物濃度の高い側の抵抗部の不純物濃度以下で、かつ、不純物濃度の低い側の抵抗部の不純物濃度以上である。 (もっと読む)


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