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国際特許分類[G01L1/25]の内容

物理学 (1,541,580) | 測定;試験 (294,940) | 力,応力,トルク,仕事,機械的動力,機械的効率,または流体圧力の測定 (8,098) | 力または応力の測定一般 (1,407) | 波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子,を使用するもの (7)

国際特許分類[G01L1/25]に分類される特許

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【課題】 測定対象物のX線による回折環の形状が不連続の状態で検出されていても、測定対象物の残留応力を精度よく検出できるようにする。
【解決手段】 コントローラCT内に、残留応力の変化に応じて変化する複数の比較回折環の形状を表す回折環形状データ群を残留応力に対応させてそれぞれ記憶しておく。コントローラCTは、測定対象物のX線による回折環の形状を検出し、前記記憶されている回折環形状データ群によって表される複数の比較回折環の形状に対する、前記検出された測定対象物の回折環の形状の一致度合いをそれぞれ計算する。そして、コントローラCTは、前記記憶されている残留応力と、前記計算された一致度合いとの関係に基づいて、前記検出された測定対象物の回折環の形状に最も近い形状の比較回折環に対応した残留応力を測定対象物の残留応力として計算する。 (もっと読む)


【課題】母材の薄板を剪断したとき、母材から分割して形成された剪断後の薄板で、剪断された端面部に生じた残留応力とその分布を高精度に測定することができる薄板の残留応力測定方法を提供する。
【解決手段】母材珪素鋼板20を挟み込み、打ち抜き加工で剪断し、母材珪素鋼板20から分割された鋼板成形品21に生じた残留応力を測定する珪素鋼板の残留応力測定方法において、鋼板成形品21の剪断端面部23の向きと位置とを揃え、隣り合う鋼板成形品21同士を重ね合わせて、所定数を満たす複数の鋼板成形品21を積層した珪素鋼板積層体10を形成すること、珪素鋼板積層体10のうち、複数の剪断端面部23が配置された珪素鋼板積層体端部11の残留応力測定範囲11Aに、X線応力測定法で必要な計測範囲Mを設定し、X線応力測定装置50により剪断端面部23に生じた残留応力を測定する。 (もっと読む)


【課題】比較的大きな試料であっても、その試料全域において、金属組織レベルで金属材料の残留応力分布を、簡易的に、精度よく測定する方法を提供する。
【解決手段】金属材料の後方散乱電子回折像から結晶方位分布を取得するステップS1と、結晶方位分布から隣接格子点間の格子ひずみを算出するステップS2と、結晶方位分布における方位差で示す転位密度から塑性ひずみを算出するステップS3と、格子ひずみと塑性ひずみの差分から弾性ひずみを算出するステップS4と、金属材料に所定の荷重を負荷して塑性変形させた後、塑性変形後の金属材料について、再度ステップS1〜ステップS4を実行し、かつ、塑性変形後の金属材料表面の座標変位を測定するステップS5と、座標変位から塑性変形前後の座標を対応させて、塑性変形前の残留応力成分と塑性変形後の残留応力成分との差分を求めるステップS6とにより金属材料の残留応力を測定する。 (もっと読む)


【課題】測定対象物へのX線の照射密度を高めた場合にも、バックグラウンドとなる蛍光X線に影響されることなく回折X線のピークを正確に判別することができるX線応力測定装置を提供する。
【解決手段】金属試料表面にX線を照射するX線照射手段と、金属試料表面から発せられる回折X線を検出するX線検出手段と、回折X線の波長変化から金属の応力を演算する演算手段とを備えたX線応力測定装置において、X線検出手段と金属試料表面との間にTiフィルタとCl化合物フィルタとを備えたことを特徴とする。なおTiとCl化合物とを含有するフィルタを用いてもよい。TiフィルタはFeの蛍光X線を低減させ、Cl化合物フィルタはTiの蛍光X線を低減させる。 (もっと読む)


【課題】パッケージ内に実装された半導体チップの反り応力を、パッケージを破壊することなくX線を用いて測定する方法と装置およびプログラム等を提供する。
【解決手段】単結晶基板をパッケージ材料で封止した部品にX線を照射し、前記単結晶基板からの回折X線を前記パッケージ材料越しに検出し、前記検出ステップの結果を用いて前記単結晶基板の応力を求める。 (もっと読む)


捕獲粒子に作用する光学力を測定するための装置および方法。一実施形態では、本装置および方法は、顕微鏡の上または内部に配置されたチャンバの入口面と出口面の間において、単一の光ビームを用いて浮遊媒体中に浮遊する粒子を捕獲するように構成された光学顕微鏡の光学列中で使用することができる。この装置および方法は単一の収集レンズ系を使用し、この収集レンズ系は、チャンバ中に粒子を浮遊させるための浮遊媒体の屈折率以上の開口数を有し、浮遊チャンバの出口面近傍またはこの出口面と接触させて設置することができる。光検知デバイスは、収集レンズの後焦点面内または後焦点面の近くに配置されるか、あるいは後焦点面の光学等価物に配置され、収集レンズによって光検知デバイスの上に投影された光分布の重心のx座標とy座標から導出される、前記粒子に作用する光学力の測定値を直接または間接に生成することができる。
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【課題】測定ヘッド下の検出器以外、クレードル(円弧)又はその他の構造体がなく、測定距離は、ソフトウェアにより自由に選択可能であり、ほとんどの部品が購入できるくらいに簡易な設計のため、複雑、不正確、さらにコスト高な構造を避けることができるゴニオメータを提供する。
【解決の手段】ゴニオメータ(1)は、応力測定及び粒子の微細構造の特定を行い、フレーム(4)と、測定位置(31)において測定を実行するため、第1の線形移動装置(5)、第2の線形移動装置(6)及び傾動装置(16)により移動可能にフレーム(4)に設けられた測定ヘッド(7,8,9,10)とを備え、傾動装置(16)の回転軸(12)が測定位置(31)に一致せず、測定中に、前記移動装置(5,6,16)により、測定ヘッド(7,8,9,10)の円弧形(30)の移動を作り出す手段を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


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