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国際特許分類[G01N21/55]の内容

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国際特許分類[G01N21/55]に分類される特許

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【課題】分析する試料に含まれる抗原や抗体を高い精度での検出を可能とする。
【解決手段】ディスク面におけるグルーブ107およびランド108からなる溝構造またはピット109が設けられた構造を有するトラック領域105に固定化された、生体高分子が結合している標識用ビーズ110を、光学的読み取り手段によって数量を計測するための試料分析用ディスク100において、標識用ビーズ110の直径が、グルーブ107またはピット109の幅より小さく且つグルーブ107またはピット109の幅方向に標識用ビーズ110が1個のみ配置される大きさである。 (もっと読む)


【課題】光検出手段としてフォトダイオードやフォトトランジスタを用い、光検出手段と電極間とのインピーダンスから、測定対象物の電気特定及び光特性を同時に測定する対象物検出装置を提供する。
【解決手段】測定対象物20の方向に対して光を照射するLED3aと、照射した光の反射光を受光して電気的な信号に変換するフォトダイオード3bと、フォトダイオード3bに並列に接続し、所定の間隔で離隔配設される1対の電極2a,2bと、フォトダイオード3a及び電極2a,2bに接続する交流電源と、並列に接続されるフォトダイオード3a及び電極2a,2b間のインピーダンスを測定するインピーダンス測定部42と、測定対象物20の電気特性及び光特性に関する情報を予め記憶する対象情報記憶部45と、測定したインピーダンスの値と、記憶されている測定対象物20に関する情報とから、測定対象物20の材質及び/又は接近距離を判別する対象物判別部43とを備える。 (もっと読む)


【課題】濃度センサの取り付け誤差の影響を正反射成分及び乱反射成分の2つに分けて取り除けるようにすると共に、画像の濃度を高精度に検知できるようにする。
【解決手段】ベルト素面に測定光L0を照射して正反射成分の反射光Lp及び乱反射成分の反射光Lsを受光し、反射光Lp,Lsを各々光電変換して2成分のP波検知信号Sp及びS波検知信号Ssを出力する濃度センサ71と、ベルト素面と濃度センサ71の取り付け面との間の離隔距離を測定して測距検知信号S82を出力する測距センサ82と、この測距検知信号S82に基づいてベルト素面に対する濃度センサ71の取り付け誤差を算出し、ベルト素面の濃度値に対する濃度検知電圧をプロットした正反射及び乱反射成分の電圧検知特性を各々作成する演算部707とを備える。濃度センサ71の取り付け誤差に基づいて各々の電圧検知特性を補正し、第1及び第2のオフセット除去特性を作成するものである。 (もっと読む)


【課題】印刷物に対してブロンジングの程度を定量的に示す指標値を算出するブロンジング指標値算出方法を提供する。
【解決手段】印刷物に対して拡散反射での測色値の色相角と正反射での測色値の色相角の差分を算出する差分算出工程と、観察光源での基準彩度と前記観察光源下における正反射での前記印刷物の測色値の彩度との差分を算出する彩度差算出工程と、前記算出された色相角の差分と前記彩度の差分とを乗算した値をもとにブロンジング指標値を算出する指標値算出工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、試料面上の光沢ムラ特性を評価できる鏡面反射光分布測定方法および装置を提供することである。本発明により、鏡面反射光分布の測定を可能とし、鏡面反射光の試料面上のムラの測定方法を提供する。
【解決手段】照明光を試料に入射する工程と、試料の表面をあおり光学系により測定する工程とを含み、照明光を試料に入射する光軸の角度と、試料の表面を測定する光軸の角度が試料の法線に対して鏡面反射の関係となることを特徴とする試料の鏡面反射光分布測定方法。 (もっと読む)


【課題】高コスト化及び大型化を招くことなく、対象物を従来よりも細かく特定することができる光学センサを提供する。
【解決手段】 光源11、コリメートレンズ12、受光器13、偏光フィルタ14、受光器15、及びこれらが収納される暗箱などを有している。そして、受光器13は、内部拡散反射光に含まれるP偏光成分を受光し、受光器15は、表面正反射光を主として受光するように配置されている。この場合は、受光器13の出力信号と、受光器15の出力信号とから、記録紙の銘柄を特定することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】検出の際のS/N比を向上させることができる生体材料標識用の担体を提供する。
【解決手段】本発明にかかる生体材料標識用の担体11、12、13は、光を鏡面反射する反射面mを有し、反射面mが、当該光の波長を直径とする円を包含する形状の平面である。 (もっと読む)


【課題】基板表面に形成した薄膜の物性を非破壊かつ高精度で測定することができる物性測定装置、物性測定方法、薄膜基板製造システム及びプログラムを提供する。
【解決手段】基板K表面に形成された薄膜Hの物性を測定する物性測定装置において、テラヘルツ波を発生するテラヘルツ波発生源と、基板K表面に薄膜Hが形成された成膜領域F及び該基板K表面に薄膜Hが形成されていない非成膜領域Nに、テラヘルツ波発生源からのテラヘルツ波が照射されるように、基板K及び薄膜Hを移動する移動手段と、成膜領域F及び非成膜領域Nからの透過波又は反射波の電場強度を複数回検出する検出手段と、検出手段が複数回検出した透過波又は反射波の電場強度を積算する積算手段と、積算手段が積算した透過波又は反射波の電場強度の時間変化を測定する測定手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】測定誤差が少なく入射角が小さくても測定できる絶対反射測定装置を提供する。
【解決手段】光源11と、この光源11から出射する光束を測定光束12Aとして出射する光学系12と、該測定光束12Aを回転可能に載置された試料Sに照射しその反射光10Aがミラー14を介して導入される移動可能に支持された積分球13aと、該積分球13a内に配設された光電変換器13bなどからなる構造を有する。前記ミラー14は、積分球13aと光電変換器13bで構成される検出器13を保持する支持台16に支持される凹面鏡で構成されており前記試料Sの反射面と測定光束12Aの中心との交点を中心とする円周上の所定範囲を移動可能である。反射光10Aに対してミラー14の角度θ1が変動してもミラー14は凹面鏡であり入射角度の変動は軽減され鏡面反射率の変動は少ない。 (もっと読む)


【課題】ミラー面の傾きが変更可能なミラーシステムの偏向特性を短時間かつ高精度に測定できるようにする。
【解決手段】ミラー面に測定光を照射する測定用光源14と、測定用光源14から照射された測定光がミラー面で反射された光を反射する凹面形状の投射面20a−1を備えた凹面投射部20−1と、凹面投射部20−1の投射面において反射された光を受光する受光部191と、受光部191が受光した光を元にミラーシステムの特性を測定する測定部104とをそなえる。 (もっと読む)


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